GaAs、GaAlAs晶片的化学择优腐蚀

本文在总结实验的基础上,给出了化学腐蚀的选择原则。并针对化学腐蚀中较重要的晶向择优和异质择优腐蚀,借助大量的曲线和照片,就 GaAs、GaAlAs材料做了讨论。最后,简单介绍了一下它们的应用。     

异质结光电器件的液相外延生长

自60年代以来,在Ⅲ-Ⅴ族化合物衬底上利用液相外延(LPE)生长工艺已经研制和生产了许多半导体光电器件。采用异质结的器件在其中占有极其重要的作用。这些器件包括发光管、激光器、探测器、太阳能电池、半导体光阴极以及化合物光电集成等等。本文将就LPE生长的原理、方法、装置以及生长质量等问题进行一些简述。一、前言制作光电器件选择哪类异质结的依据:1.有源层要满足合适的带隙,以便发射和吸收合适波长的光。波长与带隙的关系为2.异质结两侧材料的晶格常数必须尽量接近,才能得到匹配完整的异质结,以减少由失配位错引起的复合中心或散射中     

全内反射型半导体光波导开关器件模型分析

本文提出了一种简便可行的全内反射交叉型半导体光波导开关模型分析方法。该方法采用波动光学的原理,分析了全内反射型(TIR)开关中导波模式的传输和反射特性,采用反射率和透射率计算了开关的消光比、串话、损耗等性能与波导结构参数之间的关系,并考虑了波导吸收系数对开关性能的影响。对全内反射条件下Coos-Haenchen位移也做了讨论。     

半导体光开关工作电流和速率的理论分析

本文从载流子连续性方程出发，采用半导体双异质结概念，从理论上推出了计算半导体光波导开关工作电流和速率的理论公式，为器件选取工作电流和提高开关速率提供了理论依据．     

(GaAl)As/GaAs质子轰击隔离条形DH激光器的退化原因

对研制的(GaAl)As/GaAs质子轰击隔离条形DH激光器的退化原因进行了实验分析。结果表明:快退化主要起因于有源区内的暗点、暗线及暗区等缺陷的增殖;腔面氧化是限制寿命在千小时的原因之一;质子轰击引入的点缺陷移入有源区是器件限制寿命在万小时的原因之一。     

电流注入块状GaAs和GaAs膜近红外光学常数变化实验研究

电流注入块状ＧａＡｓ和ＧａＡｓ膜近红外光学常数变化实验研究王德煌，王威礼（北京大学物理系，集成光电子学国家重点联合实验室半导体所区，北京１００８７１）庄婉如，段树坤（北京集成光电子学国家重点联合实验室半导体所区，北京１０００８３）ＧａＡｓ是半导体光电...     

D_2~ 轰击隔离条形(GaAl)As/GaAs双异质结构激光器

在室温至600℃退火D_2~ 轰击过的GaAs单晶片,只要退火温度低于200℃,得到的电阻率可达(1～2)×10~8欧姆·厘米。用D_2~ 轰击(GaAl)As/GaAs双异质结构片,制成的隔离条形激光器,近场、光谱、频率响应及退火等特性都与H~ 轰击激光器差不多。     

GaAlAs/GaAs DH 激光器的L-I特性

对所研制的质子轰击条形GaAlAs/GaAs DH激光器的L-Ⅰ特性及其随温度的变化进行了测量。研究了L-Ⅰ特性随考验时间的变化。个别激光器考验已超过10~4小时,仍可保持正常激射。部分激光器的L-Ⅰ特性出现了扭折,研究了这种扭折附近的近场光强分布及发射光谱。基于实事实,提出了一种有源区Al含量横向不均匀分布的物理模型,可定性地解释扭折的产生。     

(AlGa)As/GaAs DH激光器低温负阻的研究

在室温至 77K范围内测量了 AlGaAs/GaAs DH激光器的正向伏安特性.发现有些激光器在低温下具有负阻的特性. 采用类 Schottky模型对DH激光器中的N-Al_(0.3)Ga_(0.7)As/n-GaAs异质结的电流传输特性进行分析,认为负阻现象是由于N型(AlGa)As层掺杂浓度偏低,N-n异质结在低温DH激光器正向偏置较大时,电子从n区隧道击穿N-n异质结势垒,或空穴从P型有源区注入N区引起的.此外N-AlGaAs层的施主杂质Sn的电离能很大也对低温负阻有贡献.     

国内膨润土降阻剂近年研究进展简介

膨润土长效防腐降阻剂自1981年研究成功以来曾有三次改进。最近提供的金陵Ⅲ号在抗干旱和耐冲击电流的性能方面有了明显改进,从而进一步保证了降阻剂的长效性与可用性。本文还介绍了近年来膨润土降阻剂用于国内500kV变电所发电厂和其他工程的经验,并提出今后使用降阻剂应注意的事项。