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刘媛娜 《电子工业专用设备》2006,35(11):19-23
在半导体业中,对生产作业环境要求极为严格,其中对AMC(AirborneMolecularContami-nation)有更严格的控制要求。SO2和NH3属于AMC中的2种,即MA(分子酸)和MB(分子碱)。主要讨论洁净室中NH3和SO2的含量对晶圆和光罩的影响,以及采取各种有效措施对其进行控制,满足先进制程对于产品生产的超高空气品质要求。 相似文献
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