快速氧化生长超薄硅氧化层的变入射角椭圆偏振研究

采用多角度椭圆偏振光谱测量，并结合一定的数值计算方法，首次同时精确测出了多种工艺条件下由快速热氧化法生长的超薄氧化层厚度与折射率，对该方法生长的氧化层厚度与氧化时间平方根的关系进行了研究并计算了氧化生长速率的温度激活能，同时也对薄氧化层折射率与氧化层厚度的关系进行了探讨．     

金膜光学常数的椭圆偏振光谱测量精度研究

为了利用可变入射角椭圆偏振光谱仪最佳地测出固体材料的光学常数,我们特别对金膜从理论和实验两方面研究了不同入射波长下入射角的选取对光学常数测量精度的影响,发现对不同的入射波长,在相应的主角下测出的光学常数具有最高的精度,主入射角下测量最佳条件对其它固体材料光学常数的测量同样适用。