电压对微弧氧化膜抑制7050铝合金氢脆敏感性的影响

为进一步探究微弧氧化膜和7050铝合金的氢脆敏感性之间的关系,采用了湿空气中的慢应变速率拉伸、拉伸断口形貌分析、微弧氧化试样表面形貌分析及氢含量测试等表征手段,验证了微弧氧化膜抑制7050铝合金在湿空气中发生氢脆的机制。结果表明,不同微弧氧化电压下制备的膜层对7050铝合金具有不同的抑制氢脆效果,抑制机制主要由膜阻氢进入试样和膜致附加压应力两个方面组成。     

自动加矾控制系统设计和运行

介绍了自动加矾控制系统在厦门安兜水厂的应用情况和运行处理效果     

拉应力条件下微弧氧化膜对铝合金腐蚀及电化学行为的影响

为研究在拉应力条件下微弧氧化膜对铝合金腐蚀及电化学行为的影响,采用恒载荷应力环在3.5% NaCl溶液中研究了经微弧氧化（MAO）处理后的7050铝合金（AA7050）应力腐蚀行为。用原位电化学阻抗谱（EIS）的方法评价在拉应力条件下,膜层的腐蚀破坏随浸泡时间的变化,并建立了相应的等效电路模型。结果表明,在3.5% NaCl溶液中,微弧氧化膜在有无拉应力的条件下都可以提高AA7050的耐蚀性和减少AA7050的塑性损失。在400 MPa拉应力条件下,微弧氧化膜的阻抗在应力腐蚀的过程中呈现出先减小后增大,再减小最后趋于稳定的规律;另外,AA7050在有拉应力的条件下,拉应力会促进基体的点蚀形核,提高腐蚀速率,微弧氧化膜的疏松层在拉应力的作用下会失去对基体的保护作用。     

恒载荷下的微弧氧化后7050铝合金在不同pH值NaCl溶液中的腐蚀行为

目的研究pH值对恒载荷下微弧氧化后铝合金腐蚀行为和耐蚀性的影响。方法采用恒载荷应力环,研究微弧氧化后的7050铝合金(AA7050)在不同pH值3.5%NaCl溶液中的腐蚀行为。采用动电位极化曲线和原位电化学阻抗谱(EIS),评价pH值对恒载荷下的微弧氧化后AA7050耐蚀性的影响,以及在不同pH值的3.5%NaCl溶液中膜层的腐蚀过程,并建立相应的等效电路模型。结果恒载荷试验结束后,在pH=7的溶液中,试样表面的微弧氧化膜基本完整,表面覆盖一层腐蚀产物;在pH=3的溶液中,试样表面膜层部分被腐蚀;在pH=13的溶液中,试样表面膜层已经完全脱落。腐蚀初期,在pH为3、7和13的溶液中,试样的低频阻抗模值分别为35 000、90 000、500Ω·cm~2,其腐蚀电位分别为–1.41、–1.43、–1.46 V,腐蚀电流密度分别为2.85×10~(–5)、9.17×10~(–6)、1.75×10~(–4) A/cm~2。恒载荷实验后,在pH为3、7和13的溶液中,试样的伸长率分别为3.41%、3.98%、1.63%。结论溶液的pH值对恒载荷下微弧氧化后AA7050的耐蚀性和塑性产生了显著的影响。在pH=7的溶液中,微弧氧化铝合金的耐蚀性和塑性最好,在pH=3的溶液中次之,在pH=13的溶液中最差。根据试样的EIS,整个腐蚀阶段被分为腐蚀初期、中期、后期三个阶段。腐蚀初期,在不同pH的溶液中,微弧氧化试样的耐腐蚀性先降低后提高。腐蚀中期,耐蚀性先下降后稳定,在pH=13的3.5%NaCl溶液中,试样膜层完全剥落。腐蚀后期,在不同pH的溶液中,微弧氧化试样的耐蚀性再次下降。     

石墨烯对7050高强铝合金微弧氧化陶瓷膜层组织性能的影响

为解决7050高强铝合金在海洋环境中的腐蚀、磨损问题,设计了涂层结构以延长其使用寿命。采用微弧氧化（MAO）技术,以硅酸盐为主要电解液成分,通过加入不同浓度的石墨烯添加剂,在7050高强铝合金表面制备含石墨烯的陶瓷膜层。利用扫描电镜（SEM）、体视显微镜、X射线衍射仪（XRD）、X射线光电子能谱仪（XPS）、涂层附着力自动划痕仪以及电化学工作站,研究含石墨烯的MAO陶瓷膜层形貌、粗糙度、相组成和元素分布、结合力以及耐蚀性。结果表明：石墨烯添加剂的加入使得陶瓷膜层表面微孔尺寸降低、结构致密,且主要是由α-Al₂O₃、γ-Al₂O₃组成;当石墨烯添加剂浓度为10 g/L时,MAO陶瓷膜层粗糙度最低,为857.835 nm,且结合力最好,达到46 N;膜 层的腐蚀电位最大,腐蚀电流最小,耐腐蚀性最好。     

稀土铈掺杂石墨烯对7050铝合金微弧氧化膜层结构与性能的影响

采用微弧氧化(MAO)技术,以硅酸盐为主要电解液成分,通过加入稀土元素铈以及石墨烯添加剂,在7050高强铝合金表面制备微弧氧化膜层。利用扫描电镜(SEM)、体视显微镜、X射线衍射仪(XRD)、摩擦磨损试验机以及电化学工作站研究微弧氧化陶瓷膜层的形貌、粗糙度、相组成和元素分布以及耐磨性和耐蚀性。结果表明:同时加入4 g/L CeO2和10 g/L的石墨烯制备的复合膜层表面微孔尺寸明显降低,结构致密,耐磨性较好,粗糙度最低(1516.03 nm),膜层主要由α-Al2O3和γ-Al2O3组成。且此时的复合膜层自腐蚀电位最大,自腐蚀电流最小,耐腐蚀性最佳。