自然重砂数据处理流程及辅助工具开发

在自然重砂数据处理过程中,GIS是重要的常用工具之一,本文结合专业领域内数据处理需求和信息领域内的GIS二次开发技术,提出了一种高效、便捷的数据处理方法,通过在MapGIS软件平台下开发GeoTools软件工具,实现对自然重砂数据中的异常点数、平均值、最大值等特征参数进行批量计算及属性赋值,辅助完成自然重砂异常初步分级工作,收到了较为理想的效果。GeoTools软件工具在青海省和山西省的自然重砂资料处理的过程中进行了实际运用,取得了很好的效果,提高了工作效率及资料处理的精度和质量。GeoTools软件工具也可在MapGIS平台下对相关的资料进行处理和数据统计。     

柿竹园里耕耘人——记全国优秀工会工作者、湖南柿竹园有色金属有限责任公司工会主席贺运华

这是中国有色金属界中的一朵奇葩，拥有的143种矿物使她享有了“世界有色金属博物馆”的美誉，这个中国地图吝啬得不肯给一个小点的弹丸之地，因她独一无二的矿产资源写进了地理课本，给更多的人熟读；因她独特的地理构造和有色金属的生成机理，被世界钨业协会确定为中国会议首选的参观考察地点。柿竹园这一名字超越了行业，超越了国界，被越来越多的人所阅读，所了解，所熟悉。     

拉曼光谱参数在不同成熟度煤显微组分分析中的应用

激光拉曼光谱在显微组分分析中已显示出良好的应用前景。对不同成熟度（R_o为0.49%～1.88%）煤样中的不同显微组分（镜质体、半丝质体、粗粒体）进行拉曼光谱分析后发现,不同显微组分的拉曼光谱参数存在明显差异,这在煤显微组分分析中有以下应用:（1）利用拉曼光谱参数组合可区分煤样中的显微组分,该研究中可区分的参数组合达21种,它们均可作为区分此类显微组分的参考标准;（2）可区分煤样中显微组分的参数组合中最关键的参数是峰位移W_D1,使用时需考虑热演化程度影响,这可能对下古生界处于高—过成熟阶段且光学性质逐渐趋同的显微组分差异研究提供帮助。因此拉曼光谱参数可作为显微组分分析的一种有效方法。      

衬底H等离子体预处理时间对微品硅薄膜生长的影响

本文采用VHF-PECVD技术制备了系列硅薄膜,通过椭圆偏振技术及拉曼测试手段研究了衬底表面预处理时间对微晶硅薄膜的微结构及其生长的影响.实验结果表明:随衬底预处理时间(0～10 min)的延长,薄膜的晶化率从14%提高到44%;薄膜表面的硅团簇尺寸减小,在衬底预处理10 min时,薄膜表面的粗糙度较小.在衬底未预处理与预处理10 min时,在相同的沉积参数下,沉积两系列不同生长阶段硅薄膜的生长指数接近.原因是H等离子体预处理使衬底表面的原子氢增多,有利于成膜先驱物在衬底表面的迁移,影响薄膜的初期成核,使薄膜易于晶化.     

高校典型室内空气中邻苯二甲酸酯的污染特征

为研究杭州市高校典型室内空气中14种邻苯二甲酸酯(PAEs)的污染特征以及对人体的健康风险,对高校师生主要活动场所(教室、宿舍、活动室和办公室)进行了气态和细颗粒态PAEs的空气采样与分析。结果表明,室内空气中气态PAEs浓度均显著大于细颗粒态,其中教室PAEs的平均浓度最高,气态和细颗粒态PAEs的平均浓度分别为21.0μg/m~3和1.31μg/m~3。相关性分析发现,PAEs浓度水平与温度和相对湿度均存在显著正相关。风险评估表明,高校师生在宿舍和教室中的暴露应予以重视。     

退火温度对氢掺杂AZO薄膜热稳定性的影响

利用直流磁控溅射方法低温沉积了氢掺杂AZO(H-AZO)薄膜,研究了不同退火温度下H-AZO薄膜的电学、结构和光学性能的变化。结果表明,300℃退火时,H-AZO薄膜的电阻率和光学带隙不变。而400℃退火时,薄膜电阻由4.7×10~(-4)升高到1.43×10~(-3)Ω·cm,并且光学带隙减小。由于300℃退火时H-AZO薄膜的热稳定性好,将其用作低温制备薄膜太阳电池的透明导电膜具有很好的发展潜力。     

中低速纸机流浆箱改造体会

本文通过对流浆箱改进的实例和对流浆箱浆料流力学特征的分析,论述了对中低速纸机流浆箱的改造能提高成纸质量和提高效率。     

湖北省金矿物自然重砂异常浅析

研究湖北省自然重砂数据及异常与区域金矿产之间的关系。通过对湖北省1：20万自然重砂测量数据的处理和研究,论述金矿物自然重砂及其异常的分布特征,探讨自然重砂异常点和地质构造的关系。依据金矿物自然重砂异常,结合地质成矿背景,推测湖北省内最值得重视的找金矿远景区有竹溪-兵营异常区南东段、鸦鹊岭-松滋异常带、宣化店-河口金异常带、大崎山异常带、上巴河-梅川异常带南东段、通城-方山异常区中段等。开展自然重砂成果资料应用研究,能为地质找矿及地质构造等研究提供自然重砂信息。     

浆流脉动的衰减

以岳阳造纸厂一号纸机改造为实例,从理论和实践上阐述了浆流脉动产生的原因、危害及衰减措施。重点介绍了浆流脉冲衰减器的设计原理和良好的使用效果。     

不同沉积速率微晶硅薄膜生长模式的蒙特卡洛模拟研究

采用标度理论比较了不同速率下微晶硅薄膜的生长模式。结果是:低速时薄膜的生长指数为0.19,高速时薄膜的生长指数为0.61,两者生长机理明显不同。通过蒙特卡洛模拟薄膜生长过程,结果表明:生长基元的粘附系数和扩散能力对不同生长速率下薄膜的生长有较大的影响。