半导体材料的激光化学气相淀积

半导体材料的激光化学气相淀积即光CVD(Pheto-Chemical Vaporous Deposition)是近几年发展起来的低温淀积技术。它具有淀积温度低、薄膜均匀、光电性能优良、选择性好和易于控制等特点。本文着重于介绍光CVD的原理、特点、工艺、设备及在氢化非晶硅、二氧化硅、氮化硅及其它半导体材料中的应用。     

电流互感器初始剩磁系数与稳态剩磁系数的研究

剩磁是影响电流互感器传变特性的关键因素,剩磁问题的研究对于保证电流互感器正常传变以满足控制、保护及计量要求有重要意义。针对铁心剩磁存在状态的问题,提出初始剩磁与稳态剩磁的概念,从磁畴运动角度分析剩磁的不同物理状态,并定义了初始剩磁系数与稳态剩磁系数。通过动模试验,测得不同电压等级下电流互感器饱和磁通、剩磁、剩磁系数的变化趋势。试验表明,初始剩磁系数与稳态剩磁系数相差较大,间接证明了电流互感器剩磁存在不同状态,对于厘清电流互感器暂态传变特性及其变化规律、研究剩磁作用对计量与保护控制系统的影响意义重大。