碳氮膜的沉积工艺及其结构研究

以氨气为反应气体,用真空阴极电弧沉积法制备了CNx膜,研究了工艺参数对膜层的沉积速率、化学成分的影响及膜层结合状态.结果表明:沉积速率随着氨气分压的提高而下降,当氨气分压达到6.7 Pa时将没有膜的沉积;CNx膜主要由碳和氮组成,降低真空系统的抽速、将反应气体导至靶面附近、提高氨气分压可以提高膜层中氮含量;氮是以化合态存在于膜层中.     

钛材离子氮化工艺对其组织结构和性能的影响

本文介绍钛材离子氮化工艺对其组织结构和性能的影响。合理选择离子氮化温度、气氛氮势和处理时间,能有效控制钛材氮化层中的化合物相的种类和相对含量。通过离子氮化处理,大幅度提高了钛材的表面硬度。耐磨性能和在还原性介质中的耐蚀性能,可使钛材在高度动负荷、摩擦力和强腐蚀介质三者同时存在的苛刻环境中长期使用。     

金属铟提高Cu-Al合金抗失泽能力机理的研究

本文采用常规腐蚀试验与电化学试验方法以及金相、X射线衍线、电子探针等分析方法研究了含铟的Cu-Al合金在人工汗液中抗失泽能力的机理。结果表明,铟能细化合金的晶粒,并使合金呈现均匀腐蚀,减弱合金的择优取向;合金中存在富铟偏析相,这些相影响合金的失泽行为。     

RF-PCVD低温沉积无色透明类金刚石保护膜的工艺研究

采用磁约束增强射频辉光放电等离子体辅助化学气相沉积法(RF-PCVD)低温沉积出无色透明的类金刚石保护膜(DLC),主要研究了炉压P0、射频功率Pf、自生负偏压Uz、磁感应强度B、电极间距d、反应气体、镀膜时间t等工艺参数对成膜的影响.试验结果表明,外加磁场B制约了带电粒子逃逸出电极空间,提高了反应气体的离化率及等离子体浓度和活性,并使非独立变量Pf和Uz成为独立变量,有利于工艺调节.当极间距大时,需适当提高Pf,Uz和C-H流量才可得到无色、较硬的DLC膜.在比功率密度大于0.009 W·cm-2·Pa-1、C-H浓度即体积分数0.9%～1.4%及膜厚小于90nm的条件下,可沉积出无色透明、硬度较高的DLC膜.     

金刚石和类金刚石膜研究及其在电声领域中的应用

金刚石和类金刚石膜是当今材料界的研究热点之一，有着极其诱人的应用前景。本文简要综述了该膜系的发展过程和现在水平。并结合作者自己的研究工作，对膜系应用于扬声器振膜上以提高其高频响应范围的研究和应用工作进行较全面的调研，综述了国内外在该领域的最新进展。     

用直流等离子化学气相沉积法在硬质合金上沉积氮化钛膜的研究

用直流等离子气相色沉法在硬质合金上沉积ＴｉＮ膜，研究了沉积工艺参数对膜层结构，膜层的成分，断口形貌和膜层硬度的影响，结果表明，在５００～７００℃温度范围内，可以沉积出单相的ＴｉＮ膜，膜层结构致密，硬度可达Ｈｖ２１５６０Ｎ／ｍｍ＾２，在５００片刀片炉量情况下，沉积室中不同部位的刀片均可得相同结构和优异性能的膜层，因此采用此沉积法实现批量化生产。     

Study of relationship between structure and transmittance of diamond-like carbon (DLC) films

1IntroductionArtificial synthesis of diamond and diamond-like carbon(DLC)have beenthe advanced andfocused re-search aspect in materials science for about twenty years.As a wear-resistant protective fil m,diamond-likecarbon fil m has extensive applications.Due to different matrix and service conditions,different requestswere proposed to properties and deposition conditions of diamond-like carbon.There has been many methods to prepare DLCfil m,however,most of DLCfil ms were not transpar-ent.…     

硬质合金刀具的类金刚石涂层的研究

采用优化的沉积类金刚石(DLC)涂层工艺及过渡层技术,在硬质合金上制备出性能优良的DLC膜.实验室切削试验与工业生产现场切削表明:在切削铝青铜和共晶铝硅合金时,DLC膜涂层刀具使用寿命明显高于末涂层刀具.     

CrTiAlCN多元多层梯度膜的制备及其结构

采用中频反应磁控溅射、离子束辅助方法沉积CrTiAlCN多元硬质薄膜,利用扫描电镜、俄歇电子谱、透射电镜及X射线衍射等技术对膜层的过渡层、界面及微观结构进行研究.结果表明:沉积制备的膜层为多层梯度过渡结构,成分深度分布及相结构分析证实,所制备的多元多层梯度膜与所设计的基体/Cr/CrN/CrTiAlN/ CrTiAlCN结构相吻合;在梯度过渡中,不同层之间界面体现为渐变过渡过程;沉积制备的多元多层梯度膜硬度高达26.31 GPa,膜/基结合力大于80 N,摩擦因数低至0.113,力学性能优良.     

WC/DLC纳米多层膜微观结构研究

阳极层流型气体离子源与非平衡磁控溅射复合技术沉积制备WC/DLC纳米多层膜,并在膜/基间设计了中间过渡层.用扫描电镜、拉曼光谱仪、光电子能谱仪、X衍射仪、透射电镜、干涉显微镜等,对WC/DLC纳米多层膜的微观形貌结构进行分析研究.结果表明:沉积的WC/DLC膜层表面致密、光滑细腻;多层调制周期在3～4 nn,多层界面不清晰,形成渐变过渡界面.WC/DLC膜中主要是sp2键中掺杂有一定量的sp3键,WC则以纳米晶结构弥散分布在DLC之中.