硒蛋白和过氧化氢酶清除羟自由基作用的研究

在甲基紫-Fe~(2+)-H_2O_2体系中,试验得到最佳测定条件:缓冲溶液用量为1.0 mL、甲基紫用量为3.5 mL、Fe~(2+)用量为3.0 mL和H_2O_2加样量为2.5 mL。采用紫外可见分光光度法研究富硒食用菌中硒蛋白和过氧化氢酶对羟自由基的清除作用。结果表明:硒蛋白清除羟自由基的能力明显高于相同浓度的无机硒和蛋白质,且清除率随着各自加入量的增加而相应增加;硒蛋白和过氧化氢酶对清除羟自由基具有一定的协同作用,为富硒食品的合理开发和利用提供了一定的参考依据。     

片式电阻激光微调过程中的调阻精度控制

提出了一种基于激光刻蚀路径的修调电阻精度控制方法。该方法通过动态确定L型调阻图形的横、纵向切割长度实现对调阻精度的控制。存保证阻值测量精度的条件下,应用该法在0．1Ω～100MΩ的薄膜电阻阻值进行修调,调阻精度可达到1％。     

激光的应用现状与发展趋势

激光是新一代光源,目前在许多领域得到了广泛应用。本文从激光的起源出发,介绍了激光的应用现状、激光技术及其应用的发展趋势,同时还介绍了目前国内现存的问题,并对进一步发展提供了相应的参考。     

激光调阻中切槽质量与影响因素的关联定位分析

在激光调阻中，切槽质量的评价主要包括清晰度、光滑度、平直度、垂直度和一致性等方面的内容，它们直接决定了生产片阻的品质与等级。为了得到优质切槽，掌握切槽质量与影响因素之间的关系，文章从两个角度进行分析。一是在复杂的光、机、电和计算机一体化的设备中，分析影响切槽质量的几个主要因素；二是重点分析并确定切槽质量与相关因素的对应关系。根据这些分析就可以在切槽质量发生不良时定性地得到原因并采取正确措施，无论是对调阻技术的改进还是在片阻生产中都具有重要的指导意义。     

微电子工业中的一种新型激光调修技术

新型激光调修技术与常规的CMOS处理方法完全兼容。用这种方法既可以调修模拟器件，也可以调修模拟和数字混合的微电子器件。该方法是用一束激光烧熔硅体，使两个p-n结二极管之间形成电连接而产生一个电阻器件。在自动设备系统中，1s内就可生产出这种激光扩散电阻，其阻值范围从100Ω到几MΩ，激光的重复调修过程可使电阻精度达到50ppm。用这种方法也可做出温度系数接近0的电阻。本文主要阐述生产这种电阻的方法、主要器件和有关处理方式的关键点。     

激光调阻机多档测量误差的软件自适应校正

为了减小激光调阻机测量系统的多档测量误差对阻值修调精度的影响,提出了一种基于有源单臂电桥测量原理自适应地校正激光调阻机多档测量误差的方法.通过测量和标定高精度标准电阻的测量误差,自适应地获取校正激光调阻机多档测量误差的系列修正值,进而用系列修正值对所有待修调电阻的阻值测量误差进行校正,达到进一步减小系统测量误差的目的.实践证明,在测量硬件电路保证高稳定性、微小波动性测量的前提下,应用该方法可使测量系统的精度指标达到:低阻区(R<100Ω)为±0.5‰;中阻区为±0.2‰;高阻区(R≥1MΩ)为±2‰.     

激光切割液晶屏短路环非垂直XY电机轴的校正控制

根据液晶屏制造工艺的要求,在液晶屏四周需要印制短路环来释放制屏过程中产生的静电荷.当液晶屏流到贴芯片工序(COG)之前,需要将短路环切断,否则将会造成芯片短路.激光切割液晶屏短路环是利用高能激光脉冲聚焦在液晶屏短路环上使短路环涂层材料气化,达到切断短路环的目的.通常液晶屏为矩形,短路环分布于液晶屏相邻两侧,横向短路环与纵向短路环垂直,由于激光束固定不变,这就要求承载液晶屏运动的XY两电机轴垂直,才能使横向短路环切割槽与纵向短路环切割槽垂直.在实际的机械装调过程中,经常会出现XY两电机轴非垂直的现象,这时要保证横向切割槽与纵向切割槽垂直,需进行补偿控制.文中结合激光切割液晶屏短路环XY两电机轴非垂直的实际问题,设计了XY两电机实现横纵切割槽垂直的控制方法.它的优点是实现过程简单,补偿效果好,且从根本上解决了XY非垂直问题,校正角度不受切割长度的限制.     

激光调阻工艺参数对调阻精度的影响分析

激光调阻的工艺参数主要包括光斑重叠率、激光功率、调Q频率和调阻速度 ,它们选择的合适与否直接影响激光调阻精度 ,如何确定激光调阻工艺参数是激光调阻控制中的重要问题。文中从理论分析和实验数据分析两个方面研究了激光调阻工艺参数对激光调阻精度的影响 ,并给出了激光调阻工艺参数之间的函数关系式和实际应用 ,为激光调阻工艺参数的选择提供了必要依据。     

激光调阻预置式变速光刻控制

全自动激光调阻机是各种薄、厚膜片式电阻的工业化专用生产设备,提高调阻性能是提升设备生产力,降低生产成本,节能增效的主要途径.因此,在原系统基础上对激光调阻中光束定向控制系统进行改进设计,以先验知识为基础,构造预置、简单变速、实时变速等光刻控制模型,得到预置式变速光刻控制方法.它能根据不同的精度、速度要求和片阻初值偏差进行优化决策,实现在激光粗调电阻时,采用快速光刻;在激光精调电阻时,采用慢速光刻.这样不仅动态改变了片阻的光刻阻值变化率,提高了调阻精度,而且缩短了粗调光刻时间,提高了调阻速度,从整体上提高了激光调阻性能.