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利用 4-羟基二苯甲酮( 4-HBP)和丙烯酰氯合成了 4-丙烯酰氧基二苯甲酮( 4-ABP),将其与丙烯酸类单体共聚制备了光交联型羟丙分散体( PCHAD)进一步与氨基树脂复配,得到了一系列光 /热双重固化羟基丙烯酸酯分散体 PCHAD-AR。利用差式,扫描量热仪、紫外分光光度计对 PCHAD-AR的光 /热双重固化行为进行了研究,探讨了光 /热双固化顺序和氨基树脂含量对涂膜性能的影响。结果表明:加入氨基树脂后不影响双固化体系的光交联行为;最佳固化工艺为先光后热固化,当光固化 60 s、170 ℃热固化 20 min,氨基树脂用量为分散体的 10%时,涂膜的 Tg为 57. 1 ℃,凝胶含量达到 98%以上,涂膜硬度为 3H,柔韧性为 0. 5 mm,附着力 0级,耐酸、耐醇、耐水稳定性均达到 10 d以上,相比于单一的光、热固化体系,双固化体系涂膜耐碱性提升,涂膜外观无明显变化的时间由 1d延长至 3d。 相似文献
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为了找到一种能有效对陶瓷基复合材料先驱体浸渍裂解(PIP)工艺参数进行优化的方法,提出利用束丝复合材料对二维复合材料力学性能进行表征的方案.对5种PIP工艺条件制备的束丝以及二维SiCf/SiC复合材料在不同PIP工艺条件下力学性能变化规律进行了研究,并对采用束丝复合材料对二维复合材料力学性能表征的有效性进行了分析.研究表明,束丝复合材料和二维复合材料力学性能随PIP工艺的变化规律完全相同,这是因为两种复合材料界面、纤维损伤等特性基本相同.采用强度比对两种复合材料力学性能一致程度进行了表征,结果表明两者一致性较好,但随PIP工艺复杂程度的提高,两者一致性降低.利用束丝复合材料可以对二维复合材料力学性能进行较好的表征,可对二维等实体复合材料制备工艺进行初步优化,从而使材料工艺设计效率大为提高. 相似文献
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中国烹饪高等教育经过近20年的发展,取得了不少成就,但整体水平是相对落后的。出现这一现状有其历史原因。本文从传统教育观念和教育模式的框限、专业师资力量薄弱的制约、学科与教育研究落后的限制、行业落后与“菜系”观念的消极影响等方面分析其滞后现状与制约因素。 相似文献
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本文根据本人在印度Durgapur电厂工作近四年经验所得,主要概述了对于印度电力市场咱们中方存在的几个盲区,希望通过此文能给在海外尤其是开发印度印度电力事业的单位及个人能有些许帮助。 相似文献
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随着互联网的快速发展,高校中对软件的依赖也越来越大,很多活动都是基于软件才得以实现。与此同时,要求学生对软件的建模和部署也变得越来越高。及时采取措施响应软件的变更,让软件更加融合于生活之中,不仅能提高学生对软件策划的能力,也能够提高学生对软件的编码能力。本文讲解了师生双选系统的实现过程,以及基于Vue、SpringBoot、Mybatis框架来实现的主要功能,开发出一款实现师生双选功能的系统。 相似文献
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文章提出进行系统级HPM效应模拟仿真的4个关键环节,对分析电子系统HPM效应的方法和途径进行了初步探讨。通过系统拓扑的分析,建立了系统的HPM效应模型,对其中的两个主要的耦合途径,运用BLT方程分析线缆耦合,用数值计算方法分析孔缝耦合,从而确定到达系统内部某一敏感器件上的电磁能量。最后,对一个典型系统模型进行分析和计算,评估HPM对该系统的作用效应。 相似文献
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为了得到修复再制造后扭力轴基体和镍基合金熔接涂层的力学性能,分析了不同扭转弧度对熔接涂层和基体力学性能的影响,得出熔接涂层和基体的应力、应变随扭转弧度的变化规律,并讨论模型轴向外表面和径向内表面应力、应变随扭转弧度的变化规律。研究结果表明:修复后的模型力学性能达到原有力学性能的90%;随着扭转弧度的增大,扭力轴基体和熔接涂层的应力、应变均逐渐增大;对于模型轴向外表面,最大应力出现在涂层上,并且由涂层中心向四周的结合界面扩散,熔接涂层应变是先小于基体应变,然后再大于基体应变;对于模型径向内表面,熔接涂层的应力和应变始终大于基体的应力和应变。 相似文献
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三种南瓜粉的生产技术 总被引:7,自引:0,他引:7
南瓜被称为“宝瓜”,内含丰富的营养成分,其被证明对糖尿病等有显著疗效,而南瓜粉被誉为世界保健疗效食品之“新星”,本文综合了本人的研究和几家工厂的生产经验,对三种南瓜粉的生产技术作了介绍。 相似文献
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应用有限元分析软件研究熔接涂层及基体在弯曲载荷作用下的等效应力特性及其分布状态,对不同厚度涂层/基体系统进行三点弯曲仿真试验。通过将涂层分别置于受拉和受压一侧,分析弯曲试验中不同压头下压量时,涂层/基体系统的等效应力状态以及涂层厚度对接合面处应力的影响,得到不同厚度的涂层/基体系统在界面结合处的等效应力分布情况及变化规律。结果表明:弯曲载荷作用下,涂层/基体系统的等效应力最大值出现在涂层表面;压头下压量相同时,涂层越厚,涂层/基体系统的等效应力最大值越大;涂层与基体的界面结合处存在等效应力突变,涂层越厚,等效应力突变值越小,涂层与基体的等效应力过渡越平缓。 相似文献