铝合金表面GPTMS硅烷膜的制备及耐蚀性能研究

为提高铝合金耐腐蚀力，运用正交试验法研究在铝合金表面制备 γ-（2，3-环氧丙氧）丙基三甲氧基硅烷（GPTMS）自组装膜最佳工艺条件，利用极化曲线和扫描电子显微镜研究该硅烷膜在铝合金表面的耐腐蚀性能。研究表明：最佳工艺条件为 100 mL溶液中， pH＝4. 5，V（GPTMS）∶V（EtOH）∶V（H₂O）= 2∶7∶91，T_{1（水解温度）}＝25 ℃，t_{1（水解时间）}＝7 h，t_{2（浸涂时间）}＝10 min，t_{3（固化时间）}＝90 min，T_{2（固化温度）}＝120 ℃，该工艺条件下制备的硅烷膜具有优异的耐腐蚀性能。     

黄铜表面硅烷膜制备工艺的正交试验优选及膜层的耐蚀性能

为提高黄铜制品的耐蚀性能,在黄铜表面制备硅烷膜,运用正交试验法优选了形成γ-巯丙基三甲氧基硅烷(γ-MPS)膜的工艺条件,通过对比各水解条件下成膜试样在3.5%NaCl溶液中的塔菲曲线获得了最佳浸涂工艺条件,运用阳极极化曲线、交流阻抗法和扫描电镜表征了制备的硅烷膜对黄铜基底的防护性能。结果表明:成膜最佳工艺条件为γ-MPS∶去离子水∶乙醇(体积比)=4.0∶46.5∶2.5,水解溶液p H=6.0、水解时间4.5 h、水解温度40℃、浸涂时间80 min、浸涂温度40℃、固化时间30 min、固化温度80℃;该条件下制备的黄铜表面硅烷膜在3.5%NaCl溶液中具有良好的耐蚀性能。     

冷轧钢表面硅烷膜的制备及耐蚀性能研究

采用浸涂技术,在冷轧钢板(CRS)表面制备3-氨丙基甲基二乙氧基硅烷(APDMS)自组装膜。利用扫描电镜观察了该膜的形貌,运用极化曲线和交流阻抗图谱等电化学方法考察了APDMS膜在3.50%NaCl溶液中的耐蚀性能。研究表明:硅烷、乙醇、去离子水的体积比为4∶9∶87,溶液pH为11.0,水解温度40℃,水解时间30h为最佳水解工艺条件;在该条件下形成的硅烷膜耐蚀性能十分优越。     

亚临界300 MW机组锅炉墙式再热器爆管原因分析

针对近几年锅炉再热器管路频繁爆管事故,对某台亚临界300 MW机组的锅炉墙式再热器15CrMoG爆管进行了宏观形貌观察、化学成分分析、SEM形貌观察、拉伸性能试验、金相组织分析、SEM形貌观察,并对爆口进行了能谱分析.结果 表明:墙式再热器15CrMoG管因停运时有冷凝水在弯头处排放不干净,在有氧状态下造成溶解氧电化学腐蚀,导致墙式再热器管腐蚀穿孔,从而造成爆管.同时建议停用时采用联氨水+氨水法或充氮法保护,停机过程中严格按照运行规程要求执行;采用合适的停炉保护方法;加强水汽品质控制,增加蒸汽中阴离子的检测项目.     

聚吡咯/氧化铜纳米管的制备及其催化性能研究

聚吡咯/氧化铜纳米管(PPy/CuO-NTs)新型复合材料通过在氧化铜纳米管上原位聚合单体吡咯,以过硫酸铵为氧化剂、赖氨酸为表面修饰剂制备出来。通过FT-IR、XRD、SEM、TEM以及TGA对其结构和形貌进行了表征,并研究了其在超声条件下对罗丹明B的催化降解作用。结果表明:PPy/CuO-NTs对罗丹明B有很好的催化降解性能。     

氮掺杂二氧化钛/聚吡咯（TiO2@Polypyrrole）纳米球的制备及其超声催化性能研究

本文介绍了氮掺杂TiO2纳米球的制备方法,并对TiO2纳米球的超声催化性能进行改进,提高它的超声催化活性。改变方法是利用原位聚合法对TiO2纳米球进行聚吡咯(PPy)包覆来制备TiO2@PPy纳米球,并且在制备TiO2纳米球的过程中引入N离子,以此来提高它的催化效率(本实验超声催化降解罗丹明B),通过透射电镜(TEM)、红外光谱(FT-IR)、X射线衍射(XRD)和热重分析(TGA)对其结构和形貌进行了表征,并利用紫外可见光谱(UV-VIS)表征了其在超声条件下对罗丹明B的超声催化降解性能。结果表明:氮掺杂TiO2@PPy纳米球对罗丹明B有很好的超声催化降解性能。     

氧化铜纳米棒/氧化石墨烯的制备及催化性能测试

氧化铜纳米棒/氧化石墨烯（CuO-NRs/GO）新型复合材料通过在氧化铜纳米棒上静电吸附氧化石墨烯而制备出来。通过XRD、TEM、SEM以及FT-IR对其结构和形貌进行了表征,并研究了其在超声条件下对罗丹明B的催化降解性能。结果表明：CuO-NRs/GO对罗丹明B有很好的催化降解性能。     

黄铜表面复合纳米硅烷膜的制备及其耐蚀性能

目前对黄铜表面处理时采用复合纳米硅烷膜技术的研究报道不多。在黄铜表面采用浸涂技术制备γ-巯丙基三甲氧基硅烷膜,运用电化学方法研究复合纳米硅烷膜在3.50%氯化钠溶液中的耐蚀性,并用SEM表征复合纳米硅烷膜黄铜腐蚀前后的形貌。结果表明:添加纳米材料复合纳米硅烷膜的黄铜在3.50%的氯化钠溶液中具有很强的耐蚀性,其自腐蚀电流密度下降至3.576×10~(-9)A/cm~2,自腐蚀电位正移。添加纳米材料的复合纳米硅烷膜在腐蚀前后的形貌基本不变,耐蚀性明显优于未添加纳米材料的纯硅烷膜。