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在现有的硅-铝-钼(Si-Al-Mo)烧结工艺的基础上,引入了铬(Cr),镍(Ni),银(Ag)金属阻挡层,并将这一新的金属阻挡层烧结工艺应用到双向晶闸管的生产中。结果表明,该工艺能得到浅而平坦的烧结合金结,并能改善器件的反向阻断特性和通态特性的一致性,提高器件的成品率。 相似文献
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本文采用溶胶-凝胶技术制备LaFeO3纳米晶薄膜,并摸索出该薄膜的光刻方法,将这一成膜技术与集成电路平面工艺相结构,首次研制出了纳米晶薄膜作为栅极的场效应晶体管气体传感器,它对乙醇具有较高的灵敏度和良好的选择性。 相似文献
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开管镓扩散技术改善快速晶闸管通态特性 总被引:3,自引:0,他引:3
对提高快速晶闸管发射区ne与基区Pb杂质浓度比值Ne/Nb,降低器件通态压降进行了理论分析;叙述了开管Ga扩散技术的特点,并与闭管Ga扩散和B-A1双质P到扩散方式进行了比较。实验证明,用开管Ga扩散工艺制造快速晶闸管,可明显改善器件的通态伏安特性。 相似文献
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本文具体描述了中心锥形槽状光敏门极结构光控双向晶闸管的结构特点,介绍了该新型结构器件的关键生产工艺,并对器件的触发特性进行了较深入的理论研究。研制成功的直径为40mm,电流宣传品量为500A,耐压为1200V的光控双向晶闸管的最小光触发功率小于15mW,动态峰值压降小于1.6V,换向dv/dt耐量大于100V/μs,换向di/dt耐量大于50A/μs。 相似文献
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