MBE MD AlGaAs/GaAs调制反射谱及其与2DEG浓度的关系(英文)

The two-dimensional electron gas concentration dependence of photore-flectance of n-AlGaAs/GaAs heterostructures is reported and explained by analysing the physical process induced by photo-modulation. Comparison of the experimental results and energy level calculations based on a triangular potential well approximation shows good agreement.     

半导体超晶格结构参数的x射线衍射运动学理论拟合计算

运用x射线衍射的运动学理论研究了[(Ga_(1-x)Al_xAs)_m(GaAs)_a]_N/GaAs(001)一维超晶格结构。通过模拟计算,精确确定了起晶格的结构参数。本文所述的方法可用于各种超晶格结构,具有普遍意义。另外,还对超晶格卫星峰强度的非对称性以及界面过渡层的存在对卫星峰强度的影响,做了必要的讨论。     

调制掺杂结构的光反射光谱研究

测量了分子束外延(MBE)生长的调制掺杂n-GaAlAs/GaAs的光调制反射光谱(PR),研究了光谱结构和三角阱中子能级的关系以及光反射调制谱与二维电子气(2DEG)浓度的依赖关系.实验结果与理论分析符合得较好.     

高重复频率脉冲染料激光器激发的半导体时间分辨荧光光谱

采用带有宽带前置放大器的Boxcar接收系统,我们研究了掺氢非晶硅(a-Si:H)和Ⅲ-Ⅴ族化合物的时间分辨光谱和瞬态过程。     

200ps脉冲激发的MBEGaAs-Ga_(1-x)Al_xAs多量子阱异质结的光致发光特性

本文报道微微秒激光脉冲激发下分子束外延(MBE)生长的GaAs-Ca_(0.6)Al_(0.4)As多量子阱异质结构的光荧光特性.同时观察到发生在n=1,2,3电子子能带和相应重空穴子能带之间的激子跃迁.实验数据和理论计算符合较好.在理论计算中,我们考虑了实际势阱的有限深度和GaAs Γ_s~c导带的非抛物线性质.用所述计算方法确定阱宽可达到相当满意的精度.     

InP/InGaAsP/InP DH结构的空间分辨光谱

本文主要报道我们对InGaAsp/Inp DH结构进行电注入的空间分辨光谱的测量,进一步证实1.3μmDH激光器的950nm光能发光带确实来自InP限制层。采用的样品是1.3μm包含有N-Inp/InGaAsP/P-InP(各层厚度分别为10μm/0.5μm/2μm)的DH激光器。激光器的出光方向通过显微镜物镜,在单色仪狭缝上成放大象,当沿垂直于DH结     

InGaAsP/InP双异质结激光器发射的0.95μm发光带和俄歇复合

在1.3μm InGaAsP/lnP DH激光器发射谱中,我们观测到 0.95μm的短波发射带.实验分析表明这一发射带不是由结偏位引起,也不是有源区中导带到自旋轨道分裂价带的复合发光.当温度从200K到300K变化时,这发光带的峰值随温度的变化与经过自吸收的InP侧向光荧光谱一致.此发光帝的强度与有源区内载流子浓度三次方成正比.这说明此发光带是有源区内俄歇复合产生的高能载流子越过异质结势垒到InP 限制层中的复合发光.     

Si NIPI 结构中光伏响应的极性及与浅杂质有关的光跃迁

我们对不同光照条件下ＳｉＮＩＰＩ结构的光伏效应进行了研究，并在正面光照时作了外加Ｈｅ－Ｎｅ激光连续照射前后的对比实验．结果表明，ＳｉＮＩＰＩ结构中存在Ｂｒｕｍ等预言的因光生载流子空间分离而产生的光伏效应，并且进一步从实验上证实了ＮＩＰＩ结构光伏极性是空间固定的．对外加激光连续照射前后结果的分析表明，ＳｉＮＩＰＩ结构的光伏效应中，实空间中的间接跃迁如电子空穴子带间跃迁不起主要作用，而主要取决于实空间中与浅杂质有关的直接或准直接跃迁．     

MBE GaAs/AlGaAs多量子阱中的非本征发光研究

用光致荧光方法加选择腐蚀技术研究了MBE GaAs/AlGaAs多量子阱中的非本征发光,对3种非本征峰分别指派为束缚激子、阱边界受主态和集聚在最初生长阱里的阱中心受主态发光。     

InGaAsP/InP双异质结激光器中的增益光谱,阈值电流的温度特性及俄歇复合

报道了1.3μm InGaAsP/InP双异质结半导体激光器增益光谱和阈值电流的温度特性.实验及分析结果表明,在转折温度T_b以上到室温(255K