绝对辐射温度计杂散光抑制的仿真分析

绝对辐射温度计可用于高温段热力学温度测量,其滤光片辐射计所接收的信号十分微弱,杂散光将会对实验结果产生一定影响.使用基于蒙特卡罗法的光线追迹模拟软件Trace Pro建立模型进行仿真测试,可以得到因内壁多次反射而产生的杂散光情况.通过安装挡光板和使用高吸收率涂层等方式,可对杂散光进行抑制.本文为减小绝对辐射温度计多次反射杂散光提供了解决思路,并给出了相应的模拟结果.     

E/D型HEMT DCFL倒相器

<正> 一、引言为了满足超高速计算机、高速数据处理和卫星通信等高性能电子系统的迫切需要,人们一直在寻求和开发新的超高速和微波器件。利用异质界面二维电子气(2DEG)高迁移率特性的高电子迁移率晶体管(HEMT)及其IC已显示出巨大的发展潜力和广阔的应用前景。因而成为最有希望的候选者之一。以增强型(E型)HEMT为开关管、耗尽型(D型)HEMT(或饱和电阻)为负载的E/D(或E/R)型直接耦合场效应晶体管逻辑     

波动信号测量方法研究

一、概述中国计量科学研究院光学所研究建立了深紫外光谱透射比测量装置,其光谱范围覆盖(115~300)nm,可以与常用的紫外可见近红外光谱透射比测量装置的紫外光谱区域相衔接,并向真空紫外区域拓展。其测量结果的相对扩展不确定度为Urel=3.0%。相对于传统的可     

自适应虚拟电子微扫描红外焦平面像素倍增技术

在分析微位移法评价空间抽样效应理论的基础上,分析为改善红外焦平面器件系统空间分辨率不够高所采取系列措施的优缺点,并提出了一种能有效实现焦平面像素倍增的自适应虚拟电子微扫描技术,该方法能在像素倍增的同时有效地实现大边缘的增强,防止边缘模糊与锯齿效应,实验证明该方法效果良好。     

中红外光谱规则透射比量值比对

为保证量值准确、可靠,适应国内材料中红外规则透射比校准工作发展需要,以公正、科学地反映相关单位测量能力,客观、准确地复现各参加比对实验室的仪器设备的测量准确度程度以及考查其检定人员的技术水平,本文介绍了由中国计量科学研究院组织的中红外规则透射比的量值比对的相关情况.     

《光谱光度计标准滤光器》检定规程相关算法的实施

正在我国新颁布实施的JJG1034—2008《光谱光度计标准滤光器》检定规程中,对用于检定光谱光度计的各类滤光片提出了新的要求。尤其是对于波长型滤光片,提出了新的检验指标,例如,特征峰对称性、相对峰高等参数。对     

复合介质L型侧墙形成技术

:给出了 E- B之间复合介质 L型侧墙的形成技术。这种工艺技术控制容易 ,成品率高 ,均匀性好。已将这种工艺技术应用于双层多晶硅双极晶体管的制作工艺中 ,器件具有良好的电学特性。     

常温黑体光谱发射率校准技术研究

为了能够实现常温状态下的黑体光谱发射率的准确测量,基于连续可调激光器,搭建了一套中红外波段黑体光谱发射率测量装置。采用自行设计10mA恒流源对MCT探测器进行驱动,测量结果的动态范围从7.29×10⁴提高到4.32×10⁵,有效提升了探测系统的动态范围。该装置实现了覆盖光谱范围7.5~10.6μm,发射率测量量值范围0.01~0.9999的高精度测量,最优不确定度为4.0×10^-5(k=2)。     

材料荧光的测量方法简介

近年来,荧光材料得到广泛应用,对荧光测量的要求越来越高。然而,就当前的荧光测量方法而言,其测量的精确度、可靠性还有待进一步提高。在我国,相关的荧光计量标准尚未确立。因此,研究荧光测量方法很有实际意义。在荧光测量中,有3个较为重要的量:激发光谱、发射光谱和量子产额。一、激发光谱与发射光谱的测量与校正1.加拿大所采取的高精度荧光测量方法NRC标准荧光光谱仪装置图如图1所示。其测量范围为:(250￣1050)nm。不难发现,该光谱仪比普通荧光光谱仪多了一个校正光源(Calibration Source)和一个监测探测器(Monitor De-tector),它们之…     

指纹图像预处理与特征提取

指纹图像预处理与特征提取是指纹识别的前提。提出一套基于方向滤波与模糊数学方法的指纹图像预处理算法，并给出了指纹特征提取及其后处理算法。指纹图像预处理首先求出指纹的方向场，然后根据方向场进行滤波，最后用模糊数学方法得到二值化图像。指纹特征提取则先从细化指纹图中得到特征点，并依据伪特征点的脊线与角度特征剔除伪特征点。