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BSRF中的3B1光束线与LIGA实验站过去使用的3W1光束线相比,其同步辐射X光光谱较软、光强较弱,但可实现专用光和兼用光两用.现在LIGA实验站移到3B1光束线,为此必须进行新的LIGA掩模设计、制作.结合此研究目的,本文通过使用XOP和Origin两个软件进行设计、计算,分别得到了专用和兼用时3B1光束线在传输过程中的各级能谱图和传输、吸收数据,并针对这两种不同的用光情况分别设计、研究了两种不同组合的掩模:Au-PI组合和Au-Si组合. 相似文献
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提出了一种解决大高宽比SU8结构的新方法.该方法是将SU8胶涂在一块掩模上,紫外光从掩模的背面照射,这样SU8胶的曝光将从底部开始,不需要进行过曝光来保证底部胶的曝光剂量,从而很容易控制曝光剂量和SU8胶结构的内应力.实验结果表明,该方法能够得到高宽比为32的SU8结构,而文献报道的SU8胶结构的高宽比最大仅为18. 相似文献
3.
比较了活动掩膜法与固定掩膜法得到的PMMA胶结构,实验表明固定掩膜法更适合于多次曝光.结合LIGA技术和微细电火花加工的优点,用LIGA技术制备出具有复杂形状的铜微细工具电极,再用该工具电极进行微细电火花加工,在不锈钢上加工出异形微细孔.并通过进一步调整电火花加工工艺参数,优化了加工尺寸精度和表面粗糙度. 相似文献
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用产生器脉冲和探测器脉冲两种方法相互核对测试了Ortec公司一套HPGeγ谱仪电子学各部件的非线性偏离曲线,测量精度到3×10-6水平,研究了它们对谱仪整个系统非线性的贡献。 相似文献
5.
LIGA技术是具有加工精度高、深宽比大、表面平整、应用领域广等优点,是一种先进的微细加工方法,实验中将LIGA技术的优点用于正电子慢化体的制作中,能获得传统加工方法无法制作出的薄壁网状多孔镍结构,满足新型正电子慢化体的制备要求。本文报道了用LIGA技术制作正电子慢化体的实验研究。 相似文献
6.
SU 8光刻胶优异的性能在MEMS技术的发展重得到了广泛的应用 ,已经成为MEMS研究中必不可少的方法之一。SU 8光刻胶能够进行厚度达毫米的结构研究工作 ,另一方面SU 8结构具有很好的侧面垂直结构 ,通过控制工艺参数 ,能够获得满意的SU 8胶结构。SU 8光刻胶已应用于LIGA技术的标准化掩模制造工艺和一些器件的研究工作。在SU8胶研究过程中 ,克服了许多技术难题 ,使得这一技术能够应用到实际的需要中。 相似文献
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运用光刻、刻蚀技术在载玻片上刻蚀出条宽 70 μm、深 30 μm、长 7cm的沟槽 ,与另一载玻片键合 ,形成一微流路沟道 ,研制出了用于生物电泳技术的微流路生物芯片。在该芯片的研制中 ,克服了湿法腐蚀、断线、键合等技术难题。该芯片已经交付合作单位使用 ,能够满足应用中的基本性能要求 相似文献
8.
本文从LIGA工艺的工程应用角度,简要介绍微小型安全密码锁机构、微小型加速开关结构的基本设计问题和工艺问题,初步分析了这两类组件制造对LIGA工艺的需求与要求。 相似文献
9.
介绍一种采用水基工质的电化学微型推进器.工质水在电解腔被电解生成氢气和氧气,混合气体在燃烧腔内被点燃之后,爆燃产生高温高压的水蒸气,由喷口喷出产生推力.推进器主体由四层结构组成,包括工质注入口、微管道、电解反应腔、阻燃孔、燃烧腔、微型平面Laval喷管,以及电解电极和点火电极等.电解反应腔壁面覆有图形化的亲水及疏水薄膜,用于实现工质的自动供给.对推进嚣在脉冲工作状态下的性能指标进行了估算,并设计制作了一个推进器原理样机进行了可行性验证. 相似文献
10.
合成了用于LIGA微细加工技术的聚甲基丙烯酸甲酯抗蚀剂,采用同步辐射装置X射线深度曝光,可得到深宽比45-90,深度大于450微米,细线宽5-10微米的良好光刻图形。 相似文献
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