应用于人脸识别的结合SVD变换的图像类特征提取算法

由于矩阵奇异值(SVD)为依据的图像识别技术中,SVD与矩阵之间不是一一对应的.为此提出了同类图像的类SVD变换及其图像特征提取方法.并采用最近邻法进行分类识别,应用于人脸识别中,有较好的效果.     

中心对称材料中二次谐波产生的影响因素

介绍中心对称材料二次谐波产生(SHG)的基本原理,通过数值模拟计算,分析研究影响中心对称材料SHG的因素.其中,光子晶体带隙(PBG)的影响最为关键,它决定了SH能否产生;激励波入射角与组成结构的耦合介质柱和填充因子对SHG强度大小也有较大影响,按文中结构,耦合介质柱有2排已足够,最佳入射角为20°～30°,填充因子为0.6.     

用光梯度场控制原子制做纳米点阵研究

提出制做纳米点阵的一种新方法。用波长为 4 2 5 .5 nm的光梯度场操纵铬原子可制做出阵列密度达 2 .2 1× 10 7per/ mm2、理论半高宽度 (FWH M)可达 10 nm的纳米点阵。介绍用光梯度场操纵原子制做纳米点阵的原理 ,对原子束的准直进行分析 ,给出原子束在激光梯度场中聚焦的经典模型和量子模型并进行数值模拟。用光操纵原子制做纳米点阵使器件的阵列密度和尖端曲率得到大幅度提高 ,该器件作为发射极可以降低工作电压和提高发射电流。     

化工节能及发展趋势

通过对我国化工节能潜力的分析,阐明了化工节能的重要地位,提出了相关技术措施及建议。     

全息片质量对原子全息光刻图形影响的模拟研究

全息片质量是影响原子全息光刻再现图形质量的关键因素，然而其制作工艺复杂，工序繁多，质量难以控制，模拟研究有助于把握全息片制作工艺中的关键环节，提高全息片的质量。详细模拟了全息片的三个主要质量指标：刻透率、分辨力以及薄膜厚度对再现像质的影响，结果表明：刻透率控制在90％左右即可满足要求，分辨率应优于0．1μm，膜层应尽量均匀。     

驻波透镜聚焦原子束制作纳米图形研究

介绍了将激光驻波聚焦原子束技术用于制作纳米级图形的基本原理和实验系统设计。研究了驻波透镜对原子束的聚焦特性及像差 ,数值结果显示原子束在置于焦平面处的基底上所沉积的条纹半高宽为 10nm左右 ,可以实现纳米级超微细图形的制作。同时给出了实验装置及初步实验结果     

驻波透镜聚焦原子束制作纳米图形研究

介绍了将激光驻波聚焦原子束技术用于制作纳米级图形的基本原理和实验系统设计。研究了驻波透镜对原子束的聚焦特性及像差，数值结果显示原子束在置于焦平面处的基底上所沉积的条纹半高宽为10nm左右，可以实现纳米级超微细图形的制作。同时给出了实验装置及初步实验。     

用亚稳态氩原子束制作纳米结构

纳米结构制作是纳米技术的重要组成部分,原子光刻技术是纳米图形制作的一项新方法.对直流高压放电产生的亚稳态氩原子束进行准直减小其发散角,亚稳态原子在与之传播方向垂直的激光驻波场中发生淬火并沉积在基底上,破坏吸附在基底表面的SAM膜(self_assembled monolayers),结合刻蚀技术可制作出纳米量级的图形.给出该技术制作纳米图形的基本原理、方案、相关理论及模拟结果.     

企业实施品牌战略的理性认识

核心提示:品牌是物质和精神的综合,企业实施品牌战略基本条件应有雄厚的资金投入和专业人才,科技水平高,并具有知识型和实践型相结合的企业家,有丰富的管理经验.最重要应做好两件事情:一是转变观念,二是掌握规则.     

原子光刻用超高真空蒸发设备的设计和建立

原子光刻是原子光学在微细加工技术领域的新应用。在对各种材料和真空泵性能综合考虑的基础上,设计并建立了一台用于原子光刻的超高真空蒸发设备。主要设计参数为:极限真空度和工作真空度分别为2.0?0-6 Pa 和1.0?0-5 Pa,原子源温度在300~1850范围内连续可调。初步运行结果表明极限真空度优于设计参数,温度连续可调。