上颌中切牙冠修复体的口腔色差容忍度研究

目的：研究上中切牙冠修复体在口内环境下的色差容忍度（包括察觉度和接受度）,为提高配色技术成功率提供数据依据。方法：使用专业牙科比色仪器ShadepilotTM,测定66例单侧上颌中切牙冠修复体与对应天然牙的色差数据△E,以及各色度参数差△L＊、△C＊、△a＊、△b＊,根据每个患者在修复体戴入口腔后对其色差的主观感受,将病例分成三组：A组：不存在色差,效果满意;B组：存在色差,但效果满意;C组：存在色差,效果不满意。C组修复体在进行外部染色后再次进行色差测定,数据归入A组或B组,总色差与各参数色差分别进行统计分析,研究色差察觉度和接受度。结果：口腔环境中,上中切牙冠修复体色差察觉度约为1．6（△E单位）,色差接受度平均为4．06（△E单位）;当修复体的明度L＊及饱和度C＊高于天然牙时,其色差容忍度相对较高,而修复体明度L＊及饱和度低于天然牙时,色差容忍度较低;色调差异△a＊的存在对色差容忍度的影响均比较显著。结论：口腔修复体的色差容忍度,不仅与肉眼观察生理特征相关,与心理因素也有着一定的关系,若能充分了解人们对修复体色彩的审美倾向,将色差容忍度定量运用于比色技术中,将对提高修复体配色成功率十分有利。     

牙列重度磨耗和磨牙症患者咀嚼肌肌电信号分析

目的分析牙列重度磨耗和磨牙症患者的咀嚼肌肌电图(EMG)特征。方法以无夜磨牙的牙列重度磨耗患者(牙列重度磨耗组,n=19)、夜磨牙患者(夜磨牙组,n=30)和无上述症状和体征的正常志愿者(对照组,n=30)作为研究对象。分别采集三组对象在下颌姿势位(MPP)和牙尖交错位(ICP)最大紧咬牙位时,颞肌前束(TA)、咬肌(MM)和二腹肌前腹(DA)的肌电图(EMG),对各组的峰值电位(Amp)和咀嚼肌不对称指数进行统计学分析。结果MPP时,夜磨牙组患者左侧TA和DA的Amp显著高于对照组(P<0.05);牙列重度磨耗组各咀嚼肌的Amp与对照组比较均无显著差异(P>0.05);夜磨牙组左侧TA的Amp显著高于牙列重度磨耗组(P<0.05)。ICP最大紧咬牙位时,夜磨牙组各咀嚼肌的Amp与对照组比较均无显著差异(P>0.05);牙列重度磨耗组的双侧MM和TA的Amp显著低于夜磨牙组和对照组(P<0.05)。咀嚼肌总体不对称指数,夜磨牙组与对照组和牙列重度磨耗组比较均有显著差异(P<0.05),而后两组间无显著差异(P>0.05)。结论夜磨牙症患者TA存在肌功能亢进;牙列重度磨耗患者咀嚼肌收缩力减低。     

咀嚼肌表面电极肌电图重复性检验和参考值的建立

目的:对成年人咀嚼肌表面电极采集的肌电信号加以分析,研究下颌在6种不同运动状态下咀嚼肌肌电信号的可重复性,并取得正常参考值。方法:30名22-44岁受试者进行咀嚼肌表面电极肌电图检查,记录下颌姿势位、牙尖交错位和扣齿运动时双侧咬肌、颞肌前束和二腹肌前腹的肌电活动,每个受试者在3个不同时段各测试一次。结果:3次测试的咀嚼肌峰值电位之间无统计学差异(P>0.05)。下颌姿势位时,右侧咬肌峰值电位95%正常参考值为0-0.1,左侧为0-0.13,右侧颞肌前束为0-0.67,左侧颞肌前束为0-0.1,右侧二腹肌前腹为0-0.13,左侧二腹肌前腹为0-0.1;牙尖交错位时,右侧咬肌峰值电位95%正常参考值为0.33-2.53,左侧为0.47-2.5,右侧颞肌前束为0.23-2.23,左侧颞肌前束为0.2-3.67,右侧二腹肌前腹为0.13-1.07,左侧二腹肌前腹为0.1-0.87;扣齿运动时右侧咬肌峰值电位95%正常参考值为0.5-2.5,左侧为0.73-2.3,右侧颞肌前束为0.4-3.47,左侧颞肌前束为0.3-3.63,右侧二腹肌前腹为0.2-1.07,左侧二腹肌前腹为0.13-0.97。结论:表面电极采集的双侧咬肌、颞肌前束和二腹肌前腹的肌电活动具有一定的可重复性。     

早接触对下颌开闭口运动时髁突运动的影响

目的 探讨下颌开闭口运动时,早接触发生部位对双侧髁突运动轨迹的影响.方法 采用Arcus DigMa三维下颌运动轨迹描记系统,对下颌开闭口运动过程中髁突运动轨迹随早接触部位变化而发生的改变进行检测.SAS 9.0软件包分析早接触部位与下颌开闭口运动中髁突在矢状轴、垂直轴、水平轴上的运动轨迹的相关性,尝试建立直线回归方程.结果 随着早接触部位后移,两侧髁突的运动距离在矢状轴有逐渐减小的趋势,而在垂直轴有逐渐增大的趋势.早接触部位与髁突运动距离的直线回归混合效应模型:①矢状轴干扰侧:(ㄆ)=7.8090-0.04040x1+0.03553x2,8δ=0.1167(P<0.001);②矢状轴非干扰侧:(ㄆ)=8.6140-0.07670x1,δ=0.08463(P<0.001);③垂直轴干扰侧:(ㄆ)=4.2182+0.07330x1,δ=0.1816(P<0.001);④垂直轴非干扰侧:(ㄆ)=3.2498+0.08281x1,δ=0.2638(P=0.001).髁突运动中心电子位置分析(EPA)结果显示,下颌习惯性开闭口运动时,早接触组与无早接触组髁突在关节窝内的位置变化差异无统计学意义.结论 随着早接触部位后移,两侧髁突在开口运动时混合运动部分减少,单纯转动发生渐早.下颌习惯性开闭运动到达的牙尖交错位稳定性高,可用于协助临床修复体的调藈(牙合)以及咬合重建时寻找最适颌位.     

人工(牙合)干扰部位对下颌侧方运动轨迹的影响

目的:观察人工(牙合)干扰部位对下颌侧方运动中下颌切点运动轨迹的影响,并探讨其意义.方法:应用Arcus DigMa三维下颌运动轨迹描记系统,检查下颌侧方运动中切点运动轨迹随人工(牙合)干扰部位变化而发生的改变.采用SAS 9.0软件包分析人工(牙合)干扰部位与下颌侧方运动中切点在矢状轴、垂直轴、水平轴上的运动轨迹的相关性,并试建立直线回归方程.结果:随着人工(牙合)干扰部位的后移,不论下颌向干扰侧或向非干扰侧运动,切点在矢状轴和垂直轴的运动距离均无显著规律,与人工猞干扰部位也无明显相关性;而在水平轴则都有逐渐增大的趋势,并在水平轴上得到人工(牙合)干扰部位与下颌切点运动距离的直线回归混合效应模型.向干扰侧运动时,(y)=8.2262 0.1082x1,δ=0.1786,P＜0.001;向非干扰侧运动时,(y)=9.1098 0.07099x1-0.02650x2,δ=0.05989,P＜0.001.配对t检验比较发现,下颌向干扰侧运动时,切点在水平轴的运动距离大于向非干扰侧运动时.结论:随人工猞干扰部位的后移,侧方运动中,下颌向外侧的可移动幅度增大,并呈现一定的线性规律.     

人工牙早接触部位对开闭口运动轨迹的影响

目的:观察早接触部位对下颌开闭口运动中下颌切点运动轨迹的影响,并探讨其意义。方法:应用ArcusDigMa三维下颌运动轨迹描记仪,检查下颌切点的运动轨迹随早接触部位变化而发生的改变,分析早接触部位与下颌切点在矢状轴、垂直轴、水平轴上的运动轨迹的相关性,建立直线回归方程。结果:随着早接触部位后移,下颌切点在矢状轴的运动距离有增大趋势,在垂直轴的运动距离有减小趋势,在水平轴有向非干扰侧偏斜的趋势,并且在垂直轴上得到早接触部位与下颌切点运动距离直线回归的混合效应模型:y^=34.7095-0.1590x1,δ=0.5549,P<0.001。结论:随着早接触部位的后移,下颌开口运动轨迹向后、向早接触点对侧偏斜,同时开口度减小,且在垂直轴方向的改变随着早接触部位的后移,呈现一定的线性规律。     

早接触对下颌开闭口运动时髁突运动的影响

目的 探讨下颌开闭口运动时,早接触发生部位对双侧髁突运动轨迹的影响.方法 采用Arcus DigMa三维下颌运动轨迹描记系统,对下颌开闭口运动过程中髁突运动轨迹随早接触部位变化而发生的改变进行检测.SAS 9.0软件包分析早接触部位与下颌开闭口运动中髁突在矢状轴、垂直轴、水平轴上的运动轨迹的相关性,尝试建立直线回归方程.结果 随着早接触部位后移,两侧髁突的运动距离在矢状轴有逐渐减小的趋势,而在垂直轴有逐渐增大的趋势.早接触部位与髁突运动距离的直线回归混合效应模型:①矢状轴干扰侧:(ㄆ)=7.8090-0.04040x1 0.03553x2,8δ=0.1167(P<0.001);②矢状轴非干扰侧:(ㄆ)=8.6140-0.07670x1,δ=0.08463(P<0.001);③垂直轴干扰侧:(ㄆ)=4.2182 0.07330x1,δ=0.1816(P<0.001);④垂直轴非干扰侧:(ㄆ)=3.2498 0.08281x1,δ=0.2638(P=0.001).髁突运动中心电子位置分析(EPA)结果显示,下颌习惯性开闭口运动时,早接触组与无早接触组髁突在关节窝内的位置变化差异无统计学意义.结论 随着早接触部位后移,两侧髁突在开口运动时混合运动部分减少,单纯转动发生渐早.下颌习惯性开闭运动到达的牙尖交错位稳定性高,可用于协助临床修复体的调藈(牙合)以及咬合重建时寻找最适颌位.     

预遮色瓷涂布厚度对金瓷结合强度的影响

目的：通过比较在高低温烧结瓷组中试件的金瓷结合强度,观察涂布不同厚度预遮色瓷对金瓷结合强度的影响。方法：按ISO9693文件要求制作统一试件,高温烧结瓷组及低温烧结瓷组中均分别制作6件无预遮色瓷、6件涂布较薄厚度预遮色瓷和6件涂布较厚厚度预遮色瓷的试件,用三点弯曲测试方法测试初始裂瓷压力,比较不同烧结温度瓷粉涂布不同厚度预遮色瓷对金瓷结合强度的影响。采用SPSS10.0软件包进行描述性统计和SNK方差检验。结果：在低温烧结瓷组中,涂布较薄厚度预遮色瓷组金瓷结合的强度显著大于涂布较厚厚度预遮色瓷组（P〈0.05）。二组涂布预遮色瓷试件的金瓷结合强度均大于不涂预遮色瓷组,但均无显著差异（P〉0.05）。在高温烧结瓷组中,涂布不同厚度预遮色瓷对金瓷结合强度无显著影响（P〉0.05）。结论：低温和高温烧结瓷组的试件在预遮色瓷烧结后金瓷结合强度均明显增加,预遮色瓷涂布厚度对金瓷结合强度有一定影响。     

戴用全口义齿不同时间的咀嚼肌肌电图表现

目的:通过测定咀嚼肌肌电变化,分析全口义齿戴用时间与咀嚼功能的关系。方法:对30例初戴全口义齿2周的患者与32例戴用全口义齿3个月以上的患者,应用MedelecSynergy肌电仪,测定咀嚼运动时双侧颞肌前束与咬肌的表面募集电位、募集电位时限、面积,并计算肌不对称指数。2组数据采用t检验进行统计学分析。结果:全口义齿初戴组,其颞肌与咬肌的电位幅值低于常戴组,两者有显著性差异(左颞肌P<0.05,双侧咬肌P<0.05);双侧咬肌肌电面积,初戴组大于常戴组(P<0.05),咀嚼肌不对称指数无显著性差异(P>0.05)。结论:初戴全口义齿2周与戴用全口义齿3个月以上患者比较,咀嚼肌活动有显著差异;初戴者,其咀嚼功能恢复未能达到相应程度。     

咬合高点对下颌前伸运动过程中髁突运动轨迹的影响

目的 研究下颌前伸运动过程中,干扰发生部位对髁突运动轨迹的影响.方法 在50名志愿者的一侧下颌牙面制作人工咬合高点模拟牙干扰,利用Arcus DigMa三维下颌运动轨迹描记系统记录下颌前伸运动过程中两侧髁突在矢状轴、垂直轴和水平轴上的运动轨迹,分析咬合高点部位与两侧髁突运动轨迹的相关性,尝试建立直线回归方程.结果 随着咬合高点部位的后移,干扰侧髁突在矢状轴和垂直轴上的运动距离无明显规律,而非干扰侧髁突在矢状轴和垂直轴的运动距离均有逐渐加大的趋势;在水平轴上,双侧髁突均有向干扰侧偏斜的趋势.线性相关分析得到咬合高点部位与非干扰侧髁突在矢状轴上的运动距离的直线回归混合效应模型:=6.911 6+0.042 07x<,1>-0.030 25x<,2>(δ=0.085 19,P<0.001);在垂直轴上的直线回归混合效应模型:=4.205 0+0.046 07x<,1>(δ=0.035 79,P<0.001).结论 前干扰影响髁突的运动轨迹,双侧髁突均向干扰侧偏斜,其中非干扰侧髁突的运动轨迹改变呈现线性规律.