磁控溅射镀膜技术在建材及民用工业中的应用

本文扼要阐述了磁控溅射镀膜技术在建材及民用工业中的应用前景及特点，所需设备类型及镀膜过程中应注意的若干问题，并对若干种镀膜玻璃的膜系及镀膜玻璃的性能要求与测试等问题进行了介绍。     

一种新型测量材料出气的超高真空系统

本文叙述的材料出气测试系统有三个显著的特点：一是它通过一个“复合磨口”把测样室与抽气系统活接起来，因而使玻璃超高真空测试装置能够简便而快速地取放试样；二是在测试过程中，流量孔能够加盖封死，从而实现了用恒流导法测量与用定容法测量相结合。这就提供了测出试样长时间微量出气的可能性；三是可以测量多种材料与同一个试样的不同比表面（试样表面积与有效抽速之比）的出气速率。     

圆形平面磁控溅射靶的设计

本文提出一种设计圆形平面磁控溅射靶的《等效电流磁场计算法》，实测证明，用该法计算的磁感应强度Ｂ的分布及其规律可以作为设计圆形平面磁控溅射靶的依据。如靶的几何参数、永久磁铁的剩磁、靶──基片距离、靶与周围零件的设置及屏蔽罩的安装位置等。由于掌握了磁感应强度Ｂ的分布及大小，因而可方便地确定诸如电压、功率、气压等参数。 为改善圆形平面磁控溅射靶的性能，提高靶材利用率，本文还介绍了三种改进型靶的设计方案。     

倒锥形磁控溅射源的设计与计算

倒锥形磁控溅射源是七十年代中期发展起来的一种新型磁控溅射源。文中在简述了 这种源的结构与工作原理的基础上，详细地论述了倒锥形磁控溅射源的靶形选择、靶面 磁场强度计算、靶与基片距离的确定、靶冷却水量的计算以及倒锥靶与水冷套的特殊结 合等问题。     

炭纤维石墨化炉的结构与性能研究

炭纤维经高温石墨化后，其弹性模量有很大提高，因而可用于某些特种场合，是宇航业和活体工程必不可少的材料之一。用石墨化炉才能在高温高纯保护气氛中连续处理几百米，以至几千米长的炭丝使之石墨化。该文重点阐述石墨化炉研制中一些关键性问题的解决方法。     

薄膜干法刻蚀技术的现状与发展趋势

本文对薄膜刻蚀的原理及用途作了叙述，并对干法离子束刻蚀与湿法化学刻蚀的优缺点作了比较，还就国内外研究的现状作了叙述，最后对干法刻蚀的研究方向及发展趋势作了论述。     

磁控溅射源及其在电子工业中的应用

磁控溅射镀膜是近年来迅速发展的新技术，它不仅具有一般溅射镀膜的膜层均匀、致密、纯度高、附着牢、靶材广等优点，还以其沉积速率高、基片温升低这两个显著优点而受到人们的普遍重视。 磁控溅射镀膜沉积速率高、基片温升低的两个显著优点，主要是由于溅射过程中正交电磁场作用的结果，因此讨论正交电磁场在磁控溅射镀膜中的作用，进而正确确定磁控溅射源的各种参数是十分重要的。本文将在理论分析的基础上，对磁控溅射源的诸参数确定予以探讨。     

转轴偏心对磁流体密封耐压的影响

转轴相对于极靴存在的偏心,会使磁流体真空转轴密封的实际耐压能力大大下降。本文通过计算偏心时,齿型间隙中的磁场分布,得出偏心影响系数β与间隙变化率V间的定量关系式β=((1-v)/(1 V))~(1/2),进而提出密封间隙的设计理论依据和降低偏心因素对密封耐压能力影响的措施。     

真空溅射镀膜专用直流电源

本文在论述真空溅射镀膜的工艺基本环境——异常辉光放电的基础上，阐述了电源的几点要求；提出当前在技术上解决适应真空溅射镀膜的直流电源的几个方案；本文论述了其中第二代采用晶阐管的解决方案，给出了“特性曲线”，该电源具有“陡降”特性，电流稳定度可达±１％。     

《真空镀膜技术与设备》一书第二次印刷发行

《真空镀膜技术与设备》是东北工学院真空技术教研室李云奇教授等七位同志为满足教学需要组织编写的教材,1989年出版后得到一些院校师生及科研生产单位的欢迎,本书很快售尽,现根据读者要求予以重印。 本书共有11章,分别为引论真空镀膜基础、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀和束流沉积技术、化学气相沉积技术、真空离子注入技术、薄膜微细加工技术、真空镀膜设备着干构件的设计与计算、薄膜厚度伪测量与监控以及真空镀膜设备的安装与维护。 本书注重对薄膜的基本理论、基本知识与基本技能等方面的阐述,综合参考并运用了国内有关单位…