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1.
用连续闪光对焊方法在同种焊接规范下分别对增强相含量为0%、15%、30%的SiCp/3003Al复合材料进行了连接,利用光学显微镜、SEM、AG-25TA型电子拉伸试验机对焊缝组织及性能进行分析,结果表明:含15%、30%SiCp的复合材料焊缝成型良好,含30%SiCp的复合材料接头强度最高。分析表明:随着SiCp含量的增加.复合材料的电阻率增大、热导率降低、线膨胀系数降低,而这些物理性能的变化使得焊接过程中产热更多,热量更集中于焊缝,闪光过程连续、稳定、激烈,自保护作用更好,焊后接头应力减少,即闪光对焊焊接性变好。  相似文献   
2.
在钛-铝-钼为过渡层的Cu片上,用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)方法首先沉积一层微米金刚石薄膜,然后沉积纳米金刚石薄膜,制备了微-纳米复合金刚石薄膜.利用扫描电镜(SEM)观察薄膜的表面形貌及界面状态,利用拉曼光谱及X射线衍射对薄膜微结构进行分析并采用压痕法检测了膜基间的结合力并观察了压痕的状态.结果表明,该薄膜下层颗粒粗大,是微米级的金刚石,上层颗粒细小,是纳米级的金刚石,薄膜表面平整光滑;薄膜的附着力与纳米金刚石沉积时间的长短有关,当沉积时间为2 h时,薄膜与衬底的结合力最好.  相似文献   
3.
采用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)方法在铜衬底上沉积了微米和纳米两种金刚石薄膜,过渡层均为钛一铝一钼.用场发射扫描电子显微镜(FESEM)观察薄膜的表面及断面形貌,用拉曼(Raman)光谱测量所得金刚石薄膜的质量,利用压痕法测试了所得薄膜的附着性能,研究结果表明:过渡层可有效提高微米金刚石薄膜在铜衬底上的附着力,反应气氛中Ar的存在可促使纳米金刚石薄膜的形成,改善薄膜表面的粗糙度.  相似文献   
4.
在CH4和H2的混合气体中,加入N2,并不断改变其含量,用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)设备制备了金刚石薄膜。利用扫描电镜观察薄膜的表面形貌,用X-ray衍射方法进行物相鉴定,用Raman光谱分析薄膜的纯度。结果表明:氮气含量不同,薄膜的沉积情况也不同,由于氮气含量的变化,薄膜沉积过程中形成一种纳米聚晶金刚石薄膜,本文从氮离子轰击和晶粒生长的角度分析了氮的添加对所制备的金刚石薄膜性能的影响。  相似文献   
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