光降解-超声波耦合处理磺胺类药物废水的研究

采用光降解-超声波耦合工艺处理磺胺类药物废水,并考察了废水处理过程不同功率光源、光照时间、超声时间和TiO_2的浓度对处理效果的影响。结果表明,在25℃条件下,光降解-超声波耦合处理磺胺类药物废水的最佳工艺为:TiO_2浓度为1.5 mg/mL,光照时间为5 h,超声时间为40 min,在此条件下磺胺嘧啶降解率可达88%。     

1m厚44 m深地下连续墙的施工工艺

结合地下铁道工程施工技术标准，重点阐述了1m厚44m深地下连续墙的施工方法，对幅段接头、钢筋笼的制作及吊装进行了较深入的研究和探讨，对类似施工具有一定的参考价值。     

2,6-二氨基-3,5-二硝基吡啶-1-氧化物晶体形貌的MD模拟

为探讨溶剂对炸药晶体形貌的影响机制和溶剂的选择依据,采用附着能(AE)模型预测2,6-二氨基-3,5-二硝基吡啶-1-氧化物(ANPyO)在真空的晶体形貌,确定其主要生长晶面;并运用分子动力学(MD)模拟研究ANPyO晶面与溶剂N,N-二甲基甲酰胺(DMF)的相互作用及其本质,进而通过修正的AE模型预测其在DMF中的晶体形貌。结果表明:ANPyO在真空中的晶体形状接近椭圆,主要生长晶面为(110)、(100)、(11-2)及(10-1)面。溶剂与晶面间存在较强相互作用,径向分布函数分析表明相互作用能主要包括范德华作用,库仑作用和氢键。在溶剂DMF中,晶面的修正附着能绝对值顺序为(110)(11-2)(10-1)(100),ANPyO晶体形貌接近片状,与已有实验结果一致。此外,DMF分子在ANPyO晶面的扩散系数研究结果表明,扩散系数与修正附着能绝对值成线性关系,晶体生长形貌亦受溶剂扩散能力的影响。     

4-甲氧基-N-(2-N,′N′-二甲基氨基乙基)-1,8-萘酰亚胺烯丙基缩水甘油醚季铵盐的合成与光学性质

以4-B r-1,8-萘酐为起始原料,合成得到标题化合物,中间体及产物的结构采用质谱、核磁共振氢谱等测试技术进行了结构表征。对该荧光单体的紫外光谱、荧光光谱等性质进行了初步的研究。     

甲叉膦酸类缓蚀剂缓蚀机理的量子化学研究

运用密度泛函论(DFT),在B3LYP/6-31G*水平上,计算氨基三亚甲基膦酸(ATMP)、甲胺二亚甲基膦睃(MADMP)、乙二胺四亚甲基膦酸(EDTMP)及己二胺四亚甲基膦酸(HDTMP)等4种甲叉膦酸类缓蚀剂分了的前线轨道能量、最高占有轨道、最低空轨道的组成及N、O、P杂原子的自然电荷分布、亲核Fukui指数和亲电Fukui指数.结果,这4种甲叉膦酸的缓蚀性能与其分子的能级间隙△E密切相关.△E越小,其缓蚀性能越好.其次,通过分析分子最高占有轨道、最低空轨道的组成发原子的Fukui指数,探讨此类缓蚀剂分子的反应活性位点,发现这4种甲叉膦酸是通过N、O及P原子与金属形成配位键及反馈配位键丽具有缓蚀效果.为判断缓蚀剂性能的优劣,合成新型、高效的缓蚀剂及研究药剂间的协同效应提供理论指导.     

浅析轨检车检测资料的有效利用

目前常用的轨检车系统是基于惯性基准测量原理，采用激光、摄像机和图像处理系统，通过钢轨断面轮廓图像的测量获得轨道几何尺寸等测量值，采用基于网络平台的非接触式测量系统，具有检测项目齐全、检测精度高和超限判断智能化等优点，是检查轨道偏差、指导线路养护维修和保障行车安全的现代化检测设备。本文将首先介绍轨检车的检测原理，然后探讨轨检车检测资料如何有效运用。     

高相对分子质量聚电解质的阻垢性能研究

介绍了硬垢测定法的原理与方法，测定了高相对分子质量聚丙烯酰胺和不同聚合度马一丙共聚物的阻垢性能并与垢量法的测定结果进行了比较，从分子结构和粒子间相互作用的角度讨论了阻垢过程对阻垢剂的相对分子质量要求。最后对高相对分子质量聚电解质作为阻垢剂的应用前景进行了讨论。     

5种氨基酸对铁缓蚀机理的分子动力学模拟

用分子动力学方法模拟计算了甘氨酸、亮氨酸、天冬氨酸、精氨酸及蛋氨酸5种氨基酸类缓蚀剂与Fe(100)晶面、(110)晶面及(111)晶面在酸性条件下的相互作用。结果发现,5种氨基酸与Fe的3个晶面结合能的排列顺序由小到大均为甘氨酸<亮氨酸<天冬氨酸<精氨酸<蛋氨酸;同一氨基酸分子与Fe(111)晶面结合能最大,与Fe(110)晶面结合能次之,与Fe(100)晶面结合能最小。对体系各种相互作用以及对关联函数g(r)的分析表明,结合能主要由库仑相互作用能和范德华能提供。金属Fe原子与氨基酸中的N、O及S原子形成了配位键,与Fe晶面结合的氨基酸分子构型发生扭曲变形,但形变能均远小于相应的非键相互作用能。     

“Z”型幅地下连续墙的施工工艺技术问题

结合地下铁道工程施工技术标准，重点阐述了地下连续墙中“Z”型幅的施工方法，对成槽、钢筋笼的吊装及砼的灌筑进行了较深入的研究和探讨，对今后地下连续墙中“Z”型幅的施工具有一定的参考价值。     

甲叉膦酸型化合物阻垢机理的量子化学研究

运用密度泛函（DFT）理论，在B3LYP／6-31G水平下，系统研究了ATMP，EDTMP，HDTMP，GDMP，MADMP这5种甲叉膦酸类阻垢缓蚀剂分子结构与阻垢性能之间的构效关系。结果表明，5种膦酸分子中的氮原子及膦羧基团中的氧原子上负电荷密度较大，这使得氮原子及膦羧基易与垢晶体中的钙离子发生静电相互作用，如果氮原子与氧原子间距与方解石晶体生长面上的钙离子对间距匹配，将显著增强了阻垢剂分子与特定晶面的Coulomb吸附行为，诱导垢晶体发生畸变，有效地阻止其生长。本文还利用半经验（PM3）方法对分子势能面进行扫描，得出分子能量随二面角改变的变化率，初步探讨了分子柔性、刚性对其阻垢性能的影响。