LDA光纤耦合高效率高亮度激光输出研究

为了获得LDA(激光二级管阵列)光纤耦合高效率高亮度激光输出,光纤的芯径要尽可能小,并且耦合光束的光参数积必须小于耦合光纤的光参数积,因此必须对耦合光束进行整形。通过比较,选用反射整形法将慢轴的光参数积压缩到了原来的1/4。将LDA光束与芯径400靘,数值孔径0.37的光纤进行耦合试验,得到的耦合效率约为48%,亮度达到108量级。     

用于微器件加工的AZ4620厚胶光刻工艺研究

对AE4620厚胶紫外光刻工艺进行了实验研究,探讨了其工艺特性及光刻胶层的刻蚀面形与各种工艺条件的关系,提出了刻蚀高深宽比、最佳浮雕面形所需的工艺条件.通过对光刻工艺过程的研究,可为较好地控制正性光刻胶面形,制作微机械、微光学器件提供了参考依据,对微浮雕结构的深刻蚀具有重要的指导意义.     

用灰度曝光技术改善数字光刻图形轮廓

基于空间光调制器(SLM)数字光刻技术可用于IC掩模制作或直接作为微结构的加工工具,但用数字投影光刻系统加工某些结构的二元图形时,往往难以获得预期的图形轮廓,即图形边缘处有一定畸变,特别是较低缩小倍率时。本文提出优化设计图形边缘灰度的方法来校正光刻图形的畸变。文中分析了数字光刻制作这些二元光刻图形时空间像畸变产生的物理机制,详细讨论了设计图形边缘灰度优化的规则,并以加工圆孔滤波器为例,模拟了它的数字光刻成像过程。结果表明,设计图形的边缘采用灰度曝光可使其空间像畸变减小约8个百分点,光场分布更为均匀。数字灰度曝光技术简单易行,可为改善光刻图形质量提供了新途径。     

微光斑尺寸及能量分布测量方法

本文介绍了微米和亚微米级激光聚焦光斑尺寸及能量分布的各种测试方法,分析和比较了各种方法的特点及实用性,方法适宣于对光盘存贮系统及应用激光的领域的微光斑性能的评价。     

阵列波导光栅原理、制作工艺及其性能分析

阵列波导光栅(Arrayed-Waveguide Grating,AWG)是密集型波分复用(DWDM)系统中的关键器件之一。本文论述了AWG的原理及其制作工艺(主要是反应离子刻蚀和化学气相沉积),分析了AWG的一些重要性能参数,提出了一些改进其性能的方法。最后,阐述了AWG在波长路由器、光上/下路复用器(OADM)、光交叉互连(OXC)等的应用。     

激波调制光子晶体频率转换效应的研究

研究了被激波调制的光子晶体对入射光产生的频率转换效应.建立了弹性激波调制一维光子晶体的物理模型:提出了准静态带隙结构的概念,并采用FDTD和平面波展开法计算了其光子带隙;通过数值计算和微扰分析,发现该频率转换是一个量化累积过程,并对该频率转换效应及其量化累积现象提出一种基于光子-声子相互作用和表面衰减模的解释,同时,分析了该频率转换效应的特性.     

折衍混合系统实现长焦深方法研究

通过对传统能量守恒法设计长焦深元件进行介绍与分析,根据衍射元件设计灵活的特性,提出了改进的能量守恒设计方法,利用折衍混合系统实现长焦深元件,并建立了优化的评价函数分两步对设计结果进行优化。     

深浮雕连续微光学元件制作方法

提出一种连续深浮雕微光学元件的制作方法。在移动掩模的基础上经湿法显影获得光刻胶元件良好的面形,然后结合干法刻蚀刻将图形通过蚀速比放大的办法精密传递到石英片基上,从而使最终的元件达到设计的浮雕度。作者对整个过程进行了考察和讨论,并以微棱镜为进行了实验验证中心为进一步制作大数值孔微光学元件打下了技术基础。     

编码灰阶掩模酶蚀明胶法制作折射微透镜阵列

提出一种以重铬酸铵明胶作为记录材料 ,用编码灰阶掩模曝光 ,蛋白酶溶液作为显影剂制作折射型微透镜阵列的新方法。给出了具体实验结果     

公路桥梁工程的常见病害与施工处理技术

道路桥梁工程项目,其施工流程具有一定的阶段性和复杂性,且病害问题是发生频率较高、类型较多的一类问题,这与桥梁工程本身功能和应用需求的复杂性具有一定的关系。在工程建设过程中存在着由于外部因素以及自身质量因素造成的各种病害问题,需要在施工环节通过相应的处理技术予以预防和处理,主要针对几种常见类型的工程疾病提出相应的施工处理技术。