"十一五"数据库标准发展趋势

作为国家“863”计划项目《数据库标准研究》的任务之一，《我国数据库标准体系研究报告》跟踪国际数据库标准的发展动态，根据国内外数据管理技术应用发展和标准化、产业化推进情况，从全局、系统发展的角度来研究我国数据库标准体系，从而科学地指导我国数据库系列标准的研究制定工作，为“十一五”数据库系列标准的制定奠定基础，适应国家信息资源开发和利用对系统建设技术的要求。最终目标是希望通过对标准的研究、规划和制定，引导我国数据库技术的正确发展、规范我国在信息化建设中所需的大量数据库产品，并促进我国自主数据库产业的健康发展。     

信息共享、业务协同的前提——数据标准化

阐述了数据标准化工作的概念及重要性。对数据标准化主要包括的业务建模、数据规范化、文档规范化三个阶段分别进行了详细论述。     

微带印刷电路镀膜厚度的测量

使用真空镀膜工艺，在微带印刷电路上产生的镀膜厚度，是否符合要求，将对其使用性能，如：电器性能等有很大的影响。本文提出使用测量粗糙度的仪器设备，对镀膜层厚度进行测量，着重介绍使用轮廓仪进行测量后，能取得精度高的测量数据。     

双曲抛物面的线切割加工

论述了用双曲线抛物面的直母线特性来实现双曲抛物面的线切割加工.     

冷矿筛激振器故障分析及处理

针对某厂四烧车间冷矿筛激振器轴承问题突出的现象,开展多方面的分析研究后,制定了1套改进方案。实践证明,处理措施合理有效,既降低了备件成本,又满足了生产需要,为烧结顺行高产提供了保障。     

等离子体刻蚀工艺中的OES监控技术

采用光学发射光谱(OES)原位检测技术,对等离子体刻蚀机中的等离子体状态进行实时监控,讨论了其在故障诊断、分类、刻蚀终点的判断及控制方面的应用。实验平台为在新研发的高密度等离子体刻蚀机,采用化学气体HBr/Cl₂为刻蚀气体进行多晶硅刻蚀工艺实验,实验过程中所采集的OES数据通过PCA法进行分析,得到与刻蚀过程相关的特征谱线。实验结果表明：OES技术适合于深亚微米等离子体刻蚀工艺过程的终点检测及故障诊断。最后就OES技术未来发展面临的挑战进行了讨论。