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31.
K2CO3-Na2CO3-H2O三元体系273K相平衡实验研究   总被引:1,自引:1,他引:1  
采用等温蒸发法研究了三元体系K2CO3-Na2CO3-H2O 273K时的相平衡及平衡液相的密度.利用溶解度数据绘制了该三元体系273K下的相图.研究发现:该三元体系有异成分复盐K2CO3·Na2CO3·12H2O形成;相图中有两个共饱点、三条单变量曲线和三个结晶相区.三个结晶相区分别为盐K2CO3·10H2O、K2CO3·3/2H2O和K2CO3·Na2CO3·12H2O的结晶区.实验结果表明,K2CO3对Na2CO3有强烈的盐析作用.  相似文献   
32.
通过对四川攀枝花地区海绵钛工业生产和技术状况及技术指标对比分析,阐述了攀枝花地区海绵钛发展存在的主要问题,并提出了发展攀枝花海绵钛工业展望和前景。  相似文献   
33.
林晓峰 《软件》2014,(1):121-122
网络实训室硬件设备的不足,使得教学过程中学生不能亲自动手去操作,降低了课堂教学效果,而对于这一问题,在建设网络实训时运用虚拟机技术可以很好解决,通过传统教学与虚拟技术的教学进行比较,得出虚拟技术教学的优点,并为如何运用VMware软件在网络实训室建设和教学应用提出了意见。  相似文献   
34.
环保型涂料的消光技术   总被引:2,自引:2,他引:2  
林晓峰  曾春龙 《涂料工业》2003,33(10):47-49
随着VOC排放法规的强化,现有的消光剂从技术和成本两方面均难以满足环保型涂料的消光要求。介绍了格雷斯公司推出的新型消光剂在环保型涂料(水性涂料、高固体分涂料、UV固化涂料和粉末涂料)中的应用。  相似文献   
35.
林晓峰  曾春龙 《涂料工业》2005,35(10):13-17
一般溶剂型涂料和水性涂料使用消光剂来获得低光泽或亚光效果,但对100%UV固化涂料体系,因固化时涂膜收缩很少而使其消光相当困难。尽管如此,采用特殊表面处理的消光剂仍可获得理想的亚光效果。为了获得生产上稳定的低光泽,除选用合适的消光剂外,还要考虑配方组成、施工和固化条件,甚至底材对涂膜光泽的影响。本文讨论了消光剂、配方组成、施工和固化条件等对100%UV固化涂料光泽的影响。  相似文献   
36.
认知无线电下行链路中的OFDMA资源分配算法   总被引:4,自引:2,他引:2       下载免费PDF全文
摘 要: 本文提出一种适用于下行认知无线电系统的正交频分多址接入资源分配算法,在总发射功率、误比特率和对授权用户的干扰受限的条件下最大化系统信息传输速率.本算法分两步实现:首先通过比较各认知用户在各子载波上单位信号发送条件下接收信号的信干噪比实现子载波分配;然后利用凸优化理论求解非负实数域内的比特数和功率值的最优解,并将其调整为符合实际系统需要的比特数和功率值,实现比特和功率分配.仿真结果表明,相比传统的基于频谱空洞的资源分配算法,本算法可以提供显著的系统信息传输速率增益.  相似文献   
37.
林晓峰 《园林》2009,(5):46-47
在澳大利亚昆土兰州凯恩斯市以北约27公里处有一个隐身于热带雨林中的小镇——库兰达。库兰达最早作为一个火车站始建于1850年。由于当时采伐业和采矿业是当地主要的工业,库兰达作为当时该地区唯一的交通枢纽,起到了运输和储存货物、为往来人员提供住宿,以及宣传当地土著文化的积极作用。  相似文献   
38.
重整汽油抽提蒸馏分离苯新工艺的开发与工业应用   总被引:2,自引:0,他引:2  
开发了环丁砜-COS复合溶剂抽提蒸馏回收重整汽油中纯苯的新工艺(SED),在150kt/a工业装置上应用获得成功。结果表明:所生产的苯产品,纯度达99.95%,结晶点高于5.40℃,硫质量分数小于1.0μg/g,苯收率达99.15%以上,非芳烃产品中苯质量分数低于1.0%。与采用传统的环丁砜液—液抽提相比,不仅可节省投资和占地面积,而且蒸汽消耗降低了31%,经济效益显著。  相似文献   
39.
为了实现大范围纳米计量,研制了双成像单元原子力显微镜,采用光栅作参考样品,同时对光栅和被测样品扫描成像,得到两幅具有相同横向尺度的图像,通过计算参考光栅的周期数,就能精确测定被测样品图像的尺寸。提出了一种实现大范围扫描和纳米计量的新方法,利用步进电机交替移动XY扫描器,扫描获得一系列的光栅样品图像和被测样品图像对,通过拼接对应的序列图像,可获得两幅大范围的光栅图像和被测样品图像,计数参考图像中光栅的周期数,即可测定被测图像的尺度,实现对被测图像的大范围纳米计量。  相似文献   
40.
<正> 目前传统RISC芯片(CMOS工艺)的时钟频率最高已达到40MHz,速度为25~30MIPS。如再进一步提高性能已越来越困难。因此Motorola、SUN、MIPS等公司已开始采用Bipolar/Bicmos工艺技术来制造新一代的RISC芯片,缩写为BRI-SC。其中Bipolar工艺主要是指ECL(射极耦合逻辑电路)。SUN公司目前已宣布80~100MHz,50~60MIPS的ECL RISC,并准备在1990年内推  相似文献   
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