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工业技术 | 151篇 |
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1992年 | 1篇 |
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工艺参数对Si深槽刻蚀的影响 总被引:1,自引:1,他引:0
采用Bosch技术研究了在Si深槽刻蚀中刻蚀/钝化比、刻蚀阶段钝化气体保护时间、刻蚀和钝化工艺重叠时间等工艺参数对刻蚀结果的影响。通过不同工艺条件的试验,发现刻蚀钝化比是影响侧壁结构的主要因素,其大小直接影响了深槽的垂直度;适当增加刻蚀阶段钝化气体通入时间对减小线宽损失有很大的作用,但增加过多会产生长草效应;合适的刻蚀和钝化工艺重叠时间,不仅可以减小侧壁表面的起伏度,还可以一定程度上减小线宽损失。采用刻蚀/钝化比为7:5、刻蚀阶段钝化气体通入时间为25min、刻蚀、钝化工艺重叠时间分别为0.5、1s的工艺条件,成功地实现了一个垂直度达(90±0.1)°、深40μm、线宽损失小于50nm的Si深槽刻蚀结构。 相似文献
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33.
针对高压电力设备局部放电信号受周期性窄带干扰影响大的问题,提出了一种基于广义S变换与数学形态学的局部放电窄带干扰抑制方法。该方法可以从染噪局部放电(partial discharge,PD)信号中分离出原始PD信号和窄带干扰信号的时频谱图,从而在时频域内准确辨识出窄带干扰和原始PD信号,避免强能量的窄带干扰掩盖原始PD信号时频特征的问题。再利用总体最小二乘不变旋转矢量技术准确估计窄带干扰的特征参数,以抑制染噪PD信号中窄带干扰。对仿真和实测PD信号开展窄带干扰的抑制测试,测试结果表明:该文所提方法可以有效分离出染噪PD信号时频谱图中窄带干扰和PD信号,提高了时频分析的准确率;同时相比于传统的快速傅里叶变换(fast Fourier transform,FFT)算法谱最小熵解卷积滤波法和自适应奇异值分解法,该文方法能够有效抑制小幅值的窄带干扰,具备更好的窄带干扰抑制效果,以恢复局放信号的波形特征。 相似文献
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为达到环保要求和节省成本,燃煤电厂常采用湿法脱硫不上GGH工艺.文章基于作者设计的国内首座大型玻璃钢内筒套筒式烟囱(180/Φ6.6 m),从结构总体布置、计算模型简化与计算、FRP内筒结构设计、铺层与材料设计、试验验证、连接构造等方面系统的阐述了玻璃钢烟囱的设计方法,并对需要注意的问题进行了重点说明.可供有关工程技术人员参考. 相似文献
35.
可编程控制器组成的皮革生产过程控制系统 总被引:1,自引:0,他引:1
本文介绍了一个实现皮革生产过程计算机控制的系统,给出了控制系统的组成以及为实现计算机控制而需对转鼓进行改造的方法。文章较详细地论述了实现皮革生产过程计算机控制的方法和具体调节原理。 相似文献
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37.
一种铟酞菁染料的吸收光谱及其光褪色现象研究 总被引:2,自引:1,他引:1
对一种可望应用于 6 94nm激光防护的铟酞菁染料 (InPc) ,利用玻璃模具制备了铟酞菁掺杂高分子聚甲基丙烯酸甲酯和聚碳酸酯薄膜。研究了该染料的氯仿溶液和薄膜吸收光谱 ,并分析了电子结构 ,同时推导了溶液中的光褪色机理。研究表明 ,在实验溶液浓度范围内InPc以单体形式存在 ,6 94nm处的吸收强度和窄吸收峰形符合激光防护的要求 ,而InPc薄膜 Q 带出现两个吸收强度大致相等的峰 ,吸收波长较溶液光谱有少量蓝移或红移 ,吸收带增宽 ,且在不同高分子体系中获得相同吸光强度的薄膜所需染料的量明显不同 ,这主要是由于染料分子发生光降解和聚集态不同而使薄膜光谱特点复杂化。同时 ,通过对褪色产物分析探讨了该染料分子在氯仿溶液中可能发生的光降解断裂方式 相似文献
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