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11.
在半导体制造工艺中,首先要获得一个平滑、光亮、无损伤层的表面.半导体晶片的抛光,国际上主要采用化学机械混合同时抛光.该种方法抛光的晶片,表面平整度、光洁度好,机械损伤小.据报道,目前用于砷化镓材料的抛光液配方已有一些,但都不理想.例:2Br-98CH_3OH抛光液,该抛光液存在抛光质量不稳定,有老化现象,毒性大;次氯酸  相似文献   
12.
介绍了一种利用微机实现的三相异步感应电磁泵单／双波峰焊机的控制系统,对波峰焊机的控制提出了一种新的控制方法及尝试。  相似文献   
13.
介绍了一种同时适合长短插工艺的新型波峰焊接装置的基本原理,基本构成以及主要技术特征,列出了使用该装置进行长短插工艺焊接的新方法.  相似文献   
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