微生物群落在难降解物质生物降解中的作用

分析了微生物群落在难降解物质生物降解中的重要作用．指出微生物群落可通过协调利用底物、共代谢污染物质、转移中间代谢物质等途径对难降解物质进行降解．但要获得高的去除率需对微生物群落进行优化，提高群落整体代谢活性，一般考虑成功驯化、合适的初级基质、充足的营养物质、有效的微生物群体结构等优化因子．厌氧、厌氧-好氧、限氧产甲烷系统是能对难降解物质进行有效降解的3种生态系统．     

低压膜直接过滤处理低温低浊水性能研究

通过对低压膜过滤和传统滤池过滤的滤后水水质和运行成本的比较分析，得出低压膜过滤在低温低浊水时可以取代滤池过滤的结论，低压膜过滤在保证出水浊度低于l NTU时，滤速可达20m／h，过滤周期为150h，低压膜过滤可以采用原水直接过滤，不需投加混凝剂，长期运行后没有受到较大的污染．反冲洗方式简单易行，所需压力远低于常规的膜组件．     

几种固定化耐冷菌载体的比较研究

向低温污水中投加耐冷菌，污水中有机物的去除率可大幅提高，但菌体流失快，重复使用性差．结合吸附法与包埋法，对聚胺脂泡沫、破碎陶粒、柱状活性炭等几种载体进行生物固定化，形成生物载体．实验结果表明固定化生物载体的效果取决于载体的孔径及表面的粗糙程度，载体固定化效果为：聚胺脂泡沫＞陶粒＞活性炭．经过60d的连续运行，载体上的耐冷菌的活性良好且有大量的增殖，生物载体对污水中有机物的去除效果为：聚胺脂泡沫＞陶粒＞活性炭。     

TiO2光催化降解焦化废水的研究

焦化废水成分复杂、多变，对环境有较大危害，是一种很难处理的工业废水，已经引起了国内外学者广泛关注．文中选用TiO2作为光催化剂，光催化降解焦化废水，结果表明，TiO2对焦化废水具有显著的光催化降解作用．通过实验．考察了焙烧温度、光照时间、溶液初始pH值、初始溶液浓度及投加氧化剂等因素对苯酚去除效率的影响，从而确定处理的最佳处理条件．最后，还指出了该技术所需要研究的主要技术方向．     

蒸发时间对两级凝胶法制备的聚醚砜膜结构和性能的影响

主要探讨了蒸发时间对用两级凝胶法(dual—bath coagulation method)所制得的聚醚砜(PES)超滤膜的性能和结构的影响．结果表明，随着蒸发时间的延长，水通量先减小后增大；肌肝和尿素去除率均是先升高而后降低，然后再升高的趋势；膜的孔隙率上升，平均孔径下降．在蒸发时间为10s时，肌肝和尿素去除率最高，且水通量适中，是血液净化用聚醚砜膜的最佳成形条件．     

再生胶废水的处理工艺试验研究

对再生胶废水的处理工艺进行了实验室小试研究，通过比较吸附剂、混凝剂和氧化剂的净化性能，最终确定最佳处理工艺为煤渣处理工艺．把该工艺流程应用于工业试验，取得了预期的效果，其处理出水CODcr浓度最低为49．9mg／L，CODcr去除率最高为99．33％，已可达到国家污水排放一级标准．     

脉冲电晕反应器分解含氯有机废气实验研究

采用线-筒式电晕反应器对二氯甲烷和三氯乙烯有机废气的去除效果进行了实验研究.实验考察了峰值电压、脉冲频率、停留时间等因素对去除率的影响.研究结果表明峰值电压能显著影响有机废气的去除率,当峰值电压从17.5 kV提高到25 kV时,二氯甲烷和三氯乙烯的去除率分别从8%和39%上升到31%和76%.随着脉冲频率的提高,有机物的去除率也上升.实验还发现,增加气体停留时间,有利于提高二氯甲烷和三氯乙烯的去除率.通过FR-IR对分解产物的分析,发现最终分解产物为CO,CO2,H2O和HCl.     

Fenton与二氧化氯去除垃圾渗滤液中COD研究

垃圾渗滤液是一种成分复杂的高浓度有机废水,若不妥善处理,会对地下水、土壤及周围环境造成严重污染.采用Fenton法和ClO_2氧化法处理垃圾渗滤液,考察了pH、药剂投加量及反应时间对COD去除率的影响,确定了最佳反应条件,并对两种方法进行了对比研究.实验结果表明:Fenton法的最佳条件为:pH=4,H_2O_2投加量为20mL/L,n(H_2O_2)∶n(Fe~(2+))=4∶1,反应时间为60min.ClO_2氧化法的最佳条件为:ClO_2投加量1 000mg/L,反应20min.在最佳条件下,两种方法对渗滤液中COD去除率分别为70.18%,46.21%.Fenton法适合在pH=4的酸性环境,ClO_2适合pH范围较广.ClO_2法的成本较Fenton法略高,但Fenton法过程中产生的污泥需要进一步处理.     

化学机械研抛过程流体和磨粒分布特性仿真

为深入理解化学机械抛光过程中的摩擦磨损机理,仿真研究了不同工况对抛光作用的影响规律.建立考虑多相流和离散相的三维CFD模型,研究不同工况下晶片和抛光垫间抛光液的速度和压力分布以及抛光磨粒的分布规律.结果表明:膜厚越小,抛光垫和晶片的转速越大,磨粒的分布密度越小.对流体速度和压力分布规律以及磨粒分布特性进行仿真分析,研究抛光过程中磨粒对晶片表面的动压作用过程.用疲劳断裂能量守恒理论,建立可定量分析各种工况下材料去除率的预测模型,采用Matlab软件对去除率模型进行仿真计算,得到不同工况下碳化硅晶片的去除率曲线.结果表明,抛光垫转速越大,膜厚越小,材料去除率越大,但去除率随着抛光的进行呈现减小的趋势.相比抛光垫转速对去除率的影响,膜厚对去除率的影响较小.     

缺氧-好氧两级MBBR处理制药废水的试验研究

根据某制药废水的水质水量特点,采用缺氧-好氧两级MBBR对制药废水进行了试验研究,考察了温度和pH对硝化反应的影响以及主要污染物CODcr和NH_4~+-N的去除效果和负荷关系。结果表明,在两级MBBR总HRT为6.75~9 h,CODcr800~1 100 mg/L、NH_4~+-N在40~60 mg/L的水质条件下,该工艺不但能够稳定去除CODcr,且能够高效的去除NH_4~+-N,平均去除率分别能够达到87%和91.5%,且系统脱除CODcr和NH_4~+-N的负荷高,系统CODcr容积负荷平均为2.2 kg COD/(m~3·d),填料表面负荷平均为15.8 g COD/(m~2·d)。NH_4~+-N容积负荷平均达到0.13 kg NH_4~+-N/(m~3·d),填料表面负荷平均达到0.89 g NH_4~+-N/(m~2·d)。