煤泥水压滤滤饼孔隙结构特征研究

滤饼的孔隙结构是影响煤泥水过滤效果的关键因素,但煤泥滤饼孔隙结构测量中存在滤饼结构易损坏和煤颗粒与孔隙难区分的难题。为了深入研究煤泥水压滤滤饼孔隙结构特征,建立了煤泥滤饼固化装置与方法,利用偏光显微镜研究了入料中-0.074 mm粒级含量、过滤压力对煤泥滤饼孔隙结构的影响。结果表明:随着入料中-0.074 mm粒级含量增加,滤饼孔径、孔面积和孔隙率降低速率变缓,孔隙孔径分布范围变窄,孔隙构成中的小孔径孔隙所占比例增加,孔隙截面边界分形维数变大,滤饼孔隙截面边界更曲折,孔隙结构更复杂;煤泥水过滤压力增加主要压缩滤饼中的大孔径孔隙,过滤压力越大,滤饼孔隙压缩越严重,滤饼孔隙率越低,孔隙截面边界分形维数越大,滤饼孔隙边界越曲折,孔隙结构越复杂。     

反应堆堆外中子剂量测量技术试验验证

堆外中子剂量测量技术在反应堆压力容器辐照监督中有广泛的应用。本文介绍了在国内某试验堆上进行的堆外中子剂量测量技术验证试验及其结果。比较了堆外中子剂量测量所用探测片活度的理论计算值、实测值及解谱计算结果,同时分析对比了试验中各辐照位置处中子能谱的理论计算值及解谱结果。结果表明,基于测量值的解谱结果与理论计算结果符合良好。堆外中子剂量测量技术可以有效完成中子能谱测量。     

铝合金建筑型材氧化焊合线缺陷分析

氧化型材焊合线缺陷问题一直是生产过程中最令人困扰的问题.本文主要针对氧化型材焊合线问题进行的研究,通过调整模具结构,优化挤压工艺参数,最终达到避免焊合线缺陷的效果.     

核设备弹塑性疲劳分析方法研究

核电设备在运行寿命期间承受温度、压力变化恶劣的瞬态,应力交变幅值通常会超过材料的屈曲极限,此时简化弹塑性疲劳分析很难满足ASME规范要求。本文基于应变的塑性疲劳分析研究了去除简化弹塑性疲劳分析的保守性,并对蒸汽发生器给水管与管接头的塑性疲劳分析进行了研究。结果表明塑性疲劳很好地去除了简化弹塑性疲劳分析带来的保守性,本文方法很好地解决了工程实践中恶劣瞬态条件下的疲劳问题。     

铌基高强合金的微观组织和力学性能

按预定成分制备Nb-Ta-W-Zr预合金坯条,经二次真空电子束熔炼、大变形量锻造开坯加工成合金棒材。用扫描电镜、Olympus光学显微镜、万能电子拉伸试验机和真空高温拉伸试验机对该合金的微观组织和力学性能进行研究。结果表明:该合金是固溶强化和第二相沉淀强化共同作用的高强铌合金,在1300℃仍有较高的强度和塑性。     

有机硅透明树脂的研制及应用

以甲基三乙氧基硅烷为基础原料，合成具有较高硬度，高抗氧化性，高耐磨的透明有机硅树脂。     

高效液相色谱法测定四溴双酚A-双(2,3-二溴)丙醚

采用高效液相色谱法测定塑料产品中的溴系阻燃剂:四溴双酚A-双(2,3-二溴)丙醚(TBBPA-bis)。样品经索氏提取后,经C18色谱柱分离,乙腈和水以95∶5(v/v)的比例混合作为淋洗液,220 nm波长检测。该方法的线性范围为0.1~10.0 ng/μL(r=0.9998);检出限为0.04 ng/μL;加标回收率为83.7%,相对标准偏差为3.8%(n=6)。该方法能准确、简便、灵敏的检测塑料产品中的溴系阻燃剂四溴双酚A-双(2,3-二溴)丙醚(TBBPA-bis),满足欧盟指令关于溴系阻燃剂的检测限量要求。     

铌及其合金高温抗氧化涂层研究

主要介绍了铌及其合金的氧化机理和铌合金高温表面涂层保护的3方面技术—抗氧化金属与合金涂层、金属间化合物涂层、复合防护涂层以及目前存在的主要问题,并简要的提出了高温抗氧化涂层的发展方向。     

催化剂配方和操作参数对ARGG丙烯产率的影响

中国石油大庆炼化公司1.8 Mt/a ARGG装置于1999年建成投产,主要以大庆常压渣油和减压渣油为原料,生产富含丙烯的液化石油气,并生产高辛烷值汽油。为满足清洁汽油生产的需要,2009年该装置进行了MIP-CGP技术改造。介绍了1.8 Mt/a ARGG装置催化剂配方调整和操作条件的优化情况。结果表明:反应温度522±2℃、剂油比6.2～6.7、催化剂活性61～62是该装置生产丙烯最合适的操作条件。催化剂择形分子筛ZSM-5的质量分数为5%时丙烯产率最高,过低时丙烯产率低,过高时干气、焦炭产率高。在保证液体收率基本不变的条件下,丙烯产率由8.65%提高到9.5%,全年多产丙烯19.7 kt,装置经济效益达到2 878×104RMB$。     

300mm硅片精密化学机械抛光机几何参数优化(英文)

对于评价用于极大规模集成电路(ULSI)生产的300 mm硅抛光片的表面质量,需要关注两个关键参数即:SFQR和GBIR。在中国电子科技集团第四十五研究所研发的中国第一台最终化学精密抛光机的验证过程中,我们发现为了提高硅片表面的几何参数,必须监控抛光前硅片的形貌,并根据不同的硅片表面形貌来改变抛光头的区域压力。通过深入分析抛光前硅片的表面形貌,我们发现当硅片形貌为凹陷形状时,抛光后的硅片表面将严重恶化。由此,根据每个硅片不同的形貌,我们用特殊设计的抛光头来调整背压的区域分布,然后再进行抛光。最终,经过抛光头区域压力调整后的硅片几何参数比调整前得到了大幅提升,并已经能够满足我们的产品指标并可以用于生产。