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超细BaTiO3粉体制备的研究进展 总被引:3,自引:0,他引:3
综合评述了超细酸钡BaTiO3粉体制备目前采用的各种方法,包括共沉淀法、微乳液法、柠檬酸法、草酸盐法、水热法、溶液热合成法、Sol-gel法和金属有机物热解法和有机盐-氢氧化物法.评述了目前对先驱体溶液化学对溶胶的形成、溶胶凝胶转变、粉体的形成影响以及晶粒尺寸和粒子尺寸与粉体结构的关系. 相似文献
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以氯化钐为起始原料,采用溶胶-凝胶法在玻璃和Si(100)基板上制备了Sm2O3光学薄膜,在300~800℃对薄膜进行1~3 h热处理.采用X射线衍射、原子力显微镜和紫外-可见自记式分光光度计等对薄膜的结晶取向、显微结构和光学性能进行了表征.结果表明:Sm2O3薄膜在玻璃基板和Si(100)基板上均表现出沿(311)晶面定向生长的特征;Si基板更有利于生长致密而且结晶良好的薄膜;所制备的薄膜对紫外线有强烈吸收作用,而对可见光有较好的透过作用,随着热处理温度的升高,薄膜结晶性变好,取向性增强,光吸收性能增强,薄膜的禁带宽度减小. 相似文献
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采用CVD和PVD法制备TiN.TiC.TiCN.TiAlN等硬质薄膜涂层材料已经在工具、模具、装饰等行业得到日益广泛的应用.但仍然不能满足许多难加工材料.如高硅铝合金,各种有色金属及其合金,工程塑料,非金属材料.陶瓷,复合材料(特别是金属基和陶瓷基复合材料)等加工的要求。正是这种客观需求导致了诸如金刚石膜、立方氮化硼(C-BN)和碳氮膜(CNx)以及纳米复合膜等新型超硬薄膜材料的研究进展。笔者对这些超硬材料薄膜的研究现状及工业化应用前景进行了简要的介绍和评述。 相似文献
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功能薄膜的图案化是微电子加工中不可或缺的工序,目前已经成为制约我国微型化集成电路发展的关键因素。本研究以制备低成本且高质量的图案化In2O3:Sn薄膜为目的,摒弃常规且工艺复杂的干法刻蚀或湿法刻蚀的研究思路,转而向一种化学修饰的溶胶凝胶技术探索。利用化学修饰后的纳米级溶质颗粒的紫外感光特性,以及曝光前后溶质颗粒在有机溶剂中发生的溶解度变化,通过溶胶凝胶工艺成膜,后经曝光、显影、热处理等工序,形成图案化的In2O3:Sn薄膜。重点探索了显影剂配方对薄膜图案制备的影响规律。该方法去除了包含光刻胶制备、剥离以及刻蚀等一系列复杂工序,薄膜图案化制备简单且质量较高,是一种新的值得继续探究并广泛推广的薄膜图案化技术。 相似文献
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超声功率对合成ZnS纳米晶的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
以无水氯化锌、硫代乙酰胺等为起始原料,采用声化学法制备了硫化锌(ZnS)纳米晶。利用X射线衍射、透射电子显微镜对样品进行表征,研究了超声功率对合成产物的粒度及其反应速率的影响。结果表明:所制备ZnS纳米晶粒径在10nm左右,为α-ZnS纤锌矿结构,六方晶系,形貌为球形或近球形。随超声功率增强,ZnS纳米晶晶粒尺寸略有减小。反应时间小于110min时,随超声功率增加,产物的合成速率增大。此后,随着反应时间的延长,合成速率随超声功率的增大出现极值,当反应时间超过110min,反应速率在超声功率为300W处出现极大值。 相似文献
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以NH4VO3、LiCl和NiCl2等为起始原料,采用声化学合成方法制备了LiNiVO4纳米晶。研究了超声功率对合成产物的物相、显微结构和合成活化能的影响。结果表明:随超声功率增强,合成的LiNiVO4纳米微晶颗粒纯度提高。粒度降低,当超声功率由100W增加到300W时,其合成活化能由96、2kJ/mol降低到47.7kJ/mol。 相似文献