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1995年 | 3篇 |
1994年 | 2篇 |
1993年 | 2篇 |
1991年 | 1篇 |
1987年 | 1篇 |
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51.
本文借助可视化手段,针对平行流场和蛇形流场,实验研究不同放电电流密度、甲醇浓度、进料温度和入口流量对液相进料直接甲醇燃料电池阳极流场流动阻力特性的影响.结果表明:放电电流密度增加,流场压降随之增加,小电流放电,蛇型流场较平行流场压降增加慢,当超过某一值时,蛇型流场的压降增加较平行流场快;随甲醇浓度的提高,进出口压降均略有减小,且两种流场压降变化趋势一致;随进料温度升高,平行流场压降逐渐增大,蛇彤流场压降变化较小;随着甲醇溶液流量增大,平行流场和蛇行流场压降均逐渐增人,平行流场增加缓慢,蛇形流场压降增加速度远大于平行流场. 相似文献
52.
干涉仪环境振动的外差检测与自适应控制 总被引:8,自引:6,他引:2
测试环境的微振动干扰会引起干涉图的抖动,影响移相干涉仪的测量准确.设计了一种内嵌于移相干涉仪的外差测振光路,对干涉仪所受环境微振动进行实时检测;采用单片RF/IF集成芯片对两路40 MHz的模拟外差信号直接进行比相,简化了通常使用的数字测相方法.在测得环境振动信息后,运用DSP技术和自适应信号处理的方法,实现了基于PZT移相器的自适应振动控制,实验结果表明干涉仪对幅频积不大于100 waves·Hz的环境振动的抑制能力达-39 dB. 相似文献
53.
根据不确定度原理合成不同性质误差 总被引:3,自引:1,他引:2
按国家标准或规程得到的仪器的误差属于不确定度的B类评定、平均值的标准偏差属于平均值的标准不确定度的A类评定,根据《测量不确定度表示指南(1993)》,利用标准不确定度的合成方法规范直接测量的不同性质误差的合成. 相似文献
54.
小学三年级珠心算数学10道模拟竞赛题,涉及整 数与小数的四则运算和简单几何图形的面积计算。其 中很多题从不同角度分析,根据数量关系有多种算 法。还有智力题,很有情趣。希望同学们结合自己答题, 对比参照,区别异同,找出最佳算法。 一、最小和最大的四位数分别是1,000和9,999 在黑龙江省珠算协会监制《四位隔档珠心算算盘》 上,可以清楚看出只用两颗算珠分为三种情况表示十 四个四位数: 相似文献
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56.
异或链具有灵活、易编辑、高效率、低存储的特点.在将异或链与传统双向链表的对比中,异或链具有较为明显的优势.在药性判别模型的建立过程中,采用异或链和传统双向链表来处理大量药性数据,使得药性预处理工作变得更加高效、方便、灵活、准确.效率对比结果表明异或链比传统双向链表在药性预处理中快25.7%. 相似文献
57.
58.
利用氧化石墨烯(GO)、PtCl62-、AuCl4-作为前驱体,在-0.4 V条件下,采用一步电化学还原法对GO和金属前驱体进行同时还原,成功制备了花瓣状的Pt-Au-GO纳米结构;同时利用伏安法研究了该催化剂对葡萄糖氧化的电催化性能,结果表明,此纳米结构对葡萄糖氧化反应表现出很好的电催化性能;据此构建了无酶葡萄糖传感器,该传感器在较低的电位下(-0.1 V)对葡萄糖的线性检测范围为1.0~25.0 mmol/L,响应灵敏度为26.3μA cm-2(mmol/L)-1,检出限为4.0μmol/L(S/N=3),且传感器具有很好的重现性、稳定性和选择性,可用于实际样品的分析检测。 相似文献
59.
本文采用直流电弧等离子体喷射化学气相沉积法(DC Arc Plasma Jet CVD),在氢气和氩气的高温等离子体作用下直接分解硝酸镁,在Mo衬底上制备了单晶MgO纳米带,并采用SEM、TEM及XRD等测试手段进行了形貌与结构表征,研究了生长时间对MgO纳米带形貌的影响。结果表明,生长时间为0.5 min时,生长出顶部带有Mo纳米颗粒的“蝌蚪状”MgO纳米带,而整个纳米结构被较多的非晶MgO覆盖;当生长时间增加到2 min时,顶部的Mo纳米颗粒几乎脱落,同时长出若干个纳米带,形成“树枝状”;生长时间进一步增加到5 min时,形成完整的“带状”,其宽度约30~50 nm;而生长时间达到12 min时,纳米带又转变为“棒状”。机理分析表明,Mo催化VLS生长模式和VS生长模式共同作用下生长了MgO纳米带。另外,通过FTIR谱结合PL谱分析了缺陷及其引起的光致发光性能。由于MgO纳米带存在低配位氧离子(OLC2-)空位等结构缺陷,具有紫蓝发光特性,而随着生长时间的增加,结构缺陷变少,随之紫蓝发射峰强度变弱。本文首次采用该方法制备了单晶MgO纳米带,该方法工艺简单,生长速率快,是非常经济、有效和环境友好的方法。 相似文献
60.
GaAs中的离子注入技术 总被引:1,自引:0,他引:1
在GaAs集成电路和器件研制中,离子注入是关键技术之一.介绍了用离子注入GaAs形成n型和p型区,以及离子注入p型和n型GaAs形成绝缘层、形成n+GaAs深埋层等重要技术.对有关物理机制进行了讨论并提出了一些新见解;该离子注入新工艺已经应用于GaAs器件和集成电路的研制,获得了多种新型器件. Optical and electrical properties of Si GaAs wafers implanted with Si+, S+, Be+, Mg+, B+, O+ have been investigated in this paper. 相似文献