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通过测定Tafel极化曲线、交流阻抗谱和进行盐雾试验,研究了新型三价铬彩色钝化剂SF-571和蓝白钝化剂SF-572对镀锌层耐蚀性能的影响,并与进口钝化剂进行对比。氯化钾镀锌工艺为:KCl200g/L,ZnCl250g/L,H3BO335g/L,柔软剂30mL/L,光亮剂1.5mL/L,25°C,25min,电流密度2A/dm2。电化学分析表明,所有镀锌层钝化膜在1%NaCl溶液中均存在钝化现象,采用自制钝化剂SF-571和SF-572所得膜层的耐腐蚀性能达到或优于用进口钝化剂所得膜层。对比膜层的表面形貌可知,自制钝化剂钝化所得膜层表面更平整、致密。 相似文献
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目前,添加剂对镀锌的作用及其机理说法不同.用线性扫描法、循环伏安法和计时电流法分别研究了聚乙二醇400(PEG400)及其与苄叉丙酮(BA)复配在氯化钾(KCl)溶液中对锌电沉积的影响;根据Scharifker-Hills成核模型拟合了电流-时间数据.结果表明:PEG400和BA混合比单加更能增大锌在KCl溶液中电沉积的过电位,能更有效地抑制析氢反应;锌的电沉积机理在一定程度上取决于所加入的添加剂,仅添加PEG400,锌电沉积机理与无添加剂的一样,都是晶核瞬时形成和成长的过程,PEG400和BA同时加入,锌的电沉积机理是晶核连续形成后转为晶核瞬时形成.本研究结果有助于氯化钾镀锌高效添加剂的开发. 相似文献
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用交流阻抗结合循环伏安方法研究了硫酸溶液中V(IV)/V(V)电对在碳纸电极上的阻抗特性。结果表明,碳纸电极在开路电位[0.2V(vs.SCE)]下仅表现为–COH/–C=O电对的氧化还原行为。在极化电位0.7-1.2V下测得的交流阻抗是由于V(IV)/V(V)电对的氧化还原行为引起的。极化电位对V(IV)/V(V)电对的交流阻抗参数影响很大,电荷转移电阻及双电层电容在0.9V的极化电位下出现最小值,而扩散电容在此电位下则有极大值,这种影响规律与通过控制V(IV)和V(V)离子在电解液中的比例能构筑不同开路电位的钒电解液中所得的规律相同。 相似文献
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光诱导沉积技术因具有可以不用屏蔽或遮盖也能使金属离子在材料表面沉积出各种图案的优点,而成为微电子领域和光伏领域替代传统丝网印刷技术制备选择性图案或者使图案金属化的方法。本文回顾了光解型和光生电子型光诱导沉积技术的发展历程,指出了存在的问题。认为镀液稳定性研究,防扩散层与基体结合力的提高,镀层机械性能和电气性能的改善,以新的镀种取代贵金属,以及产品寿命的延长,是今后的发展方向。 相似文献