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相似文献
 共查询到20条相似文献,搜索用时 46 毫秒
1.
报道了大面积(2790cm2)集成型a-SiC:H/a-Si:H叠层太阳电池的研制及稳定性实验结果,讨论了限制该电池效率的一些因素。实验电池的性能参数:Voc=40.8V,ISC=530.40mA,FF=49.4%,有效面积(2280cm2)光电转换效率EF=4.69%(AM1.5,100mWcm-2,25℃)。制备出光电子学性能优良的a-SiC:H薄膜及解决电池内部n/P结的接触问题是提高该电池性能的关键。  相似文献   

2.
用电子束加热真空蒸发法(EBV法)制备了厚度为350nm的ZnIn2S4薄膜。研究了最佳成膜工艺条件和最新电子能谱分析结果;通过不同气氛处理可以控制材料的导电类型,典型膜的电阻率为2.5×10^-1Ω.cm,Hall迁移率为52cm^2.V^-1.s^-1,载流子浓度为1.42×10^17cm^-3,禁带宽度为2.13eV。探讨了ZnIn2S4膜的导电机理,并制作了ZnIn2S4-Si太阳电池。  相似文献   

3.
快速汽相沉积法制备硅薄膜太阳电池   总被引:1,自引:1,他引:0  
对在重掺杂抛光单晶硅衬底上用RTCVD法形成硅薄膜太阳电池进行了研究。衬底为〈100〉晶向p+ + 型重掺硅片,电阻率为5×10- 3Ωcm 。主要工艺过程为:在衬底上生长一层硅薄膜同时掺硼,膜厚38μm ,扩磷制备p-n 结,背面蒸Al及Ti/Pd/Ag 制背电极,正表面在扩散后生长一层SiO2 ,前面用光刻剥离法制备Ti/Pd/Ag 电极,制成的1cm 2 太阳电池,开路电压VOC= 612.8m V,短路电流ISC= 29.3m A,填充因子FF= 0.7579,效率η= 13.61。对一些影响电池特性的因素进行了研究,发现硅薄膜的掺杂浓度、发射层的掺杂浓度以及减反射层都对太阳电池的特性有较大影响。  相似文献   

4.
带有缓变层的大面积集成型a—Si:H太阳电池的研制   总被引:1,自引:1,他引:0  
杨红  于化从 《太阳能学报》1994,15(3):235-239
报道了把缓变层用于大面积(2790cm^2)单结集成型a-Si:H太阳电池板工业化生产的研究工作。分析了它对太阳电池板性能参数Voc,Isc、FF、η的影响和对提高a-Si:H太阳电池板转换效率的作用。试验所得电池板的平均开路电压达25.1V,平均转换效率达6.2%,分别比同时生产的无缓变层电池板的水平提高9.13%和16.98%。试验中最好的电池板开路电压达25.6V,转换效率达6.6%。  相似文献   

5.
对掺硼(B)材料的固相晶化进行了研究。通过对不同掺B浓度的a-Si:H样品退火前后的X射线衍射,光吸收系数、电导率、激活能及Hall迁移率的测量发现,B原子在固相晶化过程中起晶核作用,晶化后的样品具有较高的迁移率及电导率,同时具有较大的禁带宽度。当掺B浓度仅为0.17%时,晶化后样品的电导率4.35scm^-1,迁移率为140cm^2V^-1S^-1,禁带宽度E04=2.16eV。该材料是一种较好  相似文献   

6.
报道了把缓变层用于大面积(2790cm2)单结集成型a-Si:H太阳电池板工业化生产的研究工作。分析了它对太阳电池板性能参数Voc、Isc、FF、η的影响和对提高a-Si:H太阳电池板转换效率的作用。试验所得电池板的平均开路电压达25.1V,平均转换效率达6.2%,分别比同时生产的无级变层电池板的水平提高9.13%和16.98%。试验中最好的电池板开路电压达25.6V,转换效率达6.6%。  相似文献   

7.
掺硼(B)非晶硅(a-Si:H)材料固相晶化(SPC)的研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
对掺硼(B)材料的固相晶化进行了研究。通过对不同掺B浓度的a-Si:H样品退火前后的X射线衍射、光吸收系数、电导率、激活能及Hall迁移率的测量发现,B原子在固相晶化过程中起晶核作用,晶化后的样品具有较高的迁移率及电导率,同时具有较大的禁带宽度。当接B浓度仅为0.17%时,晶化后样品的电导率为4.35scm-1,迁移率为140cm2V-1s-1,禁带宽度E04=2.16eV。该材料是一种较好的太阳电池窗口材料。  相似文献   

8.
用蒸发硒化法制作的基于CuInS32(CIS)膜的CIS/CdS太阳电池,面积为0.1cm^2和1cm^2电池的转换效率分别达到7.62^和7.28%,5cm×6cm电池的平均效率达到6.67%,对制备工艺及关键技术,电池性能和退火效应进行了分析探讨。  相似文献   

9.
根据半导体材料的性能参数,考虑光电压V和耗尽区宽度W的变化对光电流JL的影响,较严格地计算了CdS/CdTe和CdS/Cu2S两种异质结单晶薄膜太阳电池的光伏特性曲线。然后在的条件下,对由上述两种异质结构成的二重结太阳电池的CdTe、Cu2S厚度进行匹配,计算各种组合下二重结太阳电池的光伏特性曲线。理论证明最佳匹配厚度Hmax约为9.06μm,最大短路电流、开路电压、转换效率分别为14.22mAcm-2、1.3V和14、68%。  相似文献   

10.
用PECVD方法制备出高电导率(~0.2scm-1)、宽带隙(~2.2eV)的P型微晶化硅碳合金(p-μc-SiC:H)薄膜材料。利用p-μC-SiC:H/p-a-Si:H复合结构做a-Si太阳电池的窗口材料,明显改善了SnO2/p之间的接触特性,从而使10cm×10cm单结集成型电池的填充因子从0.70以下提高到0.72。  相似文献   

11.
将Si3N4与Si粒混合,在单晶炉或快速热退火炉中分别集装熔化法或平铺熔化法,制备太阳电池用硅珠,试验了不同工艺条件对硅珠品质的影响,并制作了硅珠太阳电池(组件)。  相似文献   

12.
PERL硅太阳电池的性能及结构特点   总被引:2,自引:1,他引:2  
报道了PERL硅太阳电池的研制结果,在AM1.5、25℃条件下,电池效率η=23.76%。阐述其结构设计上的主要特点,并分析了高性能的机理。  相似文献   

13.
空间菲涅耳透镜的材料与工艺要求分析   总被引:1,自引:0,他引:1  
该文根据空间菲涅耳聚光透镜的使用要求和空间环境条件,比较了现有光学材料的性能特点,分析了材料折射率、透镜尖劈尺寸和面形误差对透镜光学的影响,进而对透镜成型和安装工艺提出了要求。  相似文献   

14.
硅纳米线阵列的制备及其光伏应用   总被引:2,自引:0,他引:2  
采用金属催化化学腐蚀方法在单晶硅片表面可以制备出大面积排列整齐、与原始硅片取向一致的硅纳米线阵列,得到的硅纳米线单晶性好、轴向可控且掺杂浓度不受掺杂类型和晶向的影响。基于此,我们成功制备了大面积硅纳米线p-n结二极管阵列。此外,硅纳米线阵列结构具有优异的减反射性能,探索了其在太阳电池中的应用。目前初步研制出了基于硅纳米线阵列的新型太阳电池,获得了最高为9.23%电池效率。同时也研究了限制硅纳米线阵列太阳电池转换效率的主要因素,为以后的应用做了前期的探索工作。  相似文献   

15.
类金刚石薄膜可见光透过特性的研究和应用   总被引:1,自引:0,他引:1  
  相似文献   

16.
针对p型PERC单面单晶硅光伏组件和n型双面单晶硅光伏组件,利用光伏组件户外实证测试系统,分析了2016年12月15日~2018年7月20日期间,上海市嘉定区某屋顶的地面采用白板背景时双面和单面组件,以及水泥背景时双面组件的等效发电时长,并对白板背景和水泥背景时双面组件较单面组件的发电量增益情况进行了分析;计算了组件的PR值;分析了阴天和晴天时组件最大输出功率与组件背板温度、太阳辐照度和环境温度的关系;最后对比了单面和双面组件运行13个月后的衰减值。该实证结果为单面和双面组件的户外实证发电性能提供了数据支撑,并对双面组件较单面组件的发电量增益情况进行了有效证明。  相似文献   

17.
聚合物衬底非晶硅太阳电池的研制   总被引:7,自引:1,他引:7  
报道了高透过率、耐高温聚酰亚胺薄膜的制备方法和性能。以该膜为基体制成的柔性衬底非晶硅太阳电池,转换效率达4.63%,重量比功率达231.5mW/g。  相似文献   

18.
王涛  郑启光 《太阳能学报》1995,16(3):279-282
采用大功率连续CO2激光熔凝硅粉末,生长得到纯度较高的太阳能多晶硅材料,探讨了影响太阳电池效率的少子复合中心和微观组织结构以及激光消除复合中心和改善微观组织结构的机理。在实验中获得了杂质浓度低且呈较整齐分布的柱状晶太阳能多晶硅材料。  相似文献   

19.
温度对多晶硅太阳电池性能影响的研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
对商业用冶金级和太阳能级多晶硅太阳电池不同温度下的性能参数做了分析,验证了太阳能级硅电池的性能优势。实验结果表明,随着温度T的升高,开路电压V_(oc),最大输出功率P_m,转换效率η近似线性下降,短路电流I_(sc)近似线性上升,填充因子FF的实验值和理论值变化趋势一致,当T40℃时,FF随T升高明显下降。对开路电压V_(oc)随温度T升高的线性下降速率dV_(oc)/dT进行定量分析。dI_(sc)/dT变化量与dV_(oc)/dT相比可以忽略。  相似文献   

20.
铸造多晶硅晶界的EBSD和EBIC研究   总被引:3,自引:0,他引:3  
利用电子背散射衍射(electron back-scattered diffraction,EBSD)和电子束诱生电流(electron beam induced cur-rent,EBIC)技术对铸造多晶硅的晶界类型和晶界复合特性进行了研究。EBSD分析显示铸造多晶硅中的大部分晶界为大角度晶界(tθ>10°),且以特殊晶界Σ3和普通晶界为主,同时还存在少量小角度晶界(tθ>10°)。EBIC观察发现洁净晶界(包括大角度和小角度晶界)在300K下的复合能力很弱,晶界类型对其复合特性没有明显影响。洁净的小角度晶界本征上在100K下具有强复合特性,而大角度晶界则不具有;在引入金属沾污后,小角度晶界对金属杂质的吸杂能力最强。小角度晶界的复合特性可能与其界面特殊的位错结构有关。  相似文献   

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