Pb-Sn-Cu合金共沉积工艺研究

为了改善内燃机滑动轴承镀层的减摩性能,采用在合金基体上镀覆三元合金的工艺,在氟硼酸盐镀液体系中实现了Pb-Sn-Cu三元合金表面电镀.研究了镀液体系中镀液成分及工艺参数对Pb-Sn-Cu三元合金镀层成分及含量的影响.结果表明,镀液成分及电镀工艺参数对镀层成分及含量有较大的影响.镀液成分及电镀工艺参数的试验结果表明,镀液的最佳组成及工艺参数为:200 g/L Pb2+,25 g/L Sn2+,2.5 g/LCu2+,4g/L对苯二酚,2.5 g/L蛋白胨,100 g/L游离HBF4,30 g/L H3803,温度为25℃,电流密度6.0A/dm2.     

三价铬镀液中配体的作用

三价铬镀铬液中的配体对镀液的稳定性和沉积速度影响极大,从三价铬镀液的化学和电化学特性分析入手,介绍了镀液中所加配体(如羧酸、羟基羧酸、氨基羧酸及其盐)的作用:(1)与三价铬离子形成活性配位离子加快电沉积速度;(2)抑制Cr3 的羟桥化反应;(3)可以掩蔽杂质金属离子,减少杂质金属离子对镀层质量的干扰,使电镀能持续进行;(4)可以稳定镀液.特别指出,只有选用能形成活性配位离子的配体,使电镀能持续进行,才能获得性能良好的厚铬镀层.     

BNF体系低温低浓度Ni-Fe合金电镀的研究

本文研究开发了BNF体系低温低浓度装饰性Ni-Fe合金电镀工艺.将操作温度从60℃降到30-35℃,允许D_k上限仍可达7-8A/dm~2.讨论了镀液组分的影响.测定了镀液和镀层性能.试验了杂质离子的影响和添加剂的消耗速度.     

光亮镍镀液污染的净化处理

1　前　言电镀光亮镍酸性镀液在使用过程中往往被杂质所污染 ,导致镍镀层产生麻点、针孔、脱皮、粗糙、发黑、条纹等现象 ,使镀镍层内应力增大 ,结合强度和镀层耐蚀性降低 ,严重影响到镍镀层质量。究其原因 ,除镀液成分比例失调 ,工艺操作不当外 ,重要是镀液被有机杂质或无机有害金属杂质污染所致。所以 ,排除有机、无机杂质对镀镍溶液的污染 ,净化电镀镍溶液 ,对提高电镀镍镀层质量至关重要。2　有机杂质污染对镀镍液的影响(1)有机杂质污染电镀镍溶液 ,会对镍镀层产生不良影响 ,主要是使镍镀层产生麻点、针孔或结合不良以及内应力和脆性增…     

光亮镀镍液中杂质对镀层性能的影响与去除

光亮镀镍液含有硫酸镍、氯化镍、硼酸及光亮剂等 ,含镍 50～80ｇ/Ｌ ,氯化物 12～ 2 0ｇ/Ｌ ,硼酸不少于 3 5ｇ/Ｌ。长时间施镀后 ,杂质离子和其他副产物逐渐积累 ,当达到一定浓度时 ,使沉积速度降低 ,镀层的孔隙率增大 ,延展性下降。杂质对镀层的不良影响是常见的电镀故障 ,杂质分为三类 ,即有机杂质、无机杂质、机械杂质。1　有机杂质1 .1　影　响有机杂质主要是带入槽内的油脂、表面活性剂、添加剂分解物 ,对镀液和镀层的质量产生不利的影响。从直观上看 ,表现为镀层的光亮度降低、局部发花、起污斑 ,而且镀层的应力增加、脆性增大、韧性…     

BNF体系全光亮、高整平、低浓度的双层镍铁合金电镀的研究

一、前言1971年,美国OXY金属工业公司在世界上首次研究成功了镍铁合金电镀工艺,同年11月该工艺即在美国投入工业生产.作为代替光亮镀镍的新工艺,它的特点是:镀层中含有10～30%的铁代替了部分镍,镀液中金属离子浓度仅为光亮镍镀液的1/3-1/2,降低了配槽成本,减少工件带出损失和减轻电镀废水处理的负荷,光亮镍镀液很容易变成镍铁合金镀液,镍铁合金镀层,镀液性能在抗杂质离子干扰,整平性、硬度、套铬难易,尤其是韧性方面均比光亮镀镍好,短时间断电也不会影响结合力.另一突出的优点是特别适用于管状钢铁件和深孔零件,而不会污染镀液. 因此,镍铁合金电镀工艺在世界范围内迅速发展,投产的镀液总体积急剧增加.据统计,美、日、英以及东南亚等一些国家在1979年已超过200万升,国内自七十年代中期开发此工艺以来,亦有近100万升在生产应用.但目前的电镀镍铁合金工艺存在着镀液光亮电流密度范围较窄,主盐浓度较高和镀层易产生毛刺等弊病.     

添加剂对氯化物体系电镀铁镀层表面形貌的影响

以铝片为基底,研究了不同添加剂对氯化物镀铁体系镀层形貌的影响。实验发现,糖精主要起柔韧剂作用,可避免镀层开裂;强还原剂抗坏血酸主要稳定镀液中的Fe2+,避免Fe3+对镀层性能的影响,同时抗坏血酸也在一定程度上对镀层有整平作用;十二烷基硫酸钠可提高镀液对镀层的浸润性能,有利于电镀过程的传质,同时使电镀过程中产生的氢气快速逸出,形成致密平整的微观表面。通过将上述添加剂加入到氯化物镀铁体系,使镀层致密光亮,铁晶粒均匀、细小致密,镀层性能优良。     

如何处理过剩或失效的电镀添加剂

正采用了电镀添加剂的镀液在使用一定时间后,会有过量添加剂或分解产物积累,形成镀槽中的有机杂质,对电镀带来危害,因此要定期处理电镀槽中的有机杂质。当镀层很亮,但分散能力并不好且很容易起皮,在高电流区甚至出现开裂时,多半是有机杂质较多的表现,但是在实际处理过程中,如果方法不当,会难以将有机杂质完全去除。这种情况下的处理要点是镀液不能先加温,应该先用双氧水处理再加温,然后加入适量活性炭处理。     

锌合金电子元器件多层电镀及镀层性能研究

采用多层电镀技术在锌合金基体上镀Ni-Cu-Ni镀层,研究阳极活化剂、电流密度、镀液温度、p H值及搅拌方式等对Ni-Cu-Ni镀层特性的影响,以无氰镀铜替代有氰镀铜Ni-Cu-Ni多层电镀工艺,通过增加中间Cu层厚度降低整体镀层中贵重金属Ni的用量以实现降低成本、无毒环保的绿色新工艺.研究表明,普通Ni作为打底层,镀酸Cu为中间层,镀光亮Ni作表层,利用镀层电位差及镀层错位效应可有效减少贵重金属Ni的用量,并在保持镀层美观的同时满足防腐等表面处理要求;Ni-Cu-Ni镀层结合力良好,150℃热震及锉刀划痕试验镀层无脱落起皮,镀件耐NSS可达48 h,耐5.0%Na Cl浸泡可达100 h.     

锌镍合金镀液中锌镍离子浓度对镀层镍含量的影响

为了得到成分较稳定的锌镍合金镀层,考察了镀液中锌、镍离子浓度对镀层镍含量影响情况,发现镀液中锌镍离子摩尔浓度比对镀层镍含量影响最大;控制镀液中c(Ni2 )/[c(Ni2 ) c(Zn2 )]为0.15～0.17、c(Ni2 ) c(Zn2 )在0.17～0.40 mol/L范围内,能得到镍含量质量分数在13%左右的高耐蚀性锌镍合金镀层.循环伏安曲线分析表明,在合金电镀过程中,Zn2 的存在和析出会在阴极表面形成中间产物吸附膜,使镍的还原受阻,导致合金镀层的镍含量低于镀液中的c(Ni2 )/[c(Ni2 ) c(Zn2 )],锌镍合金共沉积表现为异常共沉积.     

用光度法测定镀铬溶液中的镍杂质

镀铬溶液中的镍杂质影响镀液的性能,作者制定了镍杂质的分析方法.在碱性和过硫酸铵存在的条件下,镍离子与丁二酮肟生成水红色配合物,利用这一特性,以丁二酮肟光度法测定镀铬溶液中镍杂质的含量,以不加显色剂的试样作参比液,用3 cm比色皿,在波长510 nm处测定.结果表明,镀液中其他各种离子对测定无干扰.本方法对8个试样测定值的平均偏差为1.4 mg/L,对3个试样测定值的回收率分别为98.3%,98.7%和100.2%.本方法简单、快速而准确,能够满足对镀铬溶液中镍杂质监控的要求.     

光亮镀镍液中杂质元素的电感耦合等离子体质谱法测定

电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)易于进行多元素分析,检出限低,应用广泛.适当选择待测元素的同位素来克服质谱干扰,以Sc,Y,Bi作为内标元素来补偿基体效应,用ICP-MS法测定了光亮镀镍液中Mg,Al,Cr,Mn,Fe,Cu,Zn,Pb 8种杂质元素.结果表明:8种微量金属元素的检出限在0.008～0.340 μg...     

二甲酚橙分光光度法测定化学镀镍液中的铅浓度

化学镀镍液中的镍离子对铅离子浓度测定的干扰较大。先将化学镀镍液中的铅离子与镍离子分离,再用二甲酚橙分光光度法测定镀镍液中铅的浓度。结果显示:当化学镀镍液中镍/铅浓度比120时,可以直接用分光光度法进行测定;当镍/铅浓度比120时,需先将镍离子与铅离子分离,再用分光光度法测定。该方法快速、简捷、误差小,是一种测定化学镀镍液中铅浓度的好方法。     

用射流电沉积进行局部快速电镀的工艺研究

射流电沉积是近年来发展起来的一种电沉积新工艺,具有普通电镀所不具备的一些优点.利用二维移动平台系统进行射流电沉积,研究了瓦特镍镀液的喷射速度、温度以及阴阳极间距等因素对射流电沉积的影响.研究结果表明,当镀液喷射速度为0.3 m/s,槽电压为20 V,阴阳极之间距离为17 mm时,采用该系统可在金属试样上快速获得预先设定的图形镀层,镀层分布均匀,与基体的结合力良好.     

电镀非晶态镍钨合金工艺研究

研究了电镀非晶态镍钨合金工艺,采用EDS、XRD等手段检测了镍钨合金镀层,并将工艺条件如电流密度Jc、镀液pH值、镀液温度等对镀层的影响进行了比较,得出非晶态镍钨合金电镀的最佳工艺:[W]/([W] [Ni])为0.6～0.8,Jc=6.0～12.0 A/dm2,温度55～65℃,pH=6.5～7.5.结果表明,W含量质量分数高于44%的镍钨合金镀层结构为非晶态;且在此工艺下易得到钨含量在44%以上的非晶态钨合金镀层.     

常温高效硫酸盐三价铬电镀工艺

六价铬电镀工艺严重污染环境,有望被三价铬电镀取代.三价铬电镀分为氯化物体系和硫酸盐体系,其中硫酸盐体系因具有阳极无有害气体析出、不腐蚀设备等优点,近年来发展迅速.通过大量试验开发出常温甲酸-草酸体系硫酸盐工艺,并借助小槽挂镀、Tafel曲线、EIS曲线和CASS试验等方法对镀液和镀层性能进行了分析.结果表明,在优化工艺条件下,该工艺镀层沉积速率高达0.18μm/min以上,分散能力93%,覆盖能力96%,耐蚀性好,是一种性能优良、高效的三价铬电镀工艺.     

PAAS高吸水树脂对重金属离子盐溶液的吸液及吸附性能

用聚丙烯酸高吸水树脂(PAAS)研究了单一和混合重金属离子硝酸盐溶液中的吸液和吸附性能.在Pb2 、Ni2 、Cd2 、Zn2 、Mn2 和Cu2 的一、二元溶液中,PAAS的吸液倍率随时间延长而增加,约50min达吸液平衡,一元金属离子溶液中平衡吸液倍率为160～190g/g,而对Cr3 溶液,最大为120g/g;二元金属离子混合溶液中平衡吸液倍率都在150～180g/g之间,有Cr3 存在时平衡吸液倍率最小.对上述单一金属离子的吸附量随时间延长而增加,约180min达吸附平衡,平衡吸附量顺序为:Pb2 ＞Cd2 ＞Ni2 ＞Cu2 ＞Zn2 ＞Mn2 ＞Cr3 .对二元混合金属离子溶液,吸附量随时间增加而增加,30min后逐渐变慢,约70min后达吸附平衡.     

三价铬硫酸盐体系快速电沉积可行性探讨

三价铬镀铬是替代六价铬镀铬理想的清洁生产工艺.研究了电流密度、电镀时间和不同基体金属对三价铬硫酸盐镀液中快速镀铬的影响.结果表明:采用三价铬硫酸盐镀液在铜、镍和低碳铜基体上进行快速镀铬都可得到表面连续致密、结构为非晶态的铬镀层,镀速在铜基体上比在镍和低碳钢基体上快很多;电流密度10 A/dm2下电镀10 s,铜基体上可得到0.40μm以上的铬镀层,平均镀速可达2.50μm/min;镍和低碳钢基体上只能得到0.10μm的铬镀层,平均镀速为0.50 μm/min;快速镀铬的电流效率与电流密度有关,电流密度为10～12 A/dm2时可达25.0%以上;三价铬硫酸盐镀液长时间连续快速镀铬时镀液体积明显减少、pH值降低.     

钕铁硼永磁材料在不同体系化学镀液工艺中的腐蚀

NdFeB材料中钕的含量极高,极易被氧化而产生严重的腐蚀.为提高钕铁硼材料的耐蚀性,采用性能优良的化学镀方法寻找NdFeB永磁材料在不同化学镀液中的腐蚀规律.研究了NdFeB永磁材料在化学镀铜液、酸性化学镀镍磷液、中性化学镀镍磷液、碱性化学镀镍磷液、碱性除油液中的浸泡腐蚀试验,并测试了这些溶液的E-t曲线.结果表明,在NdFeB的化学镀中为减少对NdFeB基体的腐蚀应采用碱性化学镀铜液打底,碱性除油液对NdFeB材料基本无腐蚀.     

多壁碳纳米管表面的钴-铁化学镀(英文)

采用化学镀法在多壁碳纳米管表面沉积钴-铁涂层。主要研究了镀液中钴盐和铁盐的摩尔比、络合剂浓度和镀液温度对镀层的影响。在钴-铁的摩尔比为9∶1,络合剂浓度为0.32mol/L,镀液温度为60℃时,可得到的较为平整的镀层,且镀层中钴-铁摩尔之和达90%以上。其他条件下,则会在镀层中出现金属颗粒或钴-铁含量过少的情况。