硫酸-甲醇体系钨电解抛光的可行性研究

以硫酸-甲醇酸性体系作为电解液,对钨箔进行电解抛光研究.抛光后钨的表面均方根粗糙度和反射率的测试结果表明,该体系完全适用于金属钨的电化学抛光,对钨的阳极溶解行为进行了分析,讨论了溶液组成、槽电压、温度和搅拌速率对电抛光后钨表面粗糙度的影响.初步确定了金属钨电解抛光的工艺参数为:硫酸与甲醇的体积比1:7,槽电压15～22V,温度15～25℃,搅拌速率10m/s.     

硫酸–甲醇体系钨电解抛光的可行性研究

以硫酸–甲醇酸性体系作为电解液,对钨箔进行电解抛光研究。抛光后钨的表面均方根粗糙度和反射率的测试结果表明,该体系完全适用于金属钨的电化学抛光。对钨的阳极溶解行为进行了分析,讨论了溶液组成、槽电压、温度和搅拌速率对电抛光后钨表面粗糙度的影响。初步确定了金属钨电解抛光的工艺参数为:硫酸与甲醇的体积比1∶7,槽电压15～22 V,温度15～25°C,搅拌速率10 m/s。     

钛片电化学抛光工艺及耐蚀性研究

以含氯离子的乙二醇溶液为抛光液,研究了槽压、温度、时间对钛片表面电化学抛光效果的影响,得到电化学抛光的最佳工艺为:槽压30V,温度50℃,时间180 s.采用扫描电镜、Tafel极化曲线及表面粗糙度测试等方法,研究了电化学抛光后钛片的表面形貌、耐蚀性、粗糙度等性能,同时与传统的机械抛光及化学抛光方法进行了比较.结果表明...     

电解抛光技术研究进展

介绍了电解抛光技术的研究现状﹑特点及抛光原理,分析了工件表面粗糙度的主要影响因素。指出了电解抛光技术存在的问题。     

电解抛光对镍钛合金生物兼容性的影响

采用高氯酸和冰醋酸体积比为1∶18的混合溶液,在电流密度1.05 A/cm^2、抛光间距20 mm和温度15°C的条件下对镍钛合金管电解抛光90 s。对比了抛光前后镍钛合金管外表面的形貌、粗糙度(Ra)、亲水性、耐蚀性和生物相容性。结果表明,电解抛光后镍钛合金表面平整、光亮,Ra=51.1 nm,水接触角为44.2°,在Hank’s模拟体液中的耐蚀性和生物兼容性均有改善。     

现代镀覆技术 第一部分──镀覆前处理(续3)

介绍了铝及铝合金,镁合金,黄铜,紫铜,铁白铜,不锈钢,碳钢,锌合金,钨,钼,镀银层等材料的表面化学抛光或电解抛光的溶液配方及工艺条件。     

电流密度和抛光时间对镍钛合金管电解抛光的影响

采用高氯酸?冰醋酸体系对镍钛合金管电解抛光.在温度25°C及抛光间隙15 mm的条件下研究了抛光时间(60～120 s)和电流密度(0.75～1.75 A/cm2)对抛光效果的影响.结果表明,随着抛光时间延长或电流密度增大,钛合金管的表面粗糙度先减小后增大,残余压应力先增大后减小,较佳的电流密度和抛光时间分别为1.15 A/cm2和90 s.在该条件下电解抛光后,镍钛合金管表面平整光亮,凹坑最少,表面粗糙度最小(为53.8 nm),表面残余压应力最大(为175.8 MPa).     

不锈钢电解刷式抛光工艺研究

阐述了不锈钢电解刷式抛光的原理和工艺过程。以不锈钢筒体为研究对象,采用不锈钢刷式抛光工艺进行试验研究。该工艺可降低工件表面粗糙度,使其表面光滑、耐腐蚀。     

电解抛光工艺对工业纯钛表面特性的影响

选用高氯酸与甲醇混合溶液作为电解液,在-32℃下对预压缩工业纯钛电解抛光3 min。探讨了电解抛光电压和电流密度对纯钛表面特性的影响。采用基于扫描电镜的电子背散射衍射(EBSD)和数字图像相关(DIC)原位法,研究了预压缩工业纯钛中的退孪晶变形。当电解抛光电压和电流密度分别为16 V和8.3～9.3 mA/mm~2时,EBSD花样标定率和DIC相关性均最好。工业纯钛退孪晶变形表现为较大尺寸孪晶的侧向变窄,部分小尺寸孪晶消失,孪晶附近应变集中。     

硬质合金表面的电解整平与抛光

研究了钨钴镍硬质合金表面的电解整平与抛光,探讨出一套新的含ＮａＮＯ３、ＮａＯＨ、ＥＤＴＡ、乙二醇以及聚乙二醇单烷基醚的电解液配方,利用该电解液,可以在几十秒内对硬质合金表面进行精密的整平与抛光处理     

黄铜饰品的等离子抛光

以由柠檬酸铵、柠檬酸、醋酸铵和乙二胺四乙酸(EDTA)为电解质配制成的抛光液对黄铜饰品进行等离子抛光.采用激光共聚焦显微镜、扫描电镜、能谱仪、测色仪、高精密电子天平等手段研究了抛光液组成和抛光时间对抛光效果的影响.通过正交试验得到的最优电解液组成为:柠檬酸铵20 g/L,醋酸铵10 g/L,柠檬酸5 g/L,EDTA 6 g/L.随着抛光时间延长,试样表面粗糙度和氧含量先降低后增加,而光泽的变化趋势相反.将抛光时间控制在1.0～2.0 min,可以有效降低工件表面粗糙度,获得光滑亮泽的表面.     

YBCO涂层导体用哈氏合金C-276基带电化学抛光

为改善哈氏合金C-276基带表面质量,以磷酸-硫酸及添加剂体系作为电解抛光液,采用均匀实验设计方法,对基带进行电解抛光试验,利用原子力显微镜(AFM)对样品表面形貌进行表征,并用DPS(Data Processing System)软件对抛光工艺进行逐步回归优化。优化结果表明,在室温下,采用磷酸(85%)、硫酸(98%)体积比为27∶50及适量比例添加剂组成的电解液抛光效果较好,抛光后基带表面均方根粗糙度(Rms)在25μm×25μm范围内可降低到10nm以下。     

铝的碱性周期换向电解抛光工艺研究

采用周期换向电解法，在添加适量添加剂TA的碱性溶液中对铝材进行电解抛光。经研究表明，其抛光效果优于采用传统方法和直流恒压法进行电解抛光的抛光效果，而且其工艺具有操作温度低、溶液使用寿命长及铝材溶解损耗少等优点。研究了添加剂浓度、电流密度以及电压对周期换向法电解抛光效果的影响。并确定了最佳的工艺条件。     

激光选区熔化TC4钛合金在氨基磺酸−甲酰胺溶液中的电解抛光

以氨基磺酸?甲酰胺非水溶液作为电解液,对激光选区熔化钛合金TC4进行电解抛光。初步研究了电流密度和加工时间对不同构建角度的钛合金抛光后表面粗糙度和材料去除量的影响。在电流密度1 A/cm2和极间距14 mm的条件下抛光25 min时光整效果最佳,钛合金的耐蚀性得到增强,硬度无明显变化。     

Ni-5%W合金基带的电化学抛光

为改善Ni-5%W合金基带表面质量,以磷酸-硫酸和添加剂为电解液,采用均匀实验设计方法进行电解抛光,利用原子力显微镜对样品表面形貌进行表征,并用DPS(Data Process System)软件对抛光结果进行逐步回归优化。结果表明,在室温下,采用磷酸(85%)、硫酸(98%)和有机添加剂,以体积比为4∶3∶3的抛光液抛光效果较好,抛光后基带表面均方根粗糙度在25μm×25μm范围内可降低到5nm以下。     

硫酸-磷酸-铬酸电化学抛光对钼片表面状态的影响

以硫酸-磷酸-铬酸体系为电解液,对钼片进行电化学抛光。通过测定阴极极化曲线,研究了抛光过程中电压和电流之间的关系。表征了抛光前后钼片的微观形貌、粗糙度和尺寸等。在2.0 A/cm~2下对钼片电化学抛光30 s,可得到均匀平整、无明显坑点的表面,粗糙度由抛光前的0.20μm降至0.05μm。通过严格控制抛光时间可有效保证样品的几何尺寸精度。     

极间距和抛光液温度对镍钛合金管电解抛光的影响

采用含9 mL/L三乙醇胺的高氯酸?冰醋酸体系(二者的体积比为1:18),在电流密度1.35 A/cm2、温度10～35°C、极间距10～25 mm的条件下对镍钛合金管电解抛光.分析了极间距和温度对镍钛合金管抛光效果的影响.结果表明,较佳的极间距和温度分别为15 mm和25°C.在该条件下电解抛光90 s后,镍钛合金管表面光亮整洁,电蚀坑和突起最少,表面粗糙度(Ra)最小(54.8 nm),表面残余压应力最大(191.7 MPa).     

骨胶和聚二硫二丙烷磺酸钠对厚电解铜箔性能的影响

研究了骨胶和聚二硫二丙烷磺酸钠(SPS)对厚电解铜箔光泽、表面粗糙度、抗拉强度、延伸率等的影响.结果表明,随骨胶质量浓度增大,厚电解铜箔的表面粗糙度先减小后增大,当骨胶质量浓度为4 mg/L时,表面粗糙度(Rz)最低,为10.1μm.电解液中骨胶过量时,加入SPS可有效降低铜箔的表面粗糙度,得到平滑、均匀而细致的厚电解铜箔.     

工艺条件对铝栅化学机械平坦化效果的影响

采用由2.5%(体积分数,下同)硅溶胶磨料、1.5%H2O2、0.5%FA/O型螯合剂和1.0%表面活性剂组成的抛光液对铝栅表面进行化学机械平坦化处理。研究了抛光垫、抛光压力、流量、抛光头转速、抛光垫转速以及抛光后清洗对铝栅表面粗糙度的影响。采用POLITEXTM REG抛光垫,在抛光压力1.5 psi,抛头转速60 r/min,抛光盘转速65 r/min,抛光液流量150 mL/min的条件下,对铝栅抛光后用自主研发的清洗剂清洗,铝栅表面粗糙度最低(2.8 nm),并且无划痕、腐蚀、颗粒残留等表面缺陷。     

煤的氩离子抛光-扫描电镜分析样品制备研究

借助氩离子抛光技术对煤表面进行抛光,通过扫描电镜可以清晰观察真实的孔隙形貌结构,对判断孔隙类型有重要帮助。该文对阳极电压、抛光时间、离子束入射角、样品台转速等条件进行研究,利用扫描电镜对抛光后的表面进行观察,比较不同条件下的抛光效果,找到适合煤抛光的条件参数。