Ni-5%W合金基带的电化学抛光 |
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引用本文: | 朱海,吴向阳,彭东辉,韩婕,徐静安.Ni-5%W合金基带的电化学抛光[J].电镀与精饰,2014(7). |
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作者姓名: | 朱海 吴向阳 彭东辉 韩婕 徐静安 |
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作者单位: | 上海化工研究院; |
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基金项目: | 上海市科委科技攻关计划项目子项(11DZ1100303) |
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摘 要: | 为改善Ni-5%W合金基带表面质量,以磷酸-硫酸和添加剂为电解液,采用均匀实验设计方法进行电解抛光,利用原子力显微镜对样品表面形貌进行表征,并用DPS(Data Process System)软件对抛光结果进行逐步回归优化。结果表明,在室温下,采用磷酸(85%)、硫酸(98%)和有机添加剂,以体积比为4∶3∶3的抛光液抛光效果较好,抛光后基带表面均方根粗糙度在25μm×25μm范围内可降低到5nm以下。
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关 键 词: | 涂层导体 Ni-%W合金基带 电化学抛光 均匀设计 |
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