镜面抛光技术在奥氏体不锈钢产品中的应用

冷轧BA表面不锈钢在抛光装饰行业中作为镜面板加工基板得到广泛应用.着重介绍了抛光行业对镜面不锈钢表面的判定标准,并从抛光原理、设备、抛光溶液、工艺技术等方面介绍了电解抛光、化学抛光、机械抛光以及化学机械抛光等目前抛光行业最常见的四种镜面抛光技术;同时从设备要求、镜面板质量、加工效率、对环保影响等多方面对四种抛光技术的优劣进行了对比.收集了抛光镜面板过程中容易出现的缺陷,对其原因进行了分析,并提出了相应的解决方案.     

钢铁材料EBSD样品制备工艺研究

以X80管线钢和SWRH82B高碳钢两种样品为例,利用机械抛光、化学抛光、电解抛光及聚焦离子束原位加工等方法进行了钢铁材料EBSD样品制备研究,并分析了4种制备方法的优缺点.     

低位错锗单晶片的表面位错腐蚀研究

锗单晶在红外以及空间太阳能电池都有广泛应用。目前,超过90%的空间电源都是锗基太阳能电池,使得低位错锗单晶成为空间太阳能电池的基础材料。太阳能电池使用的锗单晶要求位错密度低于1000 cm-2,高效电池甚至要求单晶位错密度低于300 cm-2,其对锗单晶片内部的位错数量要求不断提高,对位错密度测量精度提出更高的要求。采用HNO3-HF体系的抛光腐蚀液对锗单晶片进行处理,通过择优腐蚀显示位错。通过改变金刚砂粒度、抛光温度、抛光时间、腐蚀温度、腐蚀时间、晶向偏离角度等条件,从表面粗糙度及金相图表面形貌等方面进行了比较和分析,确定了不同条件下的锗单晶片抛光腐蚀情况,以及晶向偏离角度大小对位错密度偏差的影响。结果表明,采用本文确定的切割、研磨、表面腐蚀方法,位错形貌清晰显现完全,位错测量误差可以控制在5.5%以内,能够保证测量精密度。为实际应用中锗材料位错密度测量及腐蚀工艺的改进提供实验依据及理论参考。     

化学抛光液配方的改进

化学抛光是继电解抛光法之后出现的一种新的金相磨片制备方法。虽然在钢铁企业中应用不久,但由于它具有很多优点,已引起人们很大的注意。一、化学抛光溶液配方及主要优点“金相研究方法”一书所列配方: 草酸2.5克,3％双氧水43.5c.c.,硫酸0.01c.c.,蒸馏水55.0c.c。此配方仅适于抛光处理含碳低于0.4％的低碳钢。笔者所用配方:     

节镍奥氏体不锈钢镜面抛光问题研究

节镍奥氏体不锈钢具有优异的机械性能、一定的耐蚀性能以及较低的成本,在面板、制品和构件等领域应用广泛,但是由于其成分的替代,牺牲了部分耐蚀性,冷轧过程中容易产生腐蚀,导致下游用户难抛光。研究了节镍奥氏体不锈钢生产工艺,取样分析表面缺陷的形成原因,结果表明,通过调整脱脂工艺和退火温度,可以改进和减少表面缺陷,降低表面粗糙度,实现了市场上用户需求的粗糙度要求,满足了镜面抛光用途用户的需求。     

高档镜面抛光铝型材生产工艺研究

研究了高档镜面抛光铝型材生产过程的主要控制要素,确定了铸碇、挤压、机械抛光、化学抛光和氧化封孔生产工艺及挤压模具设计制造技术要求,获得了表面质量高的高档镜面抛光铝型材。     

碳钢在西部盐湖卤水中初期的"选择性"腐蚀研究

进行碳钢在5%、10%、15%、20%、25%的NaCl水溶液和西部盐湖卤水溶液中腐蚀速率随时间变化的跟踪试验研究时发现:碳钢在盐湖卤水初期腐蚀速率较高,与5%NaCl溶液中腐蚀速率接近,随着试验的继续进行腐蚀速率迅速下降至低于所有浓度的NaCl溶液中的腐蚀率,经过410 d的全浸试验,碳钢表面无明显红锈.为研究碳钢在盐湖卤水中的这一异常现象,采用扫描电子显微镜、能谱仪(EDS)和X射线衍射仪(XRD),分别从宏观、微观角度对其腐蚀后的形貌与结构进行研究;同时采用电化学方法研究了溶解氧对碳钢在盐湖卤水中腐蚀行为的影响.研究表明:(1)碳钢在盐湖卤水0～40 d左右的腐蚀速度非常快,没有铁锈生成,已显现出清晰的铁素体与珠光体相,呈现出一种"选择性"腐蚀,这个时期的腐蚀速率与溶液中氧含量关系不大;(2)碳钢在盐湖水里50～70 d发生一种类似抛光作用;(3)碳钢在盐湖卤水70 d左右发生明显的局部腐蚀,这个时期碳钢在盐湖卤水中的腐蚀速率依然与溶液中氧含量关系不大.     

稀土抛光粉颜色的表征及影响因素研究

文章基于R·S·Hunter提出的Lab空间色彩体系建立了稀土抛光材料颜色的定量表示方法.该方法可以明确表示出稀土抛光材料色彩的色相、纯度、明度等色彩特征.并且针对少钕碳酸稀土生产的稀土抛光粉影响颜色变化的几个因素进行了研究,找出了焙烧温度及焙烧时间对抛光粉色度的影响关系,为将来把抛光粉色度参数引入到稀土抛光材料性能评价和控制提供可能.     

ICP-MS测定首饰抛光灰中的贵金属

采用ICP-MS对选取的不同种类样品进行了测试,结果表明,首饰抛光灰中主要贵金属的含量取决于加工的饰品种类,并与抛光灰形态特征关系紧密.首饰抛光灰中,金的质量分数范围为0.47%～3.07%,铂的质量分数范围为0.216%～1.17%;两者质量分数和的范围为1.64%～4.07%.     

从抛光废料中回收稀土的研究

探索了从抛光废料中回收稀土并确保稀土回收率在80%以上的工艺.通过分析现有抛光废料成分,有针对地提出了初步回收其中稀土成分的方法.整个试验过程分为两部分,小试主要探索原料前处理方式、酸的种类、酸的浓度、浸出温度、浸出时间和添加剂种类等因素对抛光废料中稀土回收率的影响.试验最佳条件为:加入添加剂B,用8 mol/L的盐酸在92℃下直接浸出2 h.经过除杂、萃取分离、沉淀、灼烧工序后,稀土回收率最高可达85.94%.然后根据小试确定的最佳条件进行综合扩试,所得稀土回收率能稳定在81%以上.初步概算,处理1 t该废料收益可达2000元左右.      

纳米SiO2改性环氧树脂增强抛光磨料性能的研究

研究了用纳米SiO2改性的环氧树脂作为结合剂对抛光磨料力学性能的影响.考察纳米SiO2的掺量、固化温度和分散时间3个影响因素,确定每个单因素试验的水平范围,然后采用正交试验来确定改性后环氧树脂制备抛光磨料的适宜条件.结果表明,纳米SiO2颗粒与有机高分子产生接枝和键合作用,使材料韧性增加,经过纳米SiO2改性后的环氧树脂作为磨料结合剂制成的抛光磨料试块,其耐磨性和硬度均有所提高.正交试验确定的制备抛光磨料试验条件是:固化温度60℃,分散时间60 min,纳米SiO2的掺量3%.     

精矿稀土抛光粉制备工艺研究

采用稀土精矿为原料，研究了制备稀土抛光粉工艺过程，通过ＤＴＡ、ＴＧ、ＸＲＤ、ＳＥＭ、物化分析等检测手段，对试制样品的结构、形貌、物化性能等进行了分析。试制的精矿稀土抛光粉抛光效果优良，制备工艺简短，成本低廉     

仿不锈钢铝型材生产技术开发与应用

阐明了化学抛光的基本原理和制约铝型材化学抛光生产的主要因素，通过优选化学抛光剂和槽液组成及工艺参数优化，解决了磷酸—硫酸无烟化学抛光生产工艺；通过正交试验，确定了槽液中水含量是造成槽体严重腐蚀的最显著因素；通过对阳极氧化着色工艺参数的调整，消除了影响产品质量的不利因素。我们采用这些成果指导仿不锈钢型材的生产，取得了良好的经济效益和社会效益，受到了广大消费者的认可。     

铈基抛光粉抛光工艺的多响应稳健优化设计

以铈基抛光粉的化学机械抛光工艺过程为研究对象设计正交试验,选取抛光时间、抛光盘转速、抛光浆固含量、抛光浆pH值作为可控因子,分析其对铈基抛光粉的切削率及划痕度这2个重要技术参数的影响。在试验结果的基础上考虑各响应的主客观权重,结合信噪比与满意度函数构建多响应稳健优化设计模型,获得确保抛光过程稳健性的较优工艺参数组合,从而达到制备出高性能的稀土抛光浆液的目的。优化结果表明该方法在解决多响应变量稳健优化的问题上具有一定的有效性,可为相关生产加工企业在改善工艺质量方面提供参考。      

Review on Application of Rare Earth Polishing Powders in Glass Polishing

The paper reviewed different explanations to the mechanism of glass polishing, the practices of glass polishing and the preparation of polishing powders, addressed the growth mechanism of CeO2 crystals, summarized the roles of rare earth elements in glass polishing and the factors that may influence the polishing effects, and specified the existing problems in glass polishing.     

工艺参数对稀土抛光液分散性能的影响

用BYK180分散剂和稀土抛光粉配制抛光液,借助吸光度和沉降体积等指标研究了分散剂用量、pH、搅拌速率和时间等参数对稀土抛光液分散性能的影响。结果表明,随着BYK180用量、搅拌速率和搅拌时间的增加,抛光液的分散性先增加后降低。pH=6.8为此抛光液的等电点,在一定pH范围内,偏离等电点越远,抛光液吸光度越大,且碱性体系的吸光度略大于酸性体系。当抛光液酸性和碱性过强时,吸光度又变小。获得最佳分散效果抛光液的工艺参数为:BYK180用量0.75%,溶液pH=9.5,搅拌速率2 000r/min,搅拌时间120min。     

稀土抛光粉研磨试验研究

根据抛光粉抛光机理，以H—500型稀土抛光粉对玻璃进行研磨，研究了影响抛光粉抛光效果的主要因素确定了使用研磨机进行研磨检测的分析方法，同时也为指导稀土抛光粉产品的生产提供了理论依据。     

双面抛光工艺中压力对300 mm硅片表面形貌的影响

利用非接触式光学轮廓仪研究了双面抛光过程中不同压力下300mm硅片表面形貌的变化，并通过Stribeck曲线进行了探讨。结果表明。双面抛光过程中机械作用的强度随着压力的变化而不同，从而影响抛光后的硅片表面形貌。当硅片表面与抛光垫之间的接触处于固，液混合接触区时，协调机械去除作用与化学腐蚀作用之间的关系，使之达到平衡，可以显著地降低硅片表面的微粗糙度和峰谷值。     

碳纤维表面镀镍工艺研究

为优化碳纤维表面电镀镍的工艺条件,采用电镀法在碳纤维表面沉积一层纯镍层,通过正交试验法研究了不同工艺参数下碳纤维增重率的变化,探讨电流密度、电镀时间和镀液温度对镀层表面形貌和厚度的影响;并用冷热循环法测试不同厚度镀层与碳纤维之间的结合力.结果表明,采用电流密度0.56 A/dm2,电镀时间6 min,温度50℃时制备的镍镀层表面光洁、均匀致密,是较为理想的镀层.     

Study on purification and application of novel precipitant for ceria-based polishing powder

Novel precipitant prepared through carbonation with MgCl2 wastewater generated from rare earth extraction separation process and low-price dolomite as raw materials was studied in this paper. The purification methods of novel precipitant by adding appropriate oxidizing agent were studied. It was found that optimal purification result could be achieved with sodium hypochlorite as iron removal reagent and the iron removal rate could reach up to 90% when the adding amount was 0.1 vol.%. During the preparation, the particle size and distribution of ceria-based polishing powder were affected obviously by the parameters such as concentration, reaction temperature and feeding rate. The results showed that ceria-based polishing powder with D50 =2.5-3.5 μm and the particle size distribution of 0.65-0.75 μm could be prepared when the concentration of CeCl3 was 0.6 mol/L, the reaction temperature was maintained at 50 °C and the feeding speed was controlled at 25 ml/min. Compared with commercial powder, the self-made polishing powder had roughly the same cutting amount, but the surface finish of polished glass was better than that of commercial polishing powder.