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研究基于二元光学的达曼光栅理论和设计方法,设计5×5分束达曼光栅。分别采用“减法”和“加法”加工方案制备器件。“减法”工艺方案包括,优化了氧化硅光栅制作中曝光、显影及深刻蚀工艺参数等关键工艺技术;“加法”工艺方案研究了氮化硅薄膜的制备及刻蚀工艺的问题。研究并制备了两种工艺方法的达曼光栅器件。实验结果表明,“减法”工艺方案的零级衍射场均匀分布的5×5点阵,总的衍射效率达到53%,不均匀性仅为0.19%;“加法”工艺方案的总的衍射效率为59%,不均匀性仅为0.16%;实验结果与理论设计的相符,验证了理论设计与工艺技术的可靠性。 相似文献
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64×64点阵达曼光栅的设计与实现 总被引:9,自引:2,他引:7
分析了偶数点阵达曼光栅的设计原理与特性。利用数值优化方法 ,获得了一组 6 4× 6 4点阵达曼光栅解。光栅模版用电子束制版法制成 ,其最细线宽为 2 .5 μm。用光刻法实现了这一位相光栅 ,并比较了不同位相光栅制作法的优缺点。原子力显微镜测得的光栅深度曲线与 6 4× 6 4点阵实验结果表明 ,此光栅结果接近理论值。 相似文献
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基于理论设计了一种面内旋转对称的新型5×5分束达曼光栅,研究并优化了光栅制作中曝光、显影及深刻蚀等关键工艺参数。采用接触式曝光和感应耦合等离子体(ICP)刻蚀技术,在石英基底上制作出达曼光栅结构。实验中通过优化石英基底上接触式曝光时间和显影时间,较好控制了曝光图形失真;进一步通过控制ICP刻蚀工艺参数,获得了刻蚀深度为(750±10)nm的石英衬底,实现了达曼光栅器件的制备。通过衍射光学特性评测得到了理论设计的零级衍射场均匀分布的5×5点阵,总的衍射效率达到53%,不均匀性仅为0.19%。实验证明了理论设计与工艺技术的可靠性,为达曼光栅器件的集成光学系统应用奠定基础。 相似文献
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基于反射式达曼光栅的频率分辨光学开关装置 总被引:1,自引:0,他引:1
采用反射式达曼光栅对飞秒激光进行分束,可以避免材料色散的影响.搭建了利用反射式1×2达曼光栅为基础的频率分辨光学开关(FROG)装置,并把测量结果与传统多发频率分辨光学开关装置的测量结果进行了对比.理论和实验结果表明,当输入脉冲宽度大于50 fs时,用达曼光栅作为分光器和使用分光镜分光的效果是一样的;当输入脉冲的宽度小于50 fs时,用达曼光栅作为分光器引入的展宽量明显小于分光镜引入的展宽量,尤其是当输入脉冲的宽度小于20 fs时用达曼光栅作为分光器的效果更为突出. 相似文献
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针对大功率激光加工对光束空间强度分布的实际要求,提出了一种用二元光学元件对光束进行变换的方法,即利用均匀采样的矩形孔径Dammann光栅对激光高斯光束进行光束变换,可满足任意点阵分布的输出要求.以线状、均匀、环状和非均匀分布的光强输出为例,介绍了矩形孔径Dammann光栅光束变换技术的设计原理及实现方法,结果表明输出光强分布具有较高的衍射效率和均匀性.将均匀和非均匀分布的输出光束应用在激光加工技术的表面强化上,结果表明试样表面的硬度和耐磨性等力学性能均有提高并且强化层具有较好的均匀性. 相似文献
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偶数束亚波长Dammann光栅结构的矢量衍射优化设计 总被引:2,自引:1,他引:1
传统的基于标量衍射理论方法设计的Dammann光栅衍射效率较低。基于严格耦合波理论和遗传算法,介绍了亚波长结构偶数分束数Dammann光栅的设计方法。利用优化程序设计了多个光栅结构并对设计结果进行了分析,讨论了关键参数的选取及设计参数和光波偏振态的变化对分束效率和均匀性的影响。仿真结果表明所设计的偶数束Dammann光栅分束均匀性很好并且分束总效率均达到93%以上,而零级衍射效率均降到了0.64%以下,达到了较好的去零级衍射的效果。 相似文献
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达曼(Dammann)光栅作为一种常用的分束器件,在光互连、光通信、光计算和多重成像等领域已广泛应用。在介绍Dammann光栅设计原理的同时,重点论述了Dammann光栅的计算机辅助设计过程。 相似文献
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Programmable binary phase-only optical device based on ferroelectric liquid crystal SLM 总被引:2,自引:0,他引:2
The performance is reported of a programmable, two-level, phase-only device based on a commercially available 128*128 pixellated, ferroelectric liquid crystal spatial light modulator (SLM). Near diffraction limited performance is achieved results for a Dammann grating are comparable to those obtainable with fixed components.<> 相似文献
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Twyford E.J. Jokerst N.M. Kohl P.A. Tayag T.J. 《Photonics Technology Letters, IEEE》1995,7(7):766-768
We have demonstrated and evaluated a grating array outcoupler fabricated by photoelectrochemical (PEC) etching, a manufacturable and practical approach for fabrication of grating-based III-V semiconductor waveguide devices. An array of submicron period gratings was etched into photolithographically delineated areas in a single PEC step. The fabricated devices are: 10-μm wide rib waveguides with 0.35-μm first-order outcoupling gratings; and 10-μm wide rib waveguides with 10 μm×10 μm pixellated areas of gratings. Device characterization demonstrates the effectiveness of outcoupling grating fabrication using PEC and that the pixellated grating outcoupler is an effective and simple means of generating an optical beam array 相似文献
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Over the past years, a number of groups have developed phase gratings as local oscillator beam multiplexers for array receivers in the submillimeter wavelength domain. The most popular type of grating is the Dammann (1977) grating, a simple and versatile binary phase grating. We introduce a new type of grating, the Fourier grating, which, in contrast to the binary structure of Dammann gratings, uses a smooth grating structure. Due to the lack of sharp edges these gratings can be manufactured with high precision as reflection gratings even for two-dimensional (2-D) dispersion. Fourier gratings are designed using a simple optimization procedure that only involves a small number of parameters. Their diffraction efficiency is very high. We have produced a number of gratings and tested them at a frequency of 490 GHz, verifying the theoretical results 相似文献