印制电路板显影液循环再生利用系统的实践研究

文章是针对印制电路板生产过程中线路、阻焊的显影工序所产生的废显影液进行再生利用实践及研究,其工艺过程是废显影液在超滤工艺过滤后通过参数调整、清洗等一系列的工艺流程,实现显影液的循环再利用,减少废水的排放。     

一种新的显影液干膜负载量监控方法

文章通过在实验室试验显影液中干膜负载量与显影液浓度、pH值的相关性,运用Minitab工具确定显影液干膜负载量与pH值的线性关系,同时根据供应商提供的干膜显影负载量上限值,计算出相应的显影液pH值参数范围。当显影液pH降低至要求范围下限值时,表示显影液中干膜负载量已经达到要求上限,显影液需及时更换处理,故可通过pH值变化来监控显影液中干膜的负载量。     

彩色滤光片制程中显影液残留缺陷的改善

从生产角度分析了彩色滤光片中液晶间隔柱制造过程中遇到的显影液残留缺陷．通过EDS分析、机台比对等多种手法,明确确定了不良缺陷发生的原因,并通过多组实验方法的对比结果,找出了控制显影液残留的最佳方法。     

IBM公司研制VLSI全干法新光致抗蚀剂

<正>据日本《O Plus E》杂志1990年第129期报道,美国IBM公司已研制成不用显影液等显影材料的全干法型新一代光致抗蚀剂(感光树脂),可用于VLSI工艺.为了制作VLSI的微细电路图形,目前在显影处理时通常都使用显影液.新抗蚀剂在曝光后加热到100℃,就能完成显影处理.液体显影因抗蚀剂吸收显影液而造成精度下降.由于光刻干法化,便于微细加工,从而可进一步提高IC的集成度.     

泡显影液法T-TOP剥离工艺研究

介绍的泡显影液法T-TOP剥离工艺,是一种简单的金属剥离方式,它在普通光刻工艺流程中加入浸泡显影液环节,通过调节烘烤温度,制作出利于剥离的T型胶剖面,并配合正确的剥离操作,最终实现完好的金属互联。该方法相对来说,工艺简单、易于操作、经济实用。     

水溶性干膜显影液化学组份的补充及过程控制

1996年8月份的《CircuiTree》上,我就显影液的控制谈过自己的看法,我的同事Dave McGregor有一些补充看法,在这里我们一起来探讨。显影液控制的重要方面就是显影点(BREAK POINT),如果板过显影点后在显影液中时间过长,将导致过显影,显影点的时间和板过显影点后的额外显影时间虽然没有明确的界定,但却十分重要,通过计算可以看出两者之间的关系,过显影点后的时间(Post Break point Residence Time,PBRT)随显影点的变化而变化。可以通过下列公式计算:     

低反差电镜图像底片及照片的冲洗显影

本文根据显影液的各组成成份在显影过程中的作用特点,介绍了低反差电镜图像底片及照片的冲洗方法。     

水显影型阻焊剂

水显影型阻焊剂,单从环保方面讲,用水作显影液是溶剂和碱的水溶液作显影液所不能取代的,在国内印制板界从技术上加大力量进行开拓研究。 长期来印制板生产处在低谷,以多层板为中心,数量上有回升的兆头,但价格依然压得很低。在印制板界,即使数量上升,也难从苦境中摆脱出来。 一方面,在这种情况下,有的厂家生产价值高的产品求得生存,以生产多层板数量回     

丙烯酸酯干膜光刻胶曝光特性及其应用

对一种新型的丙烯酸酯干膜光刻胶(DFP)的曝光及显影特性进行了研究,采用该干胶制作出微沟道结构,进行微流道实验研究。在4英寸(1英寸=2.54cm)硅片上实现了厚度为50μm的干胶完好贴敷,从而解决了干胶在硅衬底上的贴敷问题。利用改变曝光时间设定曝光剂量梯度的方法,研究了干胶的曝光特性。采用不同质量分数的显影液,研究干胶的显影特性,获得了优化的结果。采用干胶系统进行了微流体沟道制作,得到了侧壁陡直的微沟道结构。实验发现,65mJ/cm2及以上的曝光剂量可使厚度为50μm的干膜光刻胶充分曝光并获得形貌效果良好的微结构,质量分数为5%的显影液具有最快的显影速度。     

显影液成分对漂白全息图衍射效率影响的实验研究

本文以天津Ⅰ型和科泰KT-A型全息干版为例,研究了显影液成分对漂白全息图衍射效率的影响。由此提出了分别适合于两种干版的处理方法。     

显影液原液配制设计方案

根据等离子屏、LCD、TFT等平板显示器生产工艺要求对显影液的配制需设置显影液原液初配、稀释处理、浓度滴定等环节,而每一环节都必须进行浓度管理。上海松下等离子显示器有限公司引进了日本全套等离子屏的生产线,表面板、背面板都是在洁净车间进行生产(CLASS 10000),早期表面板显影生产线的显影原液初配也是在洁净车间进行。配制原液所采用的原料为袋装Na2CO3粉,尽管原液的配制在洁净车间内所增设的房间内进行,但添加Na2CO3粉所产生的扬尘还是对洁净车间内的洁净度造成了不利的影响,从而对成品率也产生了一定的影响,并且配制原液时需停机进行,基于此,我们设计制造了一台显影液原液初配装置安装在洁净车间外,并采用洁净PVC管道远程输送至洁净车间内的原液搅拌槽内,既避免了对洁净车间洁净环境的破坏,也一定程度地减轻了工人的劳动强度,提高了生产效率。     

文摘

通过在显影液中综合应用有机和无机添加剂,影响显影剂的活性和含潜影卤化银微晶的性质,可使医用X射线胶片和黑白胶卷已曝光和未曝光卤化银之间的催化还原速度差别增大若干倍.研究这一效应的本质表明,影像密度的提高是由于在传统显影液中不显影的小尺寸潜影中心的卤化银微晶也加入到照相显影过程之中的结果,它导致感光涂层的曝光区银量增加.根据研究结果,在医疗机构进行了应用试验,用于医用X射线胶片的加工,由于影像密度的增加,可显著降低X射线的照射剂量.(No.9)     

“PD”照相法研制及工艺

前言PD 照相法是一种新型的物理法。它是利用光敏物质分子(如重氮化合物等)能够发生光致异构化作用(光激活或光钝化)形成潜影,并经核化引入金属潜象核,这种潜象核能被高速稳定的物理显影液中的银加强而成可见象,制作出所需要的图象。利用此法可制作集成电路中条宽小于1μ的光掩摸,超微型胶卷,精细的金属网,彩色电视的延迟线,以及任意的导体图形。据国外报导,PD 照相的分辩率已达到0.3μ,其实用分辩     

浅谈显影液浓度对显影质量的影响

随着电子工业日新月异的发展，PCB技术也在飞速发展。作为PCB图形成像之关键工序——显影，直接影响线路着线路品质及阻焊的品质，而显影液浓度的控制对显影工序起着非常重要的作用。     

电子显微镜底片冲洗工艺的改进

本文介绍一种电子显微镜底片冲洗的新方法。这种用显影罐和插片架代替传统的塑料盘和竹夹的新工艺,不仅可以保证底片的冲洗质量,节约显影液的用量,而且还可以提高工作效率,缩短操作人员的暗室工作时间。     

富士强化中国市场 苏州工厂正式生产LCD

富士股片不久前在江苏省苏州市开始正式生产在半导体以及液晶显示装置（LCD）上使用的电子材料。将以半导体及LCD用显影液产品为开端，逐步扩大生产半导体用绝缘材料以及LCD彩色滤波器用感光材料等产品。在胶卷以外业务领域中，     

显影计算尺的设计和应用

本文介绍了标准显影计算尺这一卓越的摄影研究成果，这是一件不可多得的暗室发明。阐述了多用标准显影计算尺的制作、使用及其有关Ｄ－７６、Ｄ７６１：１、Ｄ－２３等常用显影液的知识，可供摄影工作者使用之参考。     

TFT-LCD行业显影液参数对半色调光刻胶膜厚的影响

通过对TFT-LCD行业用显影液浓度(质量分数)C_1和其中酸根离子浓度(质量分数)C_2与半色调光刻胶膜厚(Half Tone Thickness,THK)的影响研究,提出了改善THK波动的方法。首先,固定光刻工艺生产条件,采用单因素实验法分别对C_1和C_2对THK的影响进行试验,研究表明,C_1、C_2的变化都会影响显影液的显影能力,导致THK的变化,且都呈线性负相关。其次,根据C_1和C_2变化对THK的影响程度,将二者之间建立公式对应关系,通过系统对C_1进行调整,改善C_2波动的影响。最终将关系公式导入系统,稳定了显影能力,有效改善了THK的波动,沟道相关不良发生率从0.20%以上降低到0.03%以下。     

SIOFM－5FW软X射线底片与Kodak101－05和Ilford－Q板曝光特性的比较

在相同的曝光和显影条件下，用Ｄ－１９和Ｐｈｅｎｉｓｏｌ两种显影液定性比较了ＳＩＯＦＭ－５ＦＷ底片、Ｋｏｄａｋ１０１－０５和Ｉｌｆｏｒｄ－Ｑ板在１００．０ｎｍ以下的软Ｘ射线和ＸＵＶ波段范围里的曝光特性．比较实验表明，ＳＩＯＰＭ－５ＦＷ底片对波长大于１０．０ｎｍ的辐射的响应介于Ｋｏｄａｋ１０１－０５和ＩＩｆｏｒｄ－Ｑ板之间；对于１０．０ｎｍ以下的短波长区，ＳＩＯＰＭ－５ＦＷ比Ｋｏｄａｋ１０１－０５灵敏，而且有较高的饱和光密度值和动态范围，但存在明显的碳Ｋ吸收边结构。讨论了所用的两种显影液对底片曝光特性的影响。     

母盘刻录中信息符成形模拟与实验研究

介绍了光刻胶的性能和反应机理，建立了光刻模型，讨论了曝光和显影对信息符的综合影响并对信息符形貌进行了仿真，着重分析刻录激光光斑能量分布对不同周期记录符的影响。以Shipley AZ1350光刻胶和相应的显影液以及DVD母盘的生产为例，验证了仿真的正确性。