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| IBM公司研制VLSI全干法新光致抗蚀剂 | |
| 摘 要： | <正>据日本《O Plus E》杂志1990年第129期报道,美国IBM公司已研制成不用显影液等显影材料的全干法型新一代光致抗蚀剂(感光树脂),可用于VLSI工艺.为了制作VLSI的微细电路图形,目前在显影处理时通常都使用显影液.新抗蚀剂在曝光后加热到100℃,就能完成显影处理.液体显影因抗蚀剂吸收显影液而造成精度下降.由于光刻干法化,便于微细加工,从而可进一步提高IC的集成度. |
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