对锅炉盐酸清洗工艺相关问题分析

本文从锅炉酸洗的安全要求、清洗回路的设置、清洗前的准备工作、化学清洗步骤和注意事项、清洗过程的监督检测、清洗废液的排放、化学清洗过程中的安全措施、清洗质量检查评定等进行了具体的论述，并列举实例证明其清洗质量得到了保证。     

大气压等离子体清洗的反应动力学方程

近些年,大气压等离子体射流清洗得到广泛的关注,而实现等离子体射流清洗效果的定量控制也是这些年研究的热点之一.文中在反应动力学理论和阿仑尼乌斯定律的基础上建立了大气压等离子体射流清洗的反应动力学方程,并根据所建立的反应动力学方程确定了等离子体射流清洗装置反应动力学方程中的参数:指前因子和活化能,从而建立了该射流清洗装置的反应动力学方程,并将反应动力学方程所得到的清洗效果理论值与相同参数条件下实验所得到的清洗效果进行了对比,结果表明实验值与理论值吻合的很好,验证了所得到的大气压等离子体射流清洗反应动力学方程的可靠性.大气压等离子体射流清洗反应动力学方程的建立为实现现代化工业生产中清洗效果的定量控制提供理论基础和研究方法.     

容器内壁射流清洗效果的评价与优化

以清洗面图像的平均灰度值为指标,对清洗效果进行评价,从而达到对容器内壁清洗进行研究和分析的目的;以固定式清洗球作为产生射流的基本元件,通过改变流体的压力、清洗的时间、清洗球的位置等方式来研究清洗效果的影响因素,对容器内壁射流清洗的参数进行优化.实验表明:在某一水平高度上,如果要得到较好的清洗效果,清洗球应置于中心位置;清洗球水平居中,变换其竖直位置,置于容器顶部时的清洗效果最好.     

涂装油缸清洗机喷淋清洗筒结构的设计

以涂装油缸为实验对象,根据涂装油缸清洗机喷淋清洗筒自身的结构特点,分析油缸在进行涂装之前受污染的主要原因。从清洗机设备的工作原理入手,找出原有设备在清洗油缸工件时因喷淋清洗筒结构设计的不合理,导致对油缸工件表面清洗不彻底、喷淋清洗后无法及时进行干燥等问题。通过改进设计清洗机喷淋清洗筒内外部分的结构、合理优化喷淋清洗筒的相关参数来解决上述存在的问题,使涂装油缸的清洗质量和效率得到显著提高。     

超滤膜处理含油污水后污垢的清洗

超滤装置在处理含油污水时，浓差极化与凝胶层同时存在，凝胶层一旦形成，便大大超过浓差极化的作用．此时单用传统的清洗方法难以恢复膜的透水通量．在油田污水站用管式超滤膜组件对采油污水进行了处理，分析了膜面污染的组成，试验了油—酸—碱、碱—酸—碱、碱洗等清洗方法．针对中型管式超滤膜组件，确定了低压大流量冲洗结合化学清洗的清洗步骤．该法具有清洗操作简单，清洗剂各成分较易得到的优点．实验中所用管式膜组件经用上述方法清洗后，水通量可以得到较大程度甚至完全的恢复．     

基于Ansys分析的液压系统管路清洗方法研究

针对液压系统管路清洗问题,利用流动紊流状态和污染物颗粒尺寸理论确定清洗流量.应用Ansys Workbench的流体动力学模块对管路内部流场进行仿真研究,确定了管路清洗时管路串并联的连接方式.对清洗试验所取油液样品进行分析,得到清洗过程中污染度随时间的变化规律.对污染物形貌状态的分析确定了污染物来源,以针对性地控制污染.试验表明清洗方法可行、有效,可以为工程实践提供一定的技术支持.     

干冰清洗对混凝土表面损伤影响分析

采用KBQX-30DG单管干冰清洗机进行混凝土干冰清洗试验,结果表明清洗效果好,但试块表面会产生孔隙。基于正交试验,研究了清洗过程中的4个因素(干冰流量、清洗距离、清洗时间及喷射角度)对混凝土表面孔隙的影响。运用极差分析法对数据进行处理,结果表明干冰流量对表面孔隙率增长量影响明显,随着干冰流量的增加,表面孔隙率增长量增加,当干冰流量大于1.54 kg/min时,表面孔隙率增长量剧增;喷射角度对表面孔隙率增长量的影响较明显,喷射角度在55°~60°及85°~90°范围内,对表面孔隙率增长量多于喷射角度在65°~70°及75°~80°范围内;清洗距离与清洗时间对表面孔隙率增长量影响不明显。运用线性回归分析及层次分析法得到各因素的权值,通过权值计算得到的各因素对表面孔隙率增长量影响的主次顺序与极差分析相一致。各因素对表面孔隙率增长量的影响为隧道干冰清洗提供了一定的理论基础。     

机车检修段部件吹扫清洗房工艺方案研究

针对检修段机车检修修程发生变化和部件清洗产生交叉作业而造成每台机车占用多功能保洁房超时的问题,本文根据清洗部件种类和清洗工作量,计算了清洗部件所需用时,得出了部件吹扫清洗房的设计规模,最终给出适应检修段部件清洗的最佳工艺设计方案。本次设计的部件吹扫清洗房可以有效解决目前车体及部件清洗能力不足严重影响整车检修通过能力的问题,使整车检修通过能力得到保障,减少了检修停时,同时减少了作业人员配置,取得了十分可观的经济效益。     

等离子体清洗GaAs和Al2O3衬底的RHEED图像分析

针对GaAs和Al2O3作为外延GaN薄膜的主要衬底材料,采用电子回旋共振等离子体增强金属有机化学气相沉积(ECR-PEMOCVD)工艺对其分别进行纯氢、氢氮等离子体清洗,并配备高能电子衍射仪(RHEED)实时监测清洗过程．CCD的RHEED图像分析表明,在一定条件下用纯氢等离子体对GaAs衬底清洗只需1min左右,即可得到比较平整的清洗表面,但清洗2min以上表面质量开始变坏．若在氢气中加入少量氮气,清洗时间可延长至10min左右．而Al2O3衬底对纯氢等离子体的清洗时间比较敏感,清洗2min左右就能获得平整的清洗表面,若时间延长到4min,表面质量将开始变坏．如果采用氢氮等离子体清洗,约需20min时间,而且在很宽的清洗时间范围(20～30min)内都能获得良好的清洗表面．     

均匀设计法在去钻污工艺优化中的应用

运用实验设计方法对等离子清洗挠性印制线路板去钻污工艺参数进行了优化。结果表明，用均匀设计法进行试验，仪需试验12次便可获得实验结果，通过非回归分析即可得到凹蚀量y（μm）与CR含量、射频功率、真空度、温度、时间等因素的回归方程。其方程具有很好的拟合度，并取得了良好的清洗效果，为后续工序得到合格的金属化孔提供了保证。     

脉冲空气刀式中央空调清洗机器人

中央空调的广泛使用为人们生活带来舒适的同时,由于空调系统不能得到及时清洗而引起的空气污染也越来越引起人们的高度重视,空调清洗已成为人们提高生活质量的一项迫切需求。本文在研究国内外管道清洗机器人现状的基础上,通过实验试制,设计出一种新型的运用脉冲空气对中央空调管道进行清洗的机器人,以达到净化空调管道系统的目的。本课题设计包括以下几个方面:机器人行走机构、机器人主架、喷气机构、防尘装置以及其他辅助设备的设计选择。     

新型清洗剂“811”、“812”清洗半导体表面杂质的机理

用放射性同位素示踪法研究清洗剂“811”和“812”对半导体表面沾污杂质的清洗效果表明,用811、812清洗半导体表面沾污的蜡和油脂等有机杂质效果很好,用812清洗半导体表面沾污的铁、金、铬、钠等金属杂质都能得到很好的效果,清洗效率均可大于97%,甚至大于99.9%,在某些条件下比用酸、碱清洗还要高一些.有关工厂在生产中应用811、812作为半导体清洗剂,其半导体器件产品的合格率比用酸、碱和有机溶剂的清洗还有所提高.清洗机理是一个十分重要的问题.为什么清洗效率如此之高呢?我们用多种方法研究了811、812对半导体硅片和锗片表面沾污杂质的清洗机理.结果表明,其清洗效率之所以如此之高,是由于811、812是一种表面活性剂,812既是表面活性剂又是较强     

反渗透膜污染分析与在线清洗方案的选择

反渗透膜分离技术已得到广泛应用,膜污染问题直接影响该技术的可靠性,膜污染物正确分析和清洗方案的合理选择至关重要。通常的污染主要有化学垢、有机物及胶体污染、微生物污染等,不同的污染表现出的症状是不同的,不同厂家的膜污染症状也有一定的差异。利用膜污染组分分析和清洗方案实例,说明清洗方式选择的重要性。     

湿法化学清洗设备的防护措施

主要介绍了半导体晶圆RCA清洗工艺及化学涅法清洗设备在使用时安全隐患和防腐保护措施的应用。在设备的主体,电气控制系统、加热系统、排放系统等部分的设计的独创性和实用性得到广泛的应用。一定程度上解决了该设备在应用中的安全隐患,具有重要的意义。     

高温陶瓷过滤器反向脉冲过程过滤管瞬态流场分析

建立了高压陶瓷过滤器反向脉冲清洗的数学模型,得到了反向脉冲清洗的一维非稳态的压力分布解析解,进而得到了反向脉冲过程中的管内动态压力分布曲线,证实了负压区的存在.分析了反吹过程的正压峰值和负压峰值与渗透率、脉冲宽度和喷吹压力之间的关系.分析指出,负压区的存在不仅与反向脉冲系统的结构有关,而且和多孔介质本身的性质有关,这对于优化脉冲清洗系统设计具有一定的意义.结果表明,在保证脉冲反吹效果的前提下,应该选择较小的喷吹压力和脉冲宽度.     

张文利谈:怎样认识化学清洗

化学清洗作为一门新兴的技术,近年来得到了长足发展,但因其具有很强的技术专业性,其中内涵则不为常人所明了。许多人想了解化学清洗到底是一门怎样的技术?在工业领域中扮演一个怎样的角色?为此,本刊记者走访了北京化工大学化新技术公司化学清洗中心经理张文利先生。记者:在化工领域颇具影响的北京化工大学选择了执业化学清洗业,请问是基于怎样的考虑?张:科技成果尽快转化为商品,走科研、设计、施工相结合之路乃校办产业发展之必然。北京化工大学执业化学清洗,有其得天独厚的优越条件,首先是人才的优势。1983年我校即组建了腐蚀与防     

激光净化能量密度阈值的相轨道研究

建立了激光清洗的物理模型，探讨了激光辐照下基底表面和吸附粒子位置随时间的变化规律，作出粒子运动的相轨道，从相轨道角度对激光净化能量密度阈值进行研究．激光清洗Al基底上的Fe粒子，本文对激光清洗Al基底上的Fe粒子所计算的能量密度阈值比用其它方法得到的结果更与实验值接近．     

超声波去蜡清洗技术研究

超声波清洗技术是半导体材料制备的主要清洗方法,极大地提高了半导体材料制备的工作效率和清洗效果。阐述了超声波清洗作用原理。通过调节超声机功率密度、频率,进行晶片去蜡清洗实验,验证、分析了超声清洗过程中超声机功率密度、频率对晶片去蜡清洗的影响。     

激光清洗在金属表面处理中的应用研究进展

激光清洗可以高效去除金属表面杂质和氧化物,提高表面质量,具有无污染、对基体伤害小、清洗效率高等优点。本文综述了激光清洗在金属表面脱漆除锈、轮胎模具清洗、微型机械清洗、文物保护、去油污以及核净化等方面的应用研究进展,发现目前该领域存在的问题主要是激光清洗的机理、工艺还不够完善,对于不同的材料没有明确清洗阈值和损伤阈值之间的关系,未来应完善不同材料的清洗机制,明确清洗阈值,以实现精密高效清洗。     

碳分子筛分离氧氩过程的实验研究

基于碳分子筛动态吸附机理,建立了分离氧氩的实验装置.实验研究了流程形式、清洗比、吸附时间对碳分子筛分离氧氩过程性能的影响.结果表明,循环过程中增加产品气清洗阶段可以显著提高解吸气的纯度.为了得到质量分数为99.0%以上的氧气,循环过程中清洗比应控制在0.4左右,最佳吸附时间为60 s.以95%氧、5%氩的混合气作为原料气,实验装置的产品气纯度可以达到99.4%,氧气回收率为42%.