镜面抛光技术的进展

在机械加工过程中,抛光加工技术作为末端加工工艺,可以明显改善机件表面的粗糙度及装饰效果。机件的表面质量直接影响整机设备的综合使用性能、精度保持性和使用寿命。不同的抛光加工工艺,获得的表面质量各有不同。通过对机械抛光技术、电化学抛光技术和超声波抛光技术的研究,阐述了抛光加工技术在制造业中的作用和地位,同时分析了抛光加工技术的发展趋势和存在的问题,     

不锈钢表面抛光技术的研究进展

介绍了化学抛光、电化学抛光及复合抛光的特性、优缺点以及如何应用这些工艺技术对不锈钢进行着色前处理,指出了不锈钢表面抛光技术的发展方向。     

环保型不锈钢电抛光工艺

叙述了不锈钢电化学抛光工艺技术,并推出新型环保型不锈钢电化学抛光工艺以减少环境污染。     

不锈钢杯内壁的电化学抛光

介绍了双极性电化学抛光的基本原理,采用该方法对不锈钢杯内壁进行了抛光工艺研究,确定了抛光工艺.结果表明:用双极性电化学抛光法对不锈钢杯内壁进行抛光,可以得到理想的抛光效果,而且解决了采用传统的电化学抛光法抛光不锈钢杯内壁存在的阴极安装困难而且易短路等问题.     

铝合金无铬电化学抛光研究

采用紫外光谱和电化学测试方法,研究铝合金无铬电化学抛光添加剂、配方、工艺,其抛光效果优于铬酸电化学抛光,是一项有应用前景的新工艺。     

不锈钢在硫酸-磷酸溶液中的电化学抛光行为

利用电化学方法采用线性伏安扫描、循环伏安和电化学阻抗测试研究了HR-1不锈钢在硫酸-磷酸溶液中的电化学抛光行为。实验结果表明,实验所得阳极极化曲线与理论阳极极化曲线吻合较好,证明了在抛光过程中钝化膜的存在,钝化膜形成的电压为0.75~1.25V,最佳的抛光电压区域为1.25~1.75V。通过分析研究,对优化电化学抛光参数,更好的将电化学抛光技术应用于实际生产具有指导意义。     

银电化学抛光工艺研究

采用电化学抛光方法对银进行了表面处理,考察了抛光液各组分以及主要工艺参数对抛光效果的影响.结果表明,经本工艺抛光后的银表面光亮、清洁,达到镜面效果.抛光液组成简单,维护方便,操作安全,是一种理想的银电化学抛光工艺.     

金及其合金抛光技术的研究进展

综述了金及其合金的机械抛光、化学抛光和电化学抛光技术.介绍了金及其合金的氰化物型电解液,以及硫脲型、混合酸型和氯化物型电解液等无氰的电化学抛光工艺.指出了金及其合金抛光技术发展中存在的问题以及今后的发展趋势.     

金属管件内表面的电化学抛光

介绍了电化学抛光的基本原理和管件内表面电化学抛光的移动式阴极结构，对酸性和中性抛光电解液的优、缺点及其应用范围进行了分析、比较，给出了几种应用范围比较广泛的电化学抛光的电解液配方和相应的加工工艺参数。     

马氏体不锈钢电化学抛光工艺研究

通过对比实验研究了电化学抛光液各组分及工艺参数对马氏体不锈钢抛光质量的影响,确定了以磷酸、硫酸和添加剂为主要成分的适用于马氏体不锈钢的电化学抛光液。结果表明,由抛光液抛光后的马氏体不锈钢可以达到5级的光亮效果。     

雾化施液单晶硅互抛抛光速率实验研究

调节自配抛光液的H2 O2含量、pH值、抛光盘转速和抛光压力,通过电化学实验,探究单晶硅互抛抛光过程中抛光工艺参数对腐蚀电位、腐蚀电流和抛光速率的影响规律,并解释其电化学机理.实验结果表明:雾化施液单晶硅互抛抛光速率随着pH值、H2 O2浓度和抛光盘转速的增大呈现先增大后减小的趋势,并在pH值为10.5、H2 O2浓度为2％、抛光盘转速为70 r/min处达到最大值,随着抛光压力的不断增大而增大;通过雾化施液单晶硅互抛抛光实验得到合理的工艺参数:pH值为10.5、H2 O2浓度为2％、抛光盘转速为60 r/min、抛光压力为7 psi,在该参数下,硅片的抛光速率达到635.2 nm/min,表面粗糙度达到4.01 nm.     

不锈钢电化学抛光技术研究

研究了不锈钢电化学抛光液中各成分的作用及操作条件对抛光质量的影响。本工艺在中温、小电流密度下能很快获得光亮、平整的抛光面。     

电化学抛光

电化学抛光是一种使用电解液及直流电流的金属表面处理方法,与电镀类似,与之不同的是电化学抛光把被加工的零件作为阳极,正好与电镀相反[1]。     

电化学预抛、机械精抛、蚀刻打标三合一体抛光技术

抛光是任何模具制造过程中的一个重要环节。本文介绍较先进的电化学抛光、常规的机械抛光、结合电化学打标功能。     

钛片电化学抛光工艺及耐蚀性研究

以含氯离子的乙二醇溶液为抛光液,研究了槽压、温度、时间对钛片表面电化学抛光效果的影响,得到电化学抛光的最佳工艺为:槽压30V,温度50℃,时间180 s.采用扫描电镜、Tafel极化曲线及表面粗糙度测试等方法,研究了电化学抛光后钛片的表面形貌、耐蚀性、粗糙度等性能,同时与传统的机械抛光及化学抛光方法进行了比较.结果表明...     

铝及铝合金非铬电化学抛光工艺的研究

对铝及铝合金的电化学抛光进行了研究 ,针对传统方法 ,研制出了一种组合添加剂 (AH-1)代替铬酸。经过实验测定 ,采用此方法 ,加入少量组合添加剂获得的抛光表面状态、光亮度等性能指标均达到或优于铬酸抛光 ,并且此方法消除了铬的污染 ,具有很好的应用前景。     

3Cr13,4Cr13不锈钢制品的电化学抛光

一前言电化学抛光是近几十年来发展起来的技术,是直接应用电化学反应去除切削加工所残留的微观不平度,以提高表面光洁度的加工方法。由于电抛光效率高,精度高,有逐步取代机械抛光的趋势,特别是目前不锈钢制品的大量出现,研究者对不锈钢电化学抛光的各种技术产生了浓厚的兴趣。有人提出对4Cr_(13)钢在H_2SO_4、H_3PO_4、甘油、水混合溶液中能进行良好的抛光,原始表面光洁度是(?)5,     

AAO模板制备中高纯铝电化学抛光工艺的研究

研究了高纯铝片在硫酸-磷酸-乙二醇体系中的电化学抛光工艺。确定了电化学抛光体系的配方。探讨了阳极电流密度、抛光温度、抛光时间和搅拌方式对抛光质量的影响。获得了最佳抛光工艺参数:Ja=25A/dm2,θ=85～93°C,t=10～15min,机械搅拌。新的环保型电化学抛光体系为制备优良的AAO模板奠定了基础。     

铝及铝合金的表面抛光

介绍了铝及其合金机械抛光,化学抛光,电化学抛光的研究进展,其中较为详细地介绍了无毒化学抛光,铸铝合金化学抛光,无铬酸电化学抛光技术等。     

硫酸-磷酸-铬酸电化学抛光对钼片表面状态的影响

以硫酸-磷酸-铬酸体系为电解液,对钼片进行电化学抛光。通过测定阴极极化曲线,研究了抛光过程中电压和电流之间的关系。表征了抛光前后钼片的微观形貌、粗糙度和尺寸等。在2.0 A/cm~2下对钼片电化学抛光30 s,可得到均匀平整、无明显坑点的表面,粗糙度由抛光前的0.20μm降至0.05μm。通过严格控制抛光时间可有效保证样品的几何尺寸精度。