金及其合金抛光技术的研究进展

综述了金及其合金的机械抛光、化学抛光和电化学抛光技术.介绍了金及其合金的氰化物型电解液,以及硫脲型、混合酸型和氯化物型电解液等无氰的电化学抛光工艺.指出了金及其合金抛光技术发展中存在的问题以及今后的发展趋势.     

电化学抛光

电化学抛光是一种使用电解液及直流电流的金属表面处理方法,与电镀类似,与之不同的是电化学抛光把被加工的零件作为阳极,正好与电镀相反[1]。     

硫酸-磷酸-铬酸电化学抛光对钼片表面状态的影响

以硫酸-磷酸-铬酸体系为电解液,对钼片进行电化学抛光。通过测定阴极极化曲线,研究了抛光过程中电压和电流之间的关系。表征了抛光前后钼片的微观形貌、粗糙度和尺寸等。在2.0 A/cm~2下对钼片电化学抛光30 s,可得到均匀平整、无明显坑点的表面,粗糙度由抛光前的0.20μm降至0.05μm。通过严格控制抛光时间可有效保证样品的几何尺寸精度。     

不锈钢着色前处理——抛光

本文主要综述了不锈钢着色前的抛光处理技术：机械抛光、化学抛光、电化学抛光，并对其作了详细的介绍和比较。     

铝合金无铬电化学抛光研究

采用紫外光谱和电化学测试方法,研究铝合金无铬电化学抛光添加剂、配方、工艺,其抛光效果优于铬酸电化学抛光,是一项有应用前景的新工艺。     

聚氯乙烯聚合釜内壁电解抛光机床的技术改造

针对聚合釜内壁抛光机床生产周期长、效率低、污染严重等问题进行了技术改造。通过改变磨头结构类型、采用卤盐复合电解液代替硝酸钠盐电解液的抛光工艺，取得了明显的效果，抛光效率提高两倍以上，抛光质量好、无污染、节约了生产费用。     

不锈钢表面抛光技术的研究进展

介绍了化学抛光、电化学抛光及复合抛光的特性、优缺点以及如何应用这些工艺技术对不锈钢进行着色前处理,指出了不锈钢表面抛光技术的发展方向。     

硫酸-甲醇体系钨电解抛光的可行性研究

以硫酸-甲醇酸性体系作为电解液,对钨箔进行电解抛光研究.抛光后钨的表面均方根粗糙度和反射率的测试结果表明,该体系完全适用于金属钨的电化学抛光,对钨的阳极溶解行为进行了分析,讨论了溶液组成、槽电压、温度和搅拌速率对电抛光后钨表面粗糙度的影响.初步确定了金属钨电解抛光的工艺参数为:硫酸与甲醇的体积比1:7,槽电压15～22V,温度15～25℃,搅拌速率10m/s.     

铝合金电化学抛光工艺现状

本文简要介绍了酸性和碱性电化学抛光的配方及工艺参数,分析了各自技术的优缺点及部分研究成果,指出了电化学抛光技术的发展趋势。     

硫酸–甲醇体系钨电解抛光的可行性研究

以硫酸–甲醇酸性体系作为电解液,对钨箔进行电解抛光研究。抛光后钨的表面均方根粗糙度和反射率的测试结果表明,该体系完全适用于金属钨的电化学抛光。对钨的阳极溶解行为进行了分析,讨论了溶液组成、槽电压、温度和搅拌速率对电抛光后钨表面粗糙度的影响。初步确定了金属钨电解抛光的工艺参数为:硫酸与甲醇的体积比1∶7,槽电压15～22 V,温度15～25°C,搅拌速率10 m/s。