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本文采用激光诱导大分子有机硅熔(HMDS)气相反应,通过加入附加反应气和工艺参数的优化控制,在不同合成条件下制得单相非晶Si3N,β-SiC纳米粉和宽组份变化范围的SiNxCr纳米复合粉(平均粒径:10-30nm),与通常采用的硅烷相比,采用此有机硅烷激光合成在等同实验条件下粉产率可提高3-5倍,成本降低1倍,且具有粉体组成,结构易于控制等优点,是一种具有商业化应用前景的高性能硅基钠米陶瓷粉制备技 相似文献
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化学气相沉积法制备SiC纳米粉 总被引:11,自引:0,他引:11
本工作采用二甲基二氮硅烷和氢气为原料,在1100-1400℃温度条件下,通过化学气相沉积制备出了高纯、低氧含量的纳米SiC粉体,实验结果指出,在1100-1300℃,制备得到的粉体颗粒由于锭型相和β-SiC微晶组成;而在1400℃则粉体颗粒主要由β-SiC微晶无序取向组成,随反应条件的改变,粉体平均粒径和β-SiC微晶的平均尺寸分别在40-70nm和1.8-7.3nm范围内变化,同时,产物粉体的C 相似文献
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研究了用气相裂解法制备Si-C-N复合纳米微粉时CH3SiHCl2氨解产物先驱体的合成及形成气溶胶时的行为,结果表明:合成温度对先驱体的摩尔质量有较大的影响,摩尔质量随氨解温度的降低而增大;在温度较高时(10℃)合成的先驱体的摩尔质量小,分子内端基存在较多的NH2基因,在气化时-NH2基团与Si-H交联而使残余物增加;在-10℃时合成的先驱体摩尔质量较大,分子内端基上-NH2基因较少,在气化时残余 相似文献
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用XRD法研究了退火Fe73.5Cu1Nb3Si13.5B9合金中α-Fe(Si)晶化相的有序化过程,结果表明,Fe73.5Cu1Nb3Si13.5B9非晶合金在490℃,1h退火后,α-Fe(Si)晶化相是具有DO3结构的有序相,有序畴为球形,直径为7.0nm,它随退炎温度的升颃是长大,在590℃退火后达10.9nm,与α-Fe(Si)的尺寸相当,此时α-Fe(Si)的有序度为0.8,在850℃ 相似文献
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本文采用机械混合Si3N4,AlN,Al2O3,Dy2O3和纳米β-SiC粉料,通过热压烧结,制备了10wt%纳米SiC颗粒增强α-SiAlON复合材料。力学性能测试表明,在室温时复合材料的维氏硬度,压痕断裂韧性和三点弯曲强度比单相α-SiAlON略高。但复合材料的三点弯曲强度可以保持到1000℃,其值为这时单相α-SiAlON的两倍。断口形貌表明复合材料的晶粒尺寸比单相α-SiAlON的小,这两种材料的室温断裂方式均以穿晶断裂为主。研究表明,低粘度的玻璃相是造成单相α-SiAlON高温性能下降的主要原因,而纳米SiC的加入可以促使晶界相结晶,从而使复合材料的高温性能维持到较高的温度。 相似文献
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研究了含硼Si-N-C纤维的组成、结构及其在高温环境下的变化。IR、XPS、EA、SRD、SEM等分析结果表明,1250℃烧成的含硼Si-N-C纤维由Si、N、C、O、B几种元素组成,呈无定形结构;经1800℃高温处理后纤维的主要结构变为α-SiC。在高温环境下,B始终以B-N键形式稳定存在,与Si-N-C纤维比较,含硼Si-N-C纤维表面光滑,晶粒尺寸小,表明硼的引入可以有效改善纤维高温下的微观 相似文献
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在等离子体化学气相沉积系统(PECVD)中,使用高氢稀释硅烷(SiH4)加乙烯(C2H4)为反应气氛制备了纳米硅碳(nc-SiCx^2H)薄膜,随着(C2H4+SiH4)/H2(Xg)从5%时,由于H蚀刻效应的减弱,薄膜的晶态率从48%下降到8%,平均晶粒尺寸在3.5-10nm。当Xg≥6%时,生成薄膜为非晶硅碳(a-SiCx^2H)薄膜。nc-SiCx^2H薄膜的电学性质具有与薄膜的晶态率紧密相 相似文献
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用氮气雾化法制取了Al-21.54%Si合金微粒并进行700℃重熔处理,对加Sr变质的Al-13.23%Si合金熔体进行了直流电处理。用扫描和透射电研究了不同处理条件对Al-Si合金中共晶硅生长形态的影响。结果表明,快速凝固法制取的合金微粒与重熔处理试样中,共晶硅呈球状和条状。加Si变质的共晶硅为弯扭的纤维状,直流电熔体处理后共晶硅转变为圆状,其颗粒尺寸为50-200nm。 相似文献
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采用常压烧结方法制备了Mn掺杂的(K0.5Na0.5)0.96Sr0.02Nb1-xMnxO3无铅压电陶瓷.研究了Mn含量对该体系材料的相组成、微观结构、介电、压电和热稳定性能的影响.XRD表明随着Mn含量的增加,体系由正交相过渡到赝四方相;而且,富Na的第二相消失,得到纯净的钙钛矿相结构.在Mn含量为x=0.03和0.04时,观察到了两个温度(200和390℃)处的介电反常,这和晶格畸变引起的复晶胞结构有关.Mn含量为x=0.02时,得到综合性能优良的压电超声换能器用材料:介电常数ε^T33/ε0=479,压电常数d33=121pC/N,机电耦合系数Kp=41%,机械品质因子Qm=298,介电损耗tanδ=1.6%,居里温度Tc=391℃,谐振频率αfr和机电耦合系数Kp随温度的变化率αfr(80℃)和αKp(80℃)分别为-1.85%和1.19%. 相似文献
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自变频激光晶体Nd3+:GdAl3(BO3)4的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
采用熔盐法生长出尺寸为30mm的Nd3+:GdAl3(BO3)4优质晶体,进行了吸收光谱和荧光光谱的测定研究,计算得到晶体发射截面为σe1061.9=2.9×10-19cm2和σe1338mm=5.5×10-20cm2.采用染料激光器作为泵浦源,对晶体进行了自变频激光实验研究,在紫外可调谐(378-382nm)、绿光531nm、蓝光(436-443nm)、红光(669nm)和红外可调谐(1305-1365nm)波段实现了激光输出,输出的最大功率分别为:105μJ/脉冲、119.5μJ/脉冲、445μJ/脉冲、19μJ/脉冲和31μJ/脉冲. 相似文献
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采用脉冲激光沉积法, 在(100)SrTiO3基底上, 制备了(La0.2Bi0.8FeO3)0.8-(NiFe2O4) 0.2(LBFO-NFO)多铁薄膜, 通过X射线衍射仪和场发射扫描电子显微镜确定了LBFO-NFO多铁薄膜的显微结构, 通过标准铁电测试系统(RT-66A)和振动样品磁强计(VSM)分别测试了LBFO-NFO多铁薄膜的铁电性能和铁磁性能. 研究发现: 多铁薄膜中LBFO和NFO二相均沿(100)方向外延生长, 晶粒尺寸在100~150nm之间; 薄膜具有明显的电滞回线(Ps=7.6μC/cm2)和磁滞回线(Ms=4.12×104A/m), 显示出明显的铁电铁磁共存特性. 通过对薄膜生长条件的控制, 可削除杂质相, 减小LBFO-NFO薄膜的漏电流, 提高铁电及铁磁性能. 相似文献
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GdAl3(BO3)4:Eu3+荧光粉的光致发光特性 总被引:4,自引:0,他引:4
用硝酸盐热分解法合成了单相粉末样品Gd1-xEuzAl3(BO3)4(0≤x≤1),研究了Eu^3 在GdAl3(BO3)4中的紫外和真空紫外光谱性质.GdAl3(BO3)4:Eu^3 中稀土离子占据非中心对称的格位,Eu^3 在其中的特征发射以^5D0→^7F2电偶极跃迁为主,在147nm激发下GdAl3(BO3)4:Eu^3 呈色坐标为(0.645,0.330)的强红光发射,说明是非常有前途的PDP用红色发光材料,在GdAl3(BO3)4:Eu^3 的真空紫外光谱中观察到两个峰,158nm的激发带归属于B03基团的吸收,258nm处的激发带为Eu^3 →O^2-的电荷转移跃迁带.在147nm激发下,GdAl3(BO3)4:Eu^3 的红光发射强度随着Eu^3 浓度的增加而减弱,而在258nm激发下随Eu^3 浓度的增大Eu^3 的红光发射增强,说明它们发光的机理不同。 相似文献
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用脉冲激光沉积(PLD)法制备了钙钛矿锰氧化物La(0.9)Ce(0.1)MnO3(LCEMO)单晶薄膜.X射线衍射分析表明,薄膜具有钙钛矿赝立方结构,且沿(100)方向择优生长;电阻-温度关系给出其存在金属-绝缘体相变和庞磁电阻(CMR)效应,相变温度(T_(MI))为213K;在0.1T的磁场下,其磁电阻峰值为38.5%,对应的温度为153K;其电阻在低温区满足R=R0+R1T-2+R2T^4.5,在高温区符合小极化子输运.薄膜在绿激光(532nm,40mW)作用下TMI向低温方向移动;这主要是由于激光激励下体系的自旋发生了变化.且电阻与时间的变化曲线满足关系:R(t)=R0+Aexp(—t/r),说明薄膜在激光作用下具有明显的与自旋相关的弛豫现象. 相似文献