不连续金属薄膜对短波长软X射线多层膜反射特性的影响

讨论了不连续金属薄膜对软Ｘ射线多层膜反射特性的影响。给出了理论模型，具体计算了在短波段的软Ｘ射线多层膜反射率与不连续金属岛状膜在基底表面覆盖率之间的关系，修正了文献中的评估方法，并建立了新的定性评估包含不连续金属膜层的软Ｘ射线多层膜光学特性分析模型     

软X射线多层膜元件研究进展

对各国进行的软Ｘ射线多层膜研究所取得的最新成果给出了比较系统全面的评述，首次给出了文献报道的软Ｘ射线全波段的各种膜系实测正入射反射率的统计结果。     

基于模拟退火的软X射线多层膜反射镜设计

基于模拟退火(SA)算法,对软x射线短波段中的几个波长的多层膜反射镜进行了优化设计,获得了它们的光学参数,包括多层膜反射镜的最佳周期厚度、最佳厚度比和峰值反射率,进而制作多层膜反射镜并在北京同步辐射装置上进行了反射率的实际测量。测量结果表明,该反射镜具有实用的反射率。这表明,SA方法适用于软x射线短波段多层膜反射镜的优化设计。     

波长为1.03nm的掠入射多层膜反射镜的设计

在软x射线短波段1.03nm处的掠入射多层膜反射镜的设计中，本文提出了一种理论设计的修改方法。该方法考虑了基底，膜层界面间的均方根粗糙度与反射率的影响，对界面的数学描述源于D.G.Sterns的散射理论。设计结果表明：要在1.03nm处制做较高反射率（10%）的掠入射多层膜反射镜，基底粗糙度小于0.56nm即可，使用超精加工的粗糙度为0.5nm的基片作为基底，沉积了多层膜反射镜后，其反射率结果是10%，与修改方法结果一致。     

35—50nm真空紫外波段的高反射率多层膜反射镜

以快放电或可见短脉冲激光泵浦的台式Ｘ射线激光器的出现［１］使实验室规模的相干Ｘ射线实验成为可能［２～４］,实验装置中至今仍很缺乏的一个重要元件是用于操纵光束的高反射率反射镜。设计制造波长在３５～５０ｎｍ范围的反射膜层相当困难。在更短波长上,比如用Ｍｏ－Ｂｅ（λ＝１１．５ｎｍ）和Ｍｏ－Ｓｉ（λ＝１３ｎｍ）做成的多层反射镜的正入射反射率已达到６０％［５］。而这里所讨论的波段正好是落在长波范围（其固体光谱由价电子激发产生）和短波范围（其内壳电子激发具有关键重要性）之间。在这个光谱波段,既不能使用Ａｌ和…     

软X光激光用多层膜反射镜的制备与检测

介绍在制备和检测软Ｘ光激光用多层膜反射镜中听做的研究工作。重点是制备过程，包括基板、镀膜设备、膜厚控制方法，以及经大量实验得出的镀膜工艺条件、给出了利用Ｘ光射线衍射仪所做的周期结构检测结果，以及利用激光等离子体作光源的精密反射率计所作的反射率测量结果。最后，对工作进展和存在的问题做了简略评述。     

软X射线高反射率多层膜反射镜

日本松下技术研究所用准分子激光CVD工艺技术实现软X射线聚光用高反射率多层膜反射镜,这种反射镜是在硅基板上由钨(W)和硅(Si)交互沉积的多层膜(W/Si)构成椭圆柱面反射镜(尺寸:55×55mm~2,短半径60mm),(图1).多层膜的各层,在基板纵剖面内的膜厚是不同的.该椭圆形反射镜能把点光源发出的软X射线聚成光束.所发出的两条光线能聚焦成一点.     

常用间隔层材料软X射线多层膜的设计

为了研究常用间隔层材料的软X射线多层膜的材料设计,利用Lawrence-Livermore国家实验室提供的软X射线多层膜设计程序进行模拟计算,得到了软X射线波段内的具有高反射率的膜系。结果表明,Mo在相当大的波段范围内具有良好的光学特性;除了在12.44nm是首选膜系外(除4.36nm外),其它波长都有较高的反射率;U作为吸收层材料,在相当大的波段范围内,与其它间隔层材料配对的多层膜也具有较高的反射率。这对多层膜膜系的材料选择有一定的指导意义。     

Mo/B4C多层膜界面热稳定性的TEM研究

软Ｘ射线光学多层膜反射镜应用于Ｘ射线激光、Ｘ射线显微镜、望远镜、Ｘ射线曝光机，同步辐射引出装置等，作为关键部件。这种多层膜由高原子序数和低原子序数的两种材料交替沉积堆垛而成。可看作间距纳米量级的一维晶体。目前Ｍｏ／Ｓｉ多层膜应用在波长为１３ｎｍ左右，...     

常用材料软X射线多层膜的全波段设计

利用薄膜光学理论及材料在软X射线波段的原子散射因子,设计了大批量的软X射线多层膜的计算程序,对常用材料的膜系配对进行了优化设计,给出的结果对软X 射线整个波段内的多层膜膜系的选择有一定的指导意义。     

低反射率光纤镜的制造

低反射率光纤镜是采用机械连接的方式在光纤的粘结端用一层ＴｉＯ２介质膜涂覆而成。当光纤镜的反射率为０．１％时，插入损耗为０．０５５ｄＢ－０．３ｄＢ，平均０．１５ｄＢ。     

Mo／Si多层膜界面离子束处理及TEM观察

Ｍｏ／Ｓｉ多层膜界面离子束处理及ＴＥＭ观察薛钰芝Ｒ．Ｓｃｈｌａｔｍａｎｎ，林纪宁Ａ．Ｋｅｐｐｅｌ，Ｊ．Ｖｅｒｈｏｅｖｅｎ（大连铁道学院，大连１１６０２２）（荷兰ＦＯＭ原子分子物理研究所）软Ｘ射线多层膜（ＭｕｌｔｉｌａｙｅｒｓｆｏｒＳｏｆｔＸ－ｒａｙＯ...     

长波长软X射线多层膜的设计与制备

“长波长软X射线多层膜的设计与制备”这篇论文介绍了用离子束溅射法制备长波长软X射线多层膜的研究工作,并报道了一种新的材料组合C/Si用于28.4nm(43. 65eV)和30.4nm(40.78 eV)波段的多层膜反射镜,并且用离子束溅射装置制备了正入 射条件下的C/Si多层膜反射镜.同时,用软X射线反射计测量了样品的反射率,从实验结果看出,制备的多层膜样品在28.4nm和30.4nm波段附近的实测正入射反射率分别达到11.4%和14.3%,实验指标达到了国内领先水平,并接近了国际水平.     

软X射线多层膜反射镜界面粗糙度的一种估算方法

介绍了描述单个非理想粗糙界面散射的D .G .Stearns法 ,它适用于软X射线短波段区域。将这种方法应用到多层膜结构 ,并采用它的数学模型来描述软X射线短波段区域 (1～ 10nm)多层膜界面粗糙度。在此理论下 ,对波长为 4.77nm的Co/C多层膜反射镜界面粗糙度进行了分析 ,估算出该多层镜界面间均方根粗糙度为 0 7nm。     

808nm激光器端面镀膜技术

通过对AlGaAs／GaAs808nm半导体激光器谐振腔的前后端面分别蒸镀Ta2O5／SiO2膜系高反膜和Al2O3单层增透膜，使得前后端面的反射率分别达到11％和98．42％。器件在同一驱动电流下镀膜后的输出功率比镀膜前增加了一倍多，同时镀膜还有效地保护了端面，延长了器件工作寿命。     

光纤端面多层膜反射率的干涉测量方法研究

为了解决光纤端面透明反射膜反射率的精确测量问题，利用镀有反射膜的待测光纤端面，构成法布里—珀罗(F—P)干涉仪，根据其透射光谱的自由谱宽和干涉峰的半宽值，计算出膜系反射率，避免了光源波动对测量结果的影响。在用反射率为92．0-98．6％的膜系所进行的实验中，测量误差小于0．09％。分析了误差来源。     

常用激光介质膜的斜入射性能

本文给出了多层介质膜反射率与入射角的关系的计算机程序，并列出了部份常用激光膜片反射率-角度曲线。     

下一代光刻用的新型反射镜

一种用于极紫外（EUV）光刻系统的高反射率反射镜已成为各国科学家研究的热点。虽然钼／硅（Mo／Si）或钼／铍（Mo／Be）多层膜堆层反射镜在１２nm波长处产生具有高达７０％或者更高的反射率，但是对于EUV系统使用的波长１０nm～１１nm的光源来说其反射率并不高。为此，美国加利福尼亚大学和劳仑斯利弗莫尔国家实验室的研究人员已经研制出由钼／锶（Mo／Sr）多层膜制作的反射镜，它对８nm～１２nm波长范围的光能够产生以往从未达到过的最高反射率。美国Sandia国家实验室已研制出一种氙射流激光产生等离子体，以作为下一代光刻用的一种…     

镶嵌晶体模型在计算KAP积分反射率中的应用

为了提高0．2～2nm软X-射线的空间分辨率,用晶格常数在纳米量级的LiF、PET、Mica和酞酸钾(KAP)四种晶体代替衍射光栅作色散元件。根据镶嵌晶体模型理论和量子散射理论,计算了KAP的积分反射率,计算结果表明KAP的积分反射率与波长有关,在0．61～2．23nm软X-射线范围内,KAP的积分反射率先随波长变长而降低,后随波长变长而升高,在1．83nm处的积分反射率最低,而能量分辨率在0．61～2．23nm软X-射线范围内一直随波长变长而降低。     

1.06 μm 连续激光辐照过程中45 号钢反射率变化机理

为研究合金在连续激光辐照过程中反射率变化机理,建立了积分球反射率测量装置,测量了1.06 m 连续激光辐照过程中45 号钢反射率变化。实验结果表明,激光辐照过程中反射率先快速下降,然后产生周期波动。随着激光功率增大,反射率开始下降点和最小值点对应温度逐渐升高,极大值个数增多。建立了多层氧化膜影响模型,结合氧化膜生长规律,分析了不同结构、不同厚度变化规律氧化膜层的反射率特征,实验结果验证了理论模型的合理性。结果表明,反射率变化主要原因是氧化膜生长引起的多光束干涉与吸收效应。由FeO-Fe3O4-Fe2O3 组成的三层氧化膜中,中间吸收型Fe3O4膜是反射率变化的主要影响因素,最外层Fe2O3 膜引起的干涉效应影响反射率的稳定值,最内层FeO膜的贡献可以忽略。