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| 光学系统像差对极紫外光刻成像特征尺寸的影响 | |
| 引用本文： | 明瑞锋,韦亚一,董立松.光学系统像差对极紫外光刻成像特征尺寸的影响[J].光学学报,2019,39(12):273-279. |
| 作者姓名： | 明瑞锋 韦亚一 董立松 |
| 作者单位： | 中国科学院大学微电子学院,北京100049;中国科学院大学微电子学院,北京100049;中国科学院微电子研究所,北京100029;中国科学院微电子研究所,北京100029 |
| 基金项目： | 国家科技重大专项;国家自然科学基金 |
| 摘 要： | |
| 关 键 词： | 光学设计 极紫外光刻 像差 特征尺寸偏差 工艺需求 |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ | |
