| 射频磁控溅射制备氮化锌薄膜的椭圆偏振光谱研究 |
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| 引用本文： | 陈仁刚,邓金祥,陈亮,孔乐,崔敏,高学飞,庞天奇,苗一鸣.射频磁控溅射制备氮化锌薄膜的椭圆偏振光谱研究[J].物理学报,2014(13):376-383. |
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| 作者姓名： | 陈仁刚 邓金祥 陈亮 孔乐 崔敏 高学飞 庞天奇 苗一鸣 |
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| 作者单位： | 北京工业大学应用数理学院; |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(批准号:60876006,60376007);北京市教育委员会科技计划重点项目(批准号:KZ201410005008)资助的课题~~ |
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| 摘 要： | 在不同的衬底温度下,使用反应射频磁控溅射法,在玻璃衬底上制备了氮化锌薄膜样品.用X射线衍射仪、原子力显微镜和椭偏仪对薄膜的晶体结构、表面形貌、光学性质进行了表征分析.薄膜的晶粒尺寸会随着衬底温度的升高先增大后减小,在200?C时薄膜的结晶性最好.用椭偏仪测试样品,建立物理模型计算出氮化锌薄膜在430—850 nm范围内的折射率和消光系数等光学参数.利用Tauc公式计算出氮化锌薄膜的光学带隙在1.73—1.79 eV之间.
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| 关 键 词： | 氮化锌薄膜 X射线衍射 椭偏光谱 光学参数 |
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