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| BSRF上同步辐射浓度光刻的实验研究 | |
| 引用本文： | 彭良强,作福廷,等.BSRF上同步辐射浓度光刻的实验研究[J].中国物理 C,2001,25(B12):128-130. |
| 作者姓名： | 彭良强 作福廷 |
| 摘 要： | 大结构深度和高深宽比是同步辐射深度光刻的突出优点。提出采用现有掩模，进行多次曝光、显影的方法，实验获得厚2.2mm的胶结构。系列研究掩模、光刻胶、基底、光谱和光强对深宽比的影响，实验获得深宽比104的胶结构。 |
| 关 键 词： | BSRF 实验研究 同步辐射深度光刻 超深结构 高深宽比 掩膜 曝光 |
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