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1.3μm InGaAsP/InP应变多量子阱部分增益耦合DFB激光器
作者姓名:陈博  王圩  张静媛  汪孝杰  周帆  朱洪亮  边静  马朝华
作者单位:国家光电子工艺中心,中国科学院半导体研究所
摘    要:本文在国内首次报道了采用直接刻蚀有源区技术在应变多量子阱有源区结构基础上制作了1.3μmInGaAsP/InP部分增益耦合DFB激光器,器件采用全MOVPE生长,阈值电流10mA,边模抑制比(SMSR)大于35dB,在端面未镀膜情况下器件单纵模成品率较高

关 键 词:DFB激光器 增益耦合 应变多量子阱
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