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新型含硅全氟磺酸膜性能研究
引用本文:余军,潘牧,袁润章.新型含硅全氟磺酸膜性能研究[J].电源技术,2006,30(1):51-52.
作者姓名:余军  潘牧  袁润章
作者单位:武汉理工大学,材料复合新技术国家重点实验室,湖北,武汉,430070
摘    要:采用纳米原位复合技术制备了Nafion/SiO~2复合膜,TG—DSC(热失重-差热)分析表明Nafion1135/SiO~2复合膜比Nafion1135膜具有较高的含水和保水能力;溶胀率测试表明Nafion1135/SiO~2复合膜能明显降低膜的溶胀形变,其形变能力只有Nafion1135膜的1/4;110℃时,Nafion1135/SiO~2复合膜的电阻率只有Nafion1135膜的1/2。

关 键 词:Nafion/SiO2复合膜  水分  形变  电阻率
文章编号:1002-087X(2006)01-0051-02
修稿时间:2005年4月29日

Performance research of new-type perfluorosulfonic acid silicon composite membrane
YU Jun,PAN Mu,YUAN Run-zhang.Performance research of new-type perfluorosulfonic acid silicon composite membrane[J].Chinese Journal of Power Sources,2006,30(1):51-52.
Authors:YU Jun  PAN Mu  YUAN Run-zhang
Abstract:
Keywords:Nafion/SiO2 composite membrane  moisture  transfiguration  resistivity
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