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| 薄膜光学 制膜技术与装置 | |
| 摘 要： | O484.12006010529低压反应离子镀方法制备ITO透明导电膜=Preparationof ITOfil ms by reactive lowvoltageion plating刊,中]/徐颖(中科院长春光机所光学技术研究中心.吉林,长春(130022)),高劲松…∥光学技术.—2005,31(5).—669-671使用一种不同于溅射方法的另一种制备工艺—低压反应离子镀方法制备ITO透明导电膜。实验对不同沉积速率和不同氧气流量对ITO透明导电膜的方块电阻以及光学透过率的影响进行了详细的分析,并综合比较得到了当沉积速率为0.5nm/s,氧气流量为24cm3/min时,在波长为550nm处,方块电阻为20Ω,λ=550nm,透过率为90… |
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