a-SiCx:H/nc-Si:H多层薄膜的室温时间分辨光致可见发光 |
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引用本文: | 王莉,赵艳娥,赵福利,陈弟虎,吴明姆.a-SiCx:H/nc-Si:H多层薄膜的室温时间分辨光致可见发光[J].发光学报,2004,25(6):696-700. |
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作者姓名: | 王莉 赵艳娥 赵福利 陈弟虎 吴明姆 |
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作者单位: | 中山大学,物理系,光电材料与技术国家重点实验室,广东,广州,510275;中山大学,化学与化工学院,广东,广州,510275 |
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基金项目: | 广东省自然科学基金资助项目(001911) |
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摘 要: | 在等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统中,通过控制进入反应室的气体种类逐层沉积非晶SiCx:H(a-SiCx:H)和非晶Si:H(a-Si:H)薄膜,然后经过高温热退火处理,成功制备了晶化纳米a-SiCx:H/nc-Si:H(多晶SiC和纳米Si)多层薄膜。利用截面透射电子显微镜技术分析了a-SiCx:H/nc-Si:H多层薄膜的结构特性。通过对晶化样品的时间分辨光致发光谱的研究,结果表明:随着退火温度的升高,发光峰位置开始出现一些红移现象:当退火温度为900℃时,样品的发光强度和发光衰减时间分别达到最大值和最小值;随着退火温度的继续升高,发光峰位置又开始出现蓝移现象。由此探讨纳米a-SiCx:H/nc-Si:H多层薄膜的发光特性和发光机理。
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关 键 词: | a-SiCx:H/Si:H多层薄膜 等离子体增强化学气相沉积 热退火 |
文章编号: | 1000-7032(2004)06-0696-05 |
修稿时间: | 2003年12月13 |
Time Resolution Photoluminescence of a-SiCx:H/nc-Si:H Multi-layers at Room Temperature |
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Abstract: | |
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Keywords: | |
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