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| 激光预处理ZrO2-SiO21064nm高反射膜的机理 | |
| 作者单位： | 中国科学院上海光学精密机械研究所,中国科学院强激光材料重点实验室,上海,201800;中国科学院研究生院,北京,100049;中国科学院上海光学精密机械研究所,中国科学院强激光材料重点实验室,上海,201800 |
| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划（863计划） |
| 摘 要： | 分析了激光预处理对ZrO2-SiO21064nm高反射膜激光损伤阈值以及引起损伤缺陷的影响。在以缺陷损伤阈值和缺陷密度表征缺陷的基础上,研究了预处理前后薄膜中引起损伤缺陷的变化情况。研究了激光预处理能量和预处理效果的关系。结果表明,激光预处理可以清除ZrO2-SiO21064nm高反射膜中低阈值的缺陷,但预处理能量密度较高时,可以使薄膜中高阈值缺陷转化成低阈值缺陷。因此扫描预处理应采用相对较低的能量密度。 |
| 关 键 词： | 激光技术 激光预处理 缺陷阈值 缺陷密度 ZrO2-SiO2 预处理效果 |
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